尽管干涉方法(例如WLI和PSI)在粗糙的表面上产生良好的结果(请参见图5下一页),但它们并不适合每个应用程序。例如,诸如干扰过滤器中使用的涂层可以引入相变形或额外的干扰条纹,从而导致结果不准确。包含具有非常不同光学特性的区域的样品也会产生测量误差。在宽波长范围内具有高传输的涂层,例如反射性涂料,可能无法充分反映出良好的测量。动态范围限制也是高度弯曲表面或具有急剧变化的表面的考虑。具有PSI,高度变化大于相邻像素之间的几百纳米可能会导致测量问题。
基于空腔的X射线自由电子激光器(CBXFEL)是完全相干X射线源开发的未来方向。cbxfels由一个低射精的电子源,一个带有几个失调器和chicanes的磁铁系统以及一个X射线腔。X射线腔存储并循环X射线脉冲,以与电子脉冲重复相互作用,直到FEL达到饱和。CBXFEL腔需要低损坏波前的光学组件:接近100%的反射性X射线钻石钻石bragg反射晶体,远对偶联设备,例如薄钻石膜或X射线膜,以及无X射线光栅,以及不含焦点的聚焦元素。在Argonne国家实验室,SLAC国家加速器实验室和Spring-8的协作CBXFEL研究与开发项目的框架中,我们在这里报告了CBXFEL腔的X射线光学组件的设计,制造和表征,包括高度反射性的钻石晶体液体,包括钻石晶体的薄膜和薄膜液体,包括imondivelivity单色。所有设计的光学组件都在高级光子源上进行了充分表征,以证明其对CBXFEL腔应用的西装。
尚未内置在硅IC中的一种光学组件是一种引人注目的高性能硅激光器。已经有几次尝试从硅中制造激光的尝试,但是尚未证明没有技术在商业上可行。唯一的解决方案是使用INP EEL。
• 研究与开发。用于科学研究的设施。此用途包括在产品制造之前设计、开发和测试生物、化学、电气、磁性、机械和/或光学组件。允许为研究和开发目的进行制造和生产。不允许大规模生产、制造或加工产品。
长期销售商品和稳定,在敏感成型方面享有较高的声誉,例如光学组件高成本性能类型:pal NEO具有高磨损抵抗性能和高成本性能高磨损和腐蚀性抗性类型:h60 NEO&h70 NEO&h70 NEO&h70 NEO高磨损耐药性,可通过Alloy Layer in Alloy Lays in Alloy Lays
HQS量子模拟代表了数量模拟的新时代。我们利用量子力学开发先进工业应用的潜力。我们的软件解决方案基于创新方法,以在量子级别进行精确有效的材料预测和分析。HQS软件用于制药和化学工业以及量子计算机,传感器,光学组件和激光应用的开发和研究。