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cds薄膜是通过化学沉积在玻璃基材上制备的,以便在薄膜光电接种者中作为缓冲层的潜在用途。使用X射线相分析和拉曼光谱法,确定在最佳技术条件下合成的CD膜在六边形的wurtzite结构中结晶。已经表明,沉积时间会影响合成材料的生长速率,形态和微观结构特征。随着在给定溶液温度下的沉积时间的增加,观察到表面粗糙度的显着降低,伴随着晶体簇和微结构缺陷的大小减少。CD膜的光节间隙为2.53 - 2.57 eV。光致发光光谱中明显的绿色发射带的存在表明CD膜具有高度的结晶度,最小的缺陷密度。