XiaoMi-AI文件搜索系统
World File Search System低温处理
粉末范围 15-5PH
PowderRange 15-5PH 不锈钢是一种类似于 17-4PH 的马氏体沉淀/时效硬化不锈钢，具有更高的强度和硬度，以及出色的耐腐蚀性，最高可达 600°F (316°C)。它具有良好的制造特性，可以使用单步低温处理进行时效硬化，可以选择该处理来实现特定的强度和韧性组合。由于这种性能和 AM 易用性的平衡组合，15-5PH 不锈钢已用于各种增材制造应用，包括快速模具、几乎每个市场的功能组件和原型制作。
PowderRange 17-4 AR
PowderRange 17-4 AR 不锈钢是一种马氏体沉淀/时效硬化不锈钢，具有高强度和硬度，以及出色的耐腐蚀性，最高耐高温可达 600°F (316°C)。它具有良好的制造特性，可以通过单步低温处理进行时效硬化，可以选择该处理来实现特定的强度和韧性组合。由于这种性能和 AM 易用性的平衡组合，用于增材制造的 PowderRange 17-4 AR 已用于各种应用，包括几乎每个市场的快速模具功能组件和原型设计。
获取和热塑性粘合剂选择器指南
专门为电子组件组件设计；多层焊剂是无铅的，没有干净且环保的导电胶。量身定制的流变学允许多种应用方法，包括丝网印刷，模板打印或分配。多层焊剂通过IR，会议或盒子烤箱设备中的热处理键合。能够以大量应力吸收特性实现低温处理和快速键合。Polystolder是一种独特的填充银聚合物矩阵，即使经过广泛的环境老化，也会形成具有标准组件和基板的稳定电气和机械连接。
成年蜜蜂的蘑菇体发育和学习能力受到蛹期早期寒冷暴露的影响
蜜蜂是农作物和新鲜农产品生产中最重要的传粉昆虫。温度影响蜜蜂的存活，决定其发育质量，对养蜂生产意义重大。但对于发育阶段的低温应激如何导致蜜蜂死亡以及对后续发育产生什么亚致死影响知之甚少。早期蛹期是蛹期对低温最敏感的阶段。在本研究中，早期蛹虫分别暴露在20°C下12、16、24和48小时，然后在35°C下孵化直至羽化。我们发现48小时的低温持续时间导致70％的蜜蜂个体死亡。虽然12和16小时的死亡率似乎不是很高，但幸存个体的联想学习能力受到很大影响。蜜蜂脑切片显示低温处理可以导致蜜蜂大脑发育几乎停止。低温处理组（T24、T48）与对照组的基因表达谱显示，分别有1,267个和1,174个基因发生差异表达。差异表达基因功能富集分析表明，MAPK和过氧化物酶体信号通路上Map3k9、Dhrs4、Sod-2基因的差异表达对蜜蜂头部造成了氧化损伤；在FoxO信号通路上，InsR和FoxO基因上调，JNK、Akt、Bsk基因下调；在昆虫激素合成信号通路上，Phm和Spo基因下调。因此，我们推测低温应激影响激素调控。检测到与神经系统相关的通路有胆碱能突触、多巴胺能突触、GABA能突触、谷氨酸能突触、5-羟色胺能突触、神经营养素信号通路和突触小泡循环。这意味着蜜蜂的突触发育很可能受到低温应激的重大影响。了解低温应激如何影响蜜蜂大脑发育的生理及其如何影响蜜蜂行为，为更深入地理解社会性昆虫“恒温”发育的温度适应机制提供了理论基础，并有助于改进蜜蜂管理策略以确保蜂群的健康。
SiO2胶片由APCVD带有Teos/ozone ...
二氧化硅SIO 2薄膜使用大气压化学蒸气沉积APCVD与四乙基硅酸盐Teos和臭氧O 3作为反应剂气体。这些纤维用作低温多晶型甲甲硅硅LTP薄膜晶体管TFTS的栅极介电。O 3气体而不是氧气O 2气体，因为后者与LTPS TFT的低温处理不兼容。SiO 2在低温下沉积的纤维纤维对栅极绝缘体材料所需的Si – OH含量和电性能低。尽管使用APCVD沉积的低成本SIO 2纤维制造了LTPS TFT，但制造的设备表现出49 cm 2 / v s的效果迁移率和490 mv / dec的subs Thresshord Swist。结果表明，APCVD用TEOS和O 3沉积的SIO 2是一种有前途的材料，用于低成本和高质量的LTPS TFTS。©2009电化学学会。doi：10.1149/1.3267039保留所有权利。
使用水和基于丁醇的氧化锡分散液的钙钛矿太阳能电池的电子传输层的插槽涂层
载体选择性ETL和HTL对于提取和运输电荷至关重要，同时最大程度地减少了界面电荷重组。在配置的钙钛矿太阳能电池中，钙钛矿层沉积在ETL层的顶部。9因此，ETL层的质量和特性直接影响光吸收钙钛矿层的性质。因此，开发和优化ETL层已成为研究的热门话题。最初，由于其合适的光电特性，TIO 2被广泛用作钙钛矿太阳能电池中的电子传输层。然而，它具有卵形照明下的光催化特性，需要大约500 1 c的高温退火以实现适当的结晶度，从而使该材料不适合用于PSC的升级和商业化。3,10–12为了克服这些缺点，已经研究了替代的N型金属氧化物，应允许低温处理，成本较低，应提高稳定性。13–17
SPIE 会议纪要
ZnMgO 固溶体体系之所以受到关注，是因为通过改变其成分可以调整许多重要的物理特性。该合金体系在室温下覆盖了直接带隙 3.36 eV（ZnO）和 7.8 eV（MgO）之间的宽紫外 (UV) 光谱范围，因此对短波长光学应用非常有吸引力，例如紫外探测器 [1-3] 和光发射器 [4-6]。Zn 1-x Mg x O 体系 [7,8] 通过调整体系中的成分（x 参数值），可以模拟宽光谱范围内的光学、发光和光电特性。通过改变成分，可以生产用于短波长 UV-A（320-400 nm）、UV-B（280-320 nm）和 UV-C（200-280 nm）辐射的装置 [9,10]。这些材料的纳米结构化，特别是纳米结构薄膜的生产，是模拟特定性能的另一个元素。各种技术已用于制备 ZnMgO 薄膜，如脉冲激光沉积 (PLD) [11]、等离子体增强原子层沉积 (PE-ALD) [12]、热液 [13]、化学浴沉积 (CBD) [14]、射频等离子体辅助分子束外延 (RF-MBE) [15-18]、DC [19, 20] 和 RF [21-23] 磁控溅射、化学气相沉积 (CVD) [24]、金属有机化学气相沉积 (MOCVD) [25, 26]、气溶胶沉积 [27-31] 和溶胶-凝胶旋涂 [30, 32-35]。气溶胶沉积法具有易于控制和处理化学品和基材以及对化学计量具有出色控制的优点。由于采用非真空设备、低温处理、低缺陷密度和低环境影响，该方法适合于以更快的速度和低成本制备高质量大面积薄膜。该方法可以在相当短的时间内沉积薄膜，易于掺杂，并制备具有良好电学和光学性质的均匀薄膜。