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World File Search System光干涉
利用激光干涉仪空间天线进行宇宙学研究
E-ELT 欧洲极大望远镜 EFT 有效场论 EM 电磁 EMRI 极端质量比螺旋 EoS 状态方程 ET 爱因斯坦望远镜 EWPT 电弱相变 FLRW 弗里德曼-勒梅特-罗伯逊-沃克 FOPT 一级相变 GB 银河双星 GW 引力波 GR 广义相对论 IMBBH 中等质量双黑洞 IMS 干涉计量系统 IR 红外线 KAGRA 神冈引力波探测器 KiDS 千度巡天 K CDM 宇宙常数加冷暗物质 LIGO 激光干涉引力波天文台 LISA 激光干涉仪空间天线 LSS 大尺度结构 MBBH 大质量双黑洞 MBH 大质量黑洞 MCMC 马尔可夫链 蒙特卡罗 MHD 磁流体动力学 NG 南部后藤 PBH 原始黑洞 PISN对不稳定超新星 PLS 幂律敏感性 ppE 参数化后爱因斯坦 PTA 脉冲星计时阵列 RD 辐射主导 QCD 量子色动力学 SGWB 随机引力波背景 SKA 平方公里阵列 SM 粒子物理标准模型 SNR 信噪比 SOBH 恒星起源黑洞 SOBBH 恒星起源双黑洞 TDI 时域干涉测量 UV 紫外
在空间中使用激光干涉仪在激光上检测到超轻的暗物质
超薄暗物质（ULDM）是领先的良好动机候选者之一，在粒子物理学和宇宙学标准模型之外，许多理论中都预测了这些候选。在物理和天文实验中搜索ULDM的兴趣越来越多，主要假设ULDM和正常物质之间还有其他相互作用。在这里我们证明，即使ULDM仅具有重力相互作用，它也应引起太阳系中的引力扰动，该引力扰动可能足够大，可以在未来的重力波（GW）激光干涉仪中引起可检测的信号。我们研究了米歇尔森时间 - 时间延迟干涉仪对各种自旋的ULDM的敏感性，并通过针对μHz频率的空间基GW检测器来探测具有质量m mass10-18 eV的向量ULDM。我们的发现表明，GW检测器可能会直接探测一些质量范围，否则否则挑战了。
银河轴激光干涉仪利用电 -
现代物理学中暗物质（DM）的性质仍然难以捉摸。良好动机的DM候选者是光玻色粒颗粒。QCD轴是DM [1-5]的可行候选者，除了解决了强大的CP问题[6-8]。轴突样伪级颗粒[4,5]（QCD轴的广义形式）和矢量颗粒（例如，暗或隐藏的光子）[9,10]是同样动机的DM候选者。这样的新粒子通常抑制了与标准模型的相互作用，但是可以将其用于在实验室中搜索它们[10-15]。Light DM也称为波浪状，与较重的尤其型DM候选相反。由于银河尺度上此类颗粒的占用人数很高，因此光DM表现为经典波。这样的DM背景可以建模为经典的随机场A 0cosðΩTÞK·xÞd[16]，其中一个0¼的效果ρDMP = m DM是由DM密度ρDM和质量M DM给出的场振幅； j kj≃mdm v是波数； ϕ是一个随机阶段。随机场的振荡的特征频率主要由DM质量给出，并以动力学的校正为ω≃Mdm m m dm v 2 = 2，其中v〜10-3是银河系中的病毒速度。因此，光DM场在空间分离上是连贯的λc〜ðm dmvÞ -1和在天然planck单元中表达的时间尺度τc〜ðm dm v 2 - 1 [17]。正在进行几个实验程序，或提出了用于探测光DM的参数空间，并使用
在量子计算机上建立量子光干涉模型
光子器件的建模传统上涉及求解光与物质相互作用和光传播方程。在这里，我们通过使用量子计算机重现光学器件功能来演示一种替代建模方法。作为说明，我们模拟了光在薄吸收膜上的量子干涉。这种干涉可以导致光在薄膜上完全吸收或完全透射，这种现象引起了经典和量子信息网络中数据处理应用的关注。我们将干涉实验中光子的行为映射到 transmon 量子态的演化，transmon 是 IBM 量子计算机的超导电荷量子位。真实光学实验的细节在量子计算机上完美再现。我们认为，这种方法的优越性将在复杂的多光子光学现象和器件建模中得到体现。
采用螺旋激光干涉曝光法的大面积无缝纳米图案圆柱模具制造系统
摘要 随着纳米技术领域的进步，纳米图案化不仅在高附加值产品中得到广泛应用，而且在廉价产品中也得到广泛应用。此外，大规模生产廉价产品所需的技术，如连续卷对卷 (R2R) 工艺，正在迅速兴起。人们对亚微米和纳米模具的制造进行了广泛的研究。在这项研究中，我们提出了一种激光干涉曝光来制造可用于连续卷对卷图案化的纳米图案圆柱形模具。此外，我们还展示了使用棱镜在圆柱体（长度为 300 毫米，直径为 100 毫米）上制造无缝图案的螺旋曝光工艺。使用 UV 树脂将图案转移到平面模具上，并使用场发射扫描电子显微镜进行测量；测量结果显示图案均匀，具有纳米图案线宽（75 纳米）和亚微米周期（286 纳米）。观察结果表明，使用激光干涉光刻制造卷模的方法是一种快速可靠的无缝图案化方法。
通过直接激光干涉图案化对钠钙玻璃进行微加工和表面功能化
摘要：多功能玻璃因其出色的机械、光学、热学和化学性能组合而在许多成熟和新兴行业中很常见，例如微电子、光伏、光学元件和生物医学设备。通过纳米/微图案化进行表面功能化可以进一步增强玻璃的表面特性，将其适用性扩展到新的领域。尽管激光结构化方法已成功应用于许多吸收材料，但透明材料在可见激光辐射下的可加工性尚未得到深入研究，尤其是对于生产小于 10 µ m 的结构。在这里，基于干涉的光学装置用于通过可见光谱中 ps 脉冲激光辐射的非线性吸收直接对钠石灰基板进行图案化。制作的线状和点状图案具有 2.3 至 9.0 µ m 之间的空间周期和高达 0.29 的纵横比。此外，在这些微结构中可以看到特征尺寸约为 300 nm 的激光诱导周期性表面结构 (LIPSS)。纹理化表面显示出显著改变的特性。也就是说，经过处理的表面具有增强的亲水行为，在某些情况下甚至达到超亲水状态。此外，微图案充当浮雕衍射光栅，将入射光分成衍射模式。优化了工艺参数，以产生具有超亲水特性和衍射效率超过 30% 的高质量纹理。
高精度激光干涉仪反馈系统
为了进行补偿，RCU10 单元将编码器提供的正交输入转换为“分辨率单位”计数脉冲和相关方向（上/下线）。随后是数字缩放电路，允许更改有效分辨率，从而将激光波长相关单位转换为更标准的工程单位。（例如，在机床应用中，633 nm 通常转换为 1 µm。）缩放电路之后，注入器装置允许将“分辨率单位”脉冲添加或减去计数脉冲流。通过缩放和“分辨率单位”脉冲注入的组合来实现补偿。将这些校正应用于反馈后，将其转换为数字正交或模拟正弦/余弦并发送到控制系统。整个过程的延迟小于 2 µs。