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e5610是蒙版DR-SEM 1）用于审查和分类的摄影和空白中的超小缺陷。E5610继承了由最有价值的MVM-SEM®开发的高度稳定，完整的自动捕获技术，可轻松从蒙版检查系统中导入缺陷位置数据，并自动映像位置。 此外，它具有新开发的梁倾斜机制，可在倾斜角度进行扫描，而EDS 2）进行元素分析的模块。 具有高临界性，高通量缺陷审查能力，E5610有望有助于下一代照片生产质量改进和较短的制造业。E5610继承了由最有价值的MVM-SEM®开发的高度稳定，完整的自动捕获技术，可轻松从蒙版检查系统中导入缺陷位置数据，并自动映像位置。此外，它具有新开发的梁倾斜机制，可在倾斜角度进行扫描，而EDS 2）进行元素分析的模块。具有高临界性，高通量缺陷审查能力，E5610有望有助于下一代照片生产质量改进和较短的制造业。
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