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World File Search System化学化
化学合成的CRISPR 向导RNA
1. Dellinger, DJ 等人，《使用 2'-O-硫代氨基甲酸酯保护的核苷亚磷酰胺在固相中化学合成 RNA 的简化流程》，《美国化学会志》133，11540– 11556 (2011)；DOI：10.1021/ja201561z
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[类别：化学和农业]
In addition to the general affairs office, which is responsible for the administrative department of forensics, Crime Forensics Office, there are a wide range of business fields, including the DNA center, fingerprint center, and document center, which are in charge of the current department, so it is a gathering of staff with a variety of backgrounds, including staff with highly specialized skills in each field, police officers and appraisers who are seconded to the prefectural police.您不仅可以谈论工作，而且还可以轻松地聊天而不与年龄或背景区分，所以我觉得这是一个非常容易的工作场所。
化学化学
This course aims at introducing the basic concepts and techniques in carrying out chemical analysis by using various modern spectroscopic and chromatographic instruments.Students will learn how to use modern instruments to determine the amounts of substances present in a mixture down to part per million levels (ppm), and identify the structure of a compound.Techniques such as UV-visible spectroscopy, infrared spectroscopy, mass spectrometry, nuclear magnetic resonance spectroscopy, gas chromatography and high performance liquid chromatography will be covered.This course will also discuss some common standard practices of collecting and preparing samples for laboratory testing, the accreditation system in testing laboratories.This course is conducted in the format of lecture.本课程旨在介绍化学分析中所用到的现代光谱和色谱仪器的基本概念和技术。学生将学习使用该 等仪器来分析浓度水平低至百万分之一的物质，并确定化合物的结构。课程内容包括紫外 − 可见光 谱法、红外线光谱法、质谱分析法、核磁共振、气相色谱法及高效能液相色谱法的操作技巧，以 及化验工作中的收集及制备样本的常用标准技巧和香港化验室所实行的认可系统。课程以讲课形 式进行。 Medium of Instruction:
使用复合的深钢筋学习来优化投资比率
摘要：在这项研究中，使用复合深度强化学习优化了投资比率，并学习了使用过去汇率的财务交易策略。当前，关于机器学习到财务的应用的研究正在如火如荼地进行。复杂的兴趣加强学习是一种旨在学习最大化利润率的复杂利益影响的增强学习的框架。在复合利息增强学习中，存在称为投资比率的新参数，并且可以通过将投资比率设置为最佳价值来最大化，从而最大程度地提高了利率的复合效果。先前的研究提出了一种在复合深度强化学习和复合深度强化学习中优化投资比率的方法。在这项研究中，使用复合兴趣的财务交易策略深入了解，以学习一种方法来优化投资比率，并以涉及行动的方式使用美元汇率的实际汇率。
体外化学耐药性和化学敏化测定
