项目的范围ISBA项目ISBA(基于气凝胶的绝缘解决方案),在Horizon 2020框架下资助,欧洲领先的研究小组开发了基于Aerogel的热隔绝缘解决方案,用于用例,从卫星到发射车辆到重新输入车辆,这些车辆由最终用户Thales Aleania Space和Ariane Group提出。应用程序分为两类:低到中等温度的应用和高温应用。气凝胶是极轻的纳米多孔材料,孔隙率高达99.98%,导致散装密度,热导率和声速非常低。基于无机和混合气凝胶和气凝胶复合材料以及基于聚酰亚胺的多层绝缘型(MLIS)的替代方案(MLIS)将用于低到中等温度的应用,而基于碳凝胶的溶液将开发出基于多层层的替代方案(MLIS),而将开发基于碳凝胶的溶液以及其他混合空气凝胶组合以及用于高温应用的溶液。
NITK SURATHKAL 自 1960 年成立以来,卡纳塔克邦国立技术学院 (NITK),Surathkal 已经成为一所提供优质技术教育和支持研发活动的顶尖机构。印度政府根据 2007 年 NIT 法案第 29 号授予 NITK 国家重要机构地位,并一直被评为印度十大技术机构之一。目前,NITK 提供 9 个学士学位、28 个硕士学位和博士学位课程。该学院位于芒格洛尔市以北 22 公里处,沿着 66 号坎亚库马里-孟买国家公路,占地 300 英亩,周围森林密布,东面是风景如画的西高止山脉,西面是阳光普照的阿拉伯海沙滩。NITK 致力于提高人力资源的能力和潜力,目标是将他们培养成各自领域的领导者。我们的愿景是追求卓越,在技术教育方面具有全球竞争力,并专注于知识的吸收、生成和传播。 为期一年的活动展示了 NITK 在其各个活动领域的辉煌贡献,并预测了未来几年的新举措。 NITK 中央研究中心
Birla技术与科学研究所(BITS)PILANI是全印度高等教育研究所。 BITS PILANI在福特基金会(Ford Foundation)赠款下与麻省理工学院(美国)建立了强有力的技术合作,已演变为印度领先的高等教育研究所,其杰出的遗产,现代校园和出色的安置记录为特色。 该研究所致力于卓越,遵守优异,透明,创新和企业的承诺一直是其旅程的标志。 Pilani除了皮拉尼(Pilani)外,还有迪拜,海得拉巴,果阿和孟买的校园。 这些扩展巩固了Pilani作为主要教育机构的声誉。 过去六十年来对皮拉尼(Pilani)的位置非常出色,在研究,教学和促进企业家精神方面取得了明显的开创性成就。 一些里程碑和关键成就包括:Birla技术与科学研究所(BITS)PILANI是全印度高等教育研究所。BITS PILANI在福特基金会(Ford Foundation)赠款下与麻省理工学院(美国)建立了强有力的技术合作,已演变为印度领先的高等教育研究所,其杰出的遗产,现代校园和出色的安置记录为特色。该研究所致力于卓越,遵守优异,透明,创新和企业的承诺一直是其旅程的标志。Pilani除了皮拉尼(Pilani)外,还有迪拜,海得拉巴,果阿和孟买的校园。这些扩展巩固了Pilani作为主要教育机构的声誉。过去六十年来对皮拉尼(Pilani)的位置非常出色,在研究,教学和促进企业家精神方面取得了明显的开创性成就。一些里程碑和关键成就包括:
DR。新德里教授ICGEB的Dinesh Gupta。安德鲁·林恩(Andrew M. Lynn),jnu,新德里教授新德里博士JNU的Shandar Ahmad Shailesh Kumar,NIPGR,新德里博士新德里IIIT德里的Tavpritesh Sethi Vineet K. Sharma,Iiser,Bhopal。 DR。 Avinash Mishra,GrowDEA Tech。 Pvt Ltd。博士Vipin Singh,Ed Tech Dr. Ankit Rajpal,DU,新德里博士Khalid Raza,JMI,新德里博士Madhu Chopra,Acbr,du Dr.莫德。 Shoaib Khan,Acbr,Du Dr。 Prakash JHA,ACBR,DUDR。新德里教授ICGEB的Dinesh Gupta。安德鲁·林恩(Andrew M. Lynn),jnu,新德里教授新德里博士JNU的Shandar Ahmad Shailesh Kumar,NIPGR,新德里博士新德里IIIT德里的Tavpritesh Sethi Vineet K. Sharma,Iiser,Bhopal。DR。 Avinash Mishra,GrowDEA Tech。 Pvt Ltd。博士Vipin Singh,Ed Tech Dr. Ankit Rajpal,DU,新德里博士Khalid Raza,JMI,新德里博士Madhu Chopra,Acbr,du Dr.莫德。 Shoaib Khan,Acbr,Du Dr。 Prakash JHA,ACBR,DUDR。 Avinash Mishra,GrowDEA Tech。Pvt Ltd。博士Vipin Singh,Ed Tech Dr. Ankit Rajpal,DU,新德里博士Khalid Raza,JMI,新德里博士Madhu Chopra,Acbr,du Dr.莫德。Shoaib Khan,Acbr,Du Dr。 Prakash JHA,ACBR,DU
关键AI首字母缩写AI-人工智能:旨在模仿人类智能ML的系统 - 机器学习:从数据中学习的系统DL-深度学习 - 具有多层NLP的复杂神经网络NLP- NLP-自然语言处理:与人类语言的AI系统:使用人类语言CNN -CNN -CNN -CNNN - 卷积神经网络 - 卷积神经网络:用于数据rnn -Neural网络 - 统一性神经网络:该网络 - 统一性神经网络:conter rn n l l l l l l l l l l l l l l l l l l l l l l l l l l l ll ll ll ll ll ll ll ll ll ll ll ll s and:在庞大的文本数据集上训练的系统 - 人工通用智能:假设AI匹配所有领域的人类水平认知
† 范围:从天然气 (NG) 生产 H2,在当今 (2018 年) 的加氢站 (~180kg/d) 进行分配 * 范围:假设大批量生产 1) H2 生产成本从 2 美元/千克 (NG) 到 5 美元/千克 (电解法以 700 MW/年生产),以及 2) 交付和分配成本从 3 美元/千克 (先进管道拖车) 到 5 美元/千克 (液体油轮或先进管道技术)。** 范围假设有 >10,000 个加氢站,日产能为 1,000 千克,为 1000 万辆汽车提供服务
高Na EUV扫描仪的引入预计会导致EUV面罩和相关设备的结构发生许多变化。具体来说,用于高NA面膜的新材料可以增强EUV面膜性能,并且EUV颗粒正在基于CNT膜积极改进。此外,针对高NA口罩的测量和检查(MI)技术面临着挑战性的情况,许多公司正在开发新的解决方案。在本演讲中,我们将展示我们目前在高NA EUV面具和相关设备方面的成就。介绍作者in-Yong Kang获得了他的博士学位。D. 2008年汉阳大学材料科学与工程学的学位。他于2008年开始在三星电子产品开始,并从事与EUV面罩开发有关的各种主题。他目前正在Mask Development Team的高级技术集团小组负责人工作,专注于新的EUV材料和设备,用于高NA面具。