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EMLC 2024 - 在格勒诺布尔举行的“欧洲掩模和光刻会议”
与往常一样，主题演讲概述了半导体行业以及相关微纳米技术领域的发展方向和趋势。去年的重点是限制当前和未来人工智能应用的过度能耗，而 Serge Nicoleau（意法半导体）的主题演讲将这一主题扩展到半导体行业工艺的总体可持续性，即减少资源消耗并日益避免使用有毒或对环境有害的物质，如 PFAS（所谓的永恒化学物质）。Kagawa-san（佳能）、Sebastian Dauvé（CEA-LETI）和 Kurt Ronse（IMEC）的其他主题演讲涉及纳米压印光刻的现状和前景、CEA-LETI 的半导体研究计划（FAMES）和 EUV 光刻。 Kurt Ronse 的贡献尤其预测了到 2040 年纳米技术的预期发展。虽然半导体行业的领先公司即将推出具有技术节点 N2 的高端工艺（例如，最密集布线层的导体轨道宽度约为 11nm），但节点 A1 中只能实现约 6nm（！）的线宽（根据 2040 年的当前路线图）。
全力关注太空：蔡司 SMT 收购 RUAG International 的光刻业务
RUAG International 和 ZEISS SMT 已签署收购光刻部门的合同，包括与位于瑞士苏黎世和德国科斯维希的两个生产基地相关的所有员工和资产。“自 2001 年以来，我们就一直在光刻应用方面积累经验，并与我们的主要客户 ZEISS SMT 成功合作。2022 年 10 月将光刻部门作为独立实体成立是一项战略举措，旨在巩固我们的市场地位，同时继续作为独立的单一来源供应商为 ZEISS SMT 生产专用组件。今天，我为我们的光刻团队所取得的成就感到无比自豪，”RUAG International 首席执行官 André Wall 说道，并总结道，“ZEISS SMT 拥有卓越的市场地位。有了新的所有权，我们为光刻部门提供了理想的环境，以进一步发展我们多年来积累的卓越能力。”
高分辨率运动型X射线光学器件通过405 nm 3D激光光刻
X射线的有效聚焦对于高分辨率X射线显微镜至关重要。称为运动型的衍射X射线光学在理论上提供了最高的焦点效率。但是，由于它们的纳米制作，它们长期以来一直无法使用。最近，使用3D激光光刻在近红外波长下实现了包括运动型在内的各种X射线光学几何形状。由于运动型的最小特征（周期）决定了解决能力，因此有一种自然的动力来寻找用较小特征的kino形式制造的kino形式。在这里，使用具有405 nm的激发波长的定制3D激光光刻设置，与以前的工作相比，它允许将运动型的最小时期一半。在扫描传输X射线显微镜图像分辨率方面提高了40％，即145 nm的截止分辨率，在700 eV时效率为7.6％。通过磁性样品的PtyChographic Imageing证明了一个重建的像素大小为18.5 nm，达到了显微镜设置的设计极限，该磁性样品的对比度强烈降低。此外，由405 nm 3D激光光刻制造的X射线镜头有可能比其他手段制成的X射线镜头便宜得多。
利用声泳和立体光刻技术实现的各向异性导热复合材料
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新型深紫外微型 LED 阵列推动无掩模光刻技术发展
光刻技术在集成电路芯片制造中发挥着至关重要的作用，是半导体和微电子工业的关键核心技术之一。20世纪90年代以来，低成本、高分辨率无掩模光刻系统成为先进光刻技术研究的热点。然而，该项前沿技术的专利主要掌握在欧洲、美国、日本和韩国手中，技术壁垒较高。
碳涂层对锂离子微生物阳极的光刻结构的SI纳米线的性能
生物多样性保护长期以来一直被认为是一种全球商品，那些最不能力承担成本1的人不应为此支付，其成功依赖于改善当地生计的人2。概述反映了这一信念。，尽管政策和言辞，但几乎没有证据表明保护区对当地社区的福利（尤其是在全球南方）的福利持续了净积极影响。尽管在国家和全球量表3上与受保护区相关的生物多样性和气候结果的奖学金存在相对较少的奖学金。在此问题上，三本全球合成论文4 - 6，提出了不确定的结果，并在证据基础中揭示了方法论弱点：Pullin等。4确定了一系列可能影响的途径，但很少发现严格的证据。 Kandel等。6发现了积极结果的证据，但报道说，更高质量的研究和非洲的研究较少识别积极影响。和Naidoo等。5发现保护区与人类福祉之间存在正相关 - 但是，这种关联对较长的保护区更为负面，作者无法建立因果关系。这些全球综合文件并不排除受益于当地人民的保护区的可能性，但证据的性质排除了公司的结论。缺乏明显的益处是因为许多案例研究表明了负面影响和侵犯人权1、7，并且由于保护区通常位于贫困高的地区8。在30年的时间里，我们自己在马达加斯加的工作表明，保护区可以承担大量的地方成本，他们无法补偿7、9（方框1）。
通过立体光刻技术含有聚合物纳米复合材料的银纳米颗粒的一步制备
