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氮化壳(GAN)底物预计将用于功率半导体,下一代电动汽车和5G作为材料中,该材料可与硅基设备相比,具有更快的运行且电阻率更低的超高效率设备。通过我们新开发的酸性氨热技术“ SCAAT TM”,与常规的GAN底物生产方法相比,我们的质量水平更高。此外,为了提高生产率,我们与Tohoku University和Japan Steel Works有限公司(JSW)合作开发了低压酸氨油技术。从2021年5月开始,我们一直在使用JSW共同进行新的,生产力改良的“ SCAAT TM -LP”制造技术对GAN基板质量生产进行示范测试,并计划在2023财年下半年开始提供样品。