系统综述的结论，发现震颤在DBS后5到6年有效地控制了震颤。证据足以确定该技术会改善净健康结果。症状（例如，语音，运动波动）与帕金森氏病有关的帕金森氏病与帕利德斯国际核DB或丘脑下核治疗相关，证据包括随机对照试验（RCT）和系统评价。一项审查得出的结论是，评估pallidus pallidus interna或丘脑下核的DBS的研究始终在结局的临床上表现出显着改善（例如，神经系统功能）。其他系统评价也发现深入DB后的结果明显好于对照干预措施。左旋多巴患者的RCT至少4年的左旋多巴帕金森氏病和不受控制的运动症状发现，除了医疗疗法外，还提供了DBS时2年的生活质量明显更高。证据足以确定该技术会改善净健康结果。div> div pallidus interna或丘脑下核用于治疗原发性肌张力障碍，证据包括系统评价，RCT和病例系列。对24项研究（主要是不受控制）的汇总分析发现，在6个月后和最后随访（平均32个月）后，运动得分和残疾评分的改善。两种双盲RCT都发现，与假刺激后，主动后的严重程度得分更高。需要进行其他试验以确定DBS对患者预后的影响。证据足以确定该技术会改善净健康结果。DBS用于治疗癫痫病，证据包括系统评价，RCT和许多观察性研究。观察性研究报告说，与基线相比，癫痫发作较少，但是，如果没有对照组，对这些结果的解释是有限的。证据不足以确定该技术会改善净健康结果。治疗簇头痛或面部疼痛与DBS的治疗，证据包括系统的审查，随机跨界研究和病例系列。系统的审查包括34例患者的单个患者数据荟萃分析，显示出慢性面部疼痛后3个月的3个月疼痛强度显着降低；超过3个月的随访数据没有资格进行统计分析。在11例严重，难治性，慢性簇头痛的患者中，反应率的组间差异在主动刺激阶段之间没有显着差异。证据不足以确定该技术会改善净健康结果。一项题为“强迫症治疗的深脑刺激”（2024年）的包括：“ DBS对强迫症的功效[强迫症]尚未确定，但初步试验，未经控制或不充分控制，显示出令人鼓舞的结果。 63例接受DBS的治疗 - 饮食性强迫症患者中，有34例症状减少了35％或更多。 两个包括：“ DBS对强迫症的功效[强迫症]尚未确定，但初步试验，未经控制或不充分控制，显示出令人鼓舞的结果。63例接受DBS的治疗 - 饮食性强迫症患者中，有34例症状减少了35％或更多。两个DBS是一种实验程序，已用于治疗无行为能力和治疗难治性强迫症。鉴于DBS的侵入性和相对缺乏疗效数据，我们建议仅在临床试验的背景下使用OCD患者进行DBS治疗。”用DBS处理的强迫症的证据包括RCT，几个系统评价和荟萃分析许多研究的样本量有限。研究表明，DBS治疗后可能会改善强迫症症状，但也确定了大量不良事件，并且尚未确定最佳目标。需要进行其他盲目对照研究，以得出关于DBS对净健康益处的影响的结论。用DBS处理的Tourette综合征，证据包括观察性研究，RCT和系统评价。已有两个患者有15例或更多患者的RCT。一个RCT发现Tourte综合征在3个月时与假手术的严重程度差异，而另一个RCT则没有。既没有研究表明强迫症或抑郁症的合并症症状的改善。
IT和AI的发展、地方创生、少子化对策
资料来源：https://towardsdatascience.com/machine-learning-methods-to-aid-in-coronavirus-response-70df8bfc7861、https://bdtechtalks.com/2020/03/09/artificial-intelligence-covid-19-coronavirus/、https://news.yahoo.co.jp/byline/kazuhirotaira/20200326-00169744/
无氧化硅的湿化学表面功能化
硅是迄今为止微型电源行业中最重要的半导体材料，主要是由于Si/Sio 2接口的高质量。因此，需要化学官能化Si底物的应用集中在SIO 2表面的分子移植上。不幸的是，存在与氧化硅（SIO 2）上接枝的许多有机层的均匀性和稳定性的实际问题，例如硅烷和磷酸盐，与SI-O-SI和SI-O-P键的聚合和水解有关。这些问题刺激了在无氧化物Si表面上接管功能分子方面的努力，主要是在潮湿的化学过程中。因此，本综述直接集中于从H端的Si表面开始的无氧化物Si表面的湿化学表面功能化。首先总结了无氧化物H-终止SI的主要制备方法及其稳定性。官能化被分类为通过功能性有机分子（例如氢硅烷化）和其他原子直接取代的H-终止的间接取代（例如卤素）或小型官能团（例如哦，NH 2）可用于进一步反应。重点放在最近发现的方法上，以在其他无氧化物，无h端和原子平坦的Si（111）表面上产生官能团的纳米图案。这种模型表面特别有趣，因为它们使得能够获得表面化学反应的基本知识。关键字硅表面，氢终止，有机官能化，自组装单层，表面激活，纳米图案缩写SI，硅； Sio 2，氧化硅；山姆，自组装的单层； XPS，X射线光电子光谱； FT-IR，傅立叶变换红外； AFM，原子力显微镜； nn，最近的邻居； nnn，下一个最近的邻居； RT，室温； TFT，薄膜晶体管； ALD，原子层沉积； MPA，甲膦酸； ODPA，八烷基膦酸； DFT，密度功能理论； KMC，动力学蒙特卡洛； ML，单层； H，氢； T-bag，通过聚集和生长束缚；哦，羟基； UHV，超高真空； MOF，金属有机框架； SURMOF，表面金属有机框架； lbl，逐层； PL，光致发光； F，氟；
与污染物相关的化学机械平坦化
化学机械平坦化 (CMP) 工艺已广泛用于平坦化硅基半导体器件中的各种材料，包括电介质、金属和半导体。它是实现纳米级晶圆和芯片级平坦度的最关键步骤之一。然而，在 CMP 工艺之后，晶圆表面上会观察到各种污染物，并且由于它们对器件性能和可靠性具有最直接的影响，因此它们成为许多代快速减小的特征尺寸中最关键的良率降低因素。本书章节提供了 (1) CMP 耗材引起的污染物，例如残留颗粒、表面残留物、有机残留物、焊盘碎片和金属杂质、焊盘污染、水印等，(2) CMP 后清洁过程中刷子引起的交叉污染，(3) 去除这些污染物的 CMP 后清洁。对各种类型的 CMP 污染物的形成及其特性的基本了解将极大地有利于下一代 CMP 浆料和 CMP 后清洁解决方案的开发。