引言湿地鸟类在湿地生态系统中起着重要作用。湿地鸟是野生动植物的重要组成部分，它们的发生和分布是了解湿地栖息地的整体情况的重要现象。鸟类是环境变化的最佳指标之一。任何形式的生态系统中鸟类的种群显示了该地区的环境质量，污染水平，安全性以及食物和栖息地的可用性。根据Rathore和Sharma（2000）的说法，湖中或附近的鸟类受到多种因素的影响，例如污染，人类活动的干扰以及缺乏水体维护。 大多数鸟类都有从季节到季节的特定栖息地要求，这可能导致它们的灭绝（Chauhan等，2008）。 在印度发现的1340种鸟类（Ali and Ripley，1987; Manakandan and Pittie，2001），已知大约310种依赖于湿地（Kumar等，2005）。 fulåll，水鸟的栖息地要求是湿地最重要的功能之一。 与栖息地丧失相关的人为栖息地的丧失，而不是与人类活动的任何其他方面，例如使用农业农药，小袋和狩猎或人口密度。 在世界各地，人们对水鸟类及其湿地栖息地的保护越来越兴趣。 由于某些环境变化和人类活动，这些栖息地处于压力下（Turner等人。 2000; Froneman等。 2001）。 印度估计有约5820万公顷的湿地（Prasad等人根据Rathore和Sharma（2000）的说法，湖中或附近的鸟类受到多种因素的影响，例如污染，人类活动的干扰以及缺乏水体维护。大多数鸟类都有从季节到季节的特定栖息地要求，这可能导致它们的灭绝（Chauhan等，2008）。在印度发现的1340种鸟类（Ali and Ripley，1987; Manakandan and Pittie，2001），已知大约310种依赖于湿地（Kumar等，2005）。fulåll，水鸟的栖息地要求是湿地最重要的功能之一。与栖息地丧失相关的人为栖息地的丧失，而不是与人类活动的任何其他方面，例如使用农业农药，小袋和狩猎或人口密度。在世界各地，人们对水鸟类及其湿地栖息地的保护越来越兴趣。由于某些环境变化和人类活动，这些栖息地处于压力下（Turner等人。2000; Froneman等。2001）。印度估计有约5820万公顷的湿地（Prasad等人2002）。 这些湿地中的许多分布在印度倾向平原周围。 由不同类型的经济发展和相关活动引起的许多直接和间接压力对这些湿地产生不利影响2002）。这些湿地中的许多分布在印度倾向平原周围。由不同类型的经济发展和相关活动引起的许多直接和间接压力对这些湿地产生不利影响
采用生物可吸收氨基酸基树脂进行 3D 多光子纳米光刻
摘要：我们证明，新设计的含有聚合用乙烯基反应基团的氨基酸磷二酰胺树脂 (APdA) 可用于通过 3D 多光子光刻制造亚 100 纳米结构。我们使用原子力和单分子荧光显微镜定量分析了纳米结构的特征尺寸、杨氏模量和功能化。我们的结果表明，由缬氨酸或丙氨酸组成的聚合物主链赋予单体疏水性，将聚合物纳米结构在水环境中的膨胀限制在 8% 以内。尽管膨胀很小，但实验表明，在干燥和潮湿条件下，杨氏模量变化高达 10 倍。为了增强基于 APdA 的结构的多功能性，我们加入了生物素功能化并将其用于固定细胞外囊泡。因此，这些发现凸显了基于 APdA 的纳米光刻光刻胶在生物医学和纳米技术应用方面的潜力。
来自极端紫外线（EUV）光刻工作组的报告：当前状态，需求和前进
这是2023年4月25日在Boulder的美国国家标准技术研究所（NIST）举行的混合工作组会议的报告。工作组专注于极端的紫外线光刻（EUVL）研究，开发和制造。会议允许就EUVL的许多技术方面进行有效的讨论。行业参与者进行了演讲，这些演讲有助于将本报告的概述告知科学的现状，挑战，需求和未来在EUVL加速创新的机会。该报告还包括有关NIST的一些努力的信息，这些努力可以开始或继续支持美国半导体行业。在工作组会议上凝聚力介绍了NIST的一些研究和能力，为外部利益相关者提供了知名度和发表评论的机会。这次会议对于学习NIST的研究能力的行业参与者很有见识。反过来，NIST的研究人员对行业的需求有了更深入的了解，以确定NIST的计量专业知识可以帮助进行EUVL研究。会议和本报告并非也不是要捕捉EUVL行业的整个观点，而是作为讨论起点。未来的工作包括扩大参与度，磨练NIST研究子组满足EUVL的特定需求，并执行在工作组会议或任何未来会议中讨论的优先研究。通过与美国EUVL行业的参与，希望创建有针对性的研究合作，加快半导体制造创新并为美国纳税人带来有意义的价值。
R58E_48_FEATURE ARTICE_FRAN ADAR invertau 用荧光-QM 的时间分辨电致发光 使用拉曼光谱法的化学机械抛光（CMP）浆料中常见成分的定量分析
subμm光刻发展至少可以追溯到1983年，并于1986年进行了审查，当时该领域仍处于大学研究状态[2]。目标是实现具有尖锐侧壁的二维模式，其尖锐的侧壁明显小于常规光学方法的可能性，这些光学方法被光的波长确定和限制。不仅考虑了光孔构成重要的方法，而且还考虑了光孔本身产生所需模式的能力。在上述出版物中回顾了几种用于生成光刻图像的方案 - 光影影像学，接触光刻，全息光刻，电子束光刻，X射线光刻和离子光刻。强度降解