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1离子交换膜的概述
离子交换膜（IEM）通常由疏水聚合物基质和离子基组组成，可以根据移植到膜矩阵中的离子基团的类型分类为阴离子交换膜（AEM）和阳离子交换膜（CEMS）。cems用负电荷的组固定（–so 3 - ，–coo-等）进行阳离子但排斥阴离子，而AEM含有带正电荷的组（–NH 3 +，–NRH 2 +，–NR 2 H +，–NR 3 +，PR 3 +，–sr 2 +等。），允许阴离子的渗透，但延迟阳离子[1，2]。IEM的典型聚合物体系结构如图1.1a所示，而典型组如图1.1b所示[3]。根据离子基与聚合物基质的联系，IEM也可以归类为均质和异质膜。在均匀的膜中，带电的组化学键合膜基质，在异质膜中，它们与膜基质物理混合[4]。还有许多其他分类方法，总而言，我们提供了表1.1，列出了IEM的主要类别[5]。
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图1。A）在PT/INGA/N -SI/SIO/SIO X/PT下，AO-ECL发射（AO-ECL）的方案是由EXC光子吸收触发的。b）电荷传输机制的方案，导致可见的440-nm光子在固体界面处产生。c）在PT/INGA/INGA/N -SI/SIO X/PT（CYAN曲线）和电解质吸收（灰色曲线）时，在PT/INGA/N -SI/N-SIO/SIO X/PT（灰色曲线）时，在PT/INGA/N -SI/N-SI/N-SIO/SIO X/PT（灰色曲线）处的IR 850 nm LED（棕色曲线）的归一化光谱。si bandGap由虚线的黑线表示，由AO-ECL诱导的波长的移位由红色箭头表示。d）N -Si/Sio X的XPS调查光谱，在涂层之前（橙色曲线）和N -SI/SIO X/PT的N -Si/Sio X/PT，在溅射2 nm厚的PT膜（粉红色曲线）后。
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