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加入PSCI（药物供应链计划）
https://www.kyowakirin.co.jp/sustainals/qustuality_supcurring/tdex.htmclhttps://www.kyowakirin.co.jp/sustainals/qustuality_supcurring/tdex.htmcl
2025年的餐饮业趋势
2025年的餐饮业有望看到新产品和地点的增长，但担心通货膨胀恐惧和加盟成本上升的成本构成挑战。数字支持，菜单调整和积极的工作文化是关注的关键领域。财务转型，AI采用，网络安全和数据隐私也是重要的考虑因素。最近总统选举对经济政策和法规的影响是该行业的关注点。
海军预备役（先前服役）
海军预备役提供丰厚的薪水和额外的退休积分等各种福利。它让您可以享受以前服役时获得的许多相同的财务、健康、教育和旅行福利。此外，加入后您还可以获得 5,000 至 20,000 美元的潜在加盟奖金。请联系海军预备役招募员了解详情。进一步磨练您的技能海军预备役人员与现役人员并肩工作。他们可以获得相同的培训、设备和晋升机会。他们承担着重大责任。这意味着您可以利用您在军事和民用领域的专业知识，进一步提高您的能力。
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AI素养[第一部分]
日本生产率本部公布了经合组织成员国与其他国家“劳动生产率”的比较结果。这使得日本位居G7排名的末尾。如果劳动者数量减少但劳动生产率仍然较低，日本的社会基础设施就无法维持。还有很大的进步空间。
联合国教科文组织人工智能伦理建议
■日本大使在大会上的发言 ・日本于2016年提议就人工智能展开国际讨论，并一直在国际舞台上引领讨论。日本在世界上第一个制定人工智能社会准则。 ・联合国教科文组织是联合国负责教育和科学的专门机构，其成员包括众多发展中国家和发达国家。考虑到发展中国家的公平入学、培养正确意识、促进教育等，联合国教科文组织制定建议书，指出各方应尊重的人格尊严、尊重人权和基本自由等价值观，以及安全、保障、隐私和数据保护等原则，并指出成员国应采取的政策，具有重要意义。 ・在联合国教科文组织的努力下，原东京大学教授须藤治为专家委员会做出了贡献，日本政府也提供了资金支持。 ・从将发展中国家，特别是非洲和小岛屿发展中国家（SID）纳入人工智能社会的角度来看，联合国教科文组织的人工智能伦理建议具有重要意义，我们希望在未来为这种合作做出贡献。
即时发表经办代理: David Moreno (大卫穆锐农) Open Sky ...
业界精英调查其它要点（ 2024 年 7 月进行） - 74% 的受访者认为，曲线形状的 逆向 光刻技术（ curvilinear ILT ）对非 EUV 的 193i 前沿节点有 用 —— 其中 29% 的人强烈同意这一说法，而去年这一比例为 24% 。 - 55% 的受访者表示，前沿节点的一些关键层已经在使用 逆向 光刻技术（ ILT ），这一比例较去 年的 46% 和两年前的 35% 有所上升。 - 光罩制造中的软件基础设施仍然是生产曲线形状光罩的最大挑战。 - 对深度学习应用的预测有所延迟，今年有 54% 的受访者预测深度学习将在 2025 年之前成为 光罩制造过程中任何环节的竞争优势，而去年这一预测为 2024 年。 “ 我们期待在 SPIE 光罩技术会议期间度过激动人心的一周，届时 eBeam Initiative 将举办第 15 届年度光罩会议，展示半导体生态系统对这一合作论坛的持续支持， ”eBeam Initiative 的 的主办 管理公司 D2S 的首席执行官 藤村 (Aki Fujimura) 表示。 “ 现在是加入光罩行业的绝佳时机，近年 来该行业取得了强劲增长 —— 这证明了光罩社区内杰出人才的贡献，也彰显了该行业在推动半 导体创新方面的重要性。今年 eBeam Initiative 业界精英 调查的绝大多数参与者 —— 他们代表了 行业内顶尖的商业和技术专家 —— 都认为这一增长趋势将在 2024 年继续，这无疑是个好消息。 ” About The eBeam Initiative 关于 eBeam Initiative （电子束倡议团） eBeam Initiative 是一个致力于推广和倡导电子束技术在半导体制造全新应用的团体；为有关 电 子束技术的教育和促进活动 提供相应的论坛。 eBeam Initiative 的目标是增加电子束技术应用在 半导体制造各领域中的投资；降低电子束技术应用的障碍，能够使更多集成电路设计完成，并 且更快投进市场成为可能。会员公司 , 涵盖整个半导体生态系统，包括 : aBeam Technologies; Advantest; Alchip Technologies; AMD; AMTC; Applied Materials; Artwork Conversion; ASML; Averroes.ai; Cadence Design Systems; Canon; CEA-Leti; D 2 S; Dai Nippon Printing; EQUIcon Software GmbH Jena; ESOL; EUV Tech; Fractilia; Fraunhofer IPMS; FUJIFILM Corporation; Fujitsu Semiconductor Limited; GenISys GmbH; GlobalFoundries (GF); Grenon Consulting; Hitachi High-Tech Corporation; HJL Lithography; HOLON CO., LTD; HOYA Corporation; IBM; imec; IMS CHIPS; IMS Nanofabrication AG; JEOL; KIOXIA; KLA; Micron Technology; Multibeam Corporation; NCS; NuFlare Technology; Petersen Advanced Lithography; Photronics; QY Mask; Samsung Electronics; Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation (SMIC); Siemens EDA; STMicroelectronics; Synopsys; TASMIT; Tokyo Electron Ltd. (TEL); TOOL Corporation; Toppan Photomask Corporation; UBC Microelectronics; Vistec Electron Beam GmbH and ZEISS. eBeam Initiative 面向和欢迎所有电子工业的公司和协会加盟。细节请查看 www.ebeam.org .