图1。CH 4 -N 2覆盖物的实验设置可在低压(18 MPa)和低144温度(256 K±4 K)条件下进行合成。杂质在连接到145冷却系统的高压高压灭菌器中合成。由控制气体混合控制台,热质量流量146控制器,手动球阀,螺线管阀和气动压缩机组成的多气体混合系统允许在N 2 -CH 4中制备14777777777均匀的反应气体混合物,范围为4 mol%CH 4至95 mol%CH 4。通过分析可覆盖分离的气相来确定148个组合物,这要归功于Rolsi Micro-Smpampler/Impotor的149个直接气体注射到与热150电导率检测器(GC-TCD)相连的气相色谱仪的直接气体注入。151 152
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