XiaoMi-AI文件搜索系统
World File Search System原子数
光子整合光束输送在Rubidium 3D磁光陷阱中
冷原子对于精度原子应用至关重要，包括时间保存和传感。用于产生冷原子云的3D磁光陷阱（3D-mot）将受益于光子波导集成，以提高可靠性并降低尺寸，重量和成本。这些陷阱需要将多个大面积，准直的激光束传递到原子真空电池。迄今为止，使用集成波导方法的光束传递仍然难以捉摸。我们使用光纤耦合的光子积分电路报告了87 RB 3D-MOT的演示，以使所有必要的光束在冷却和捕获超过5 x 10 6原子的冷却和捕获量超过200μk的捕获体积，该捕获体积比等效原子数差异差异递增的数量级。氮化硅光子电路转化了纤维耦合的780 nm冷却，并通过波导将光线降低到三个正交的非差异2.5 mm x 3.5 mm x 3.5 mm自由空间冷却，并直接将光束直接接口到苏比德池。这种完整的平面，CMOS铸造 - 兼容的集成梁输送与其他组件（例如激光器和调节器），有希望的冷原子应用系统固定溶液。
欧盟的光致发光和闪烁特性：cahfo3 ...
无机闪烁体可以用高能量吸收电离辐射，以瞬时将其转换为低能的光子。（1-3）利用此功能，通过将光电遗传学与可以将光子转换为电信号转换为电信号的光探测器将闪烁体应用于辐射探测器。（4,5）闪烁检测器根据其应用而分为电流和光子计数模式测量值。（6,7），尤其是当前模式类型的检测器集成了一毫秒的信号，并已用于X射线计算机断层扫描（CT）和X射线射线照相的应用中。（8）当前模式类型的闪烁体需要高发射强度，大的有效原子数（z eff），高密度（ρ）和低余辉水平（AL）。但是，由于没有闪烁器满足所有必需的属性，因此已经开发出新的闪烁体。（9-14）基于HFO 2的化合物，例如RE 2 HF 2 O 7（RE = LA，GD，LU）和AE HFO 3（AE = CA，SR，BA）引起了人们的注意，因为它们的大Z eff和Highρ。在先前关于基于HFO 2的闪烁体的报告中，只有Z EFF（65.2）和ρ（6.95 g/cm 3）的Cahfo 3显示出闪烁的光屈服于10,000光子/MEV。（15–21）此外，我们的研究小组研究了用Ti，CE，PR，TB和TM掺杂的Cahfo 3的闪烁特性，（18,21-26）
触觉溅射目标中的纹理不均匀性
溅射沉积如图1所示，溅射沉积过程是通过用离子轰击所需沉积材料的目标来完成的。事件离子在目标内引发碰撞级联。当级联反应以足够的能量克服表面结合能到达目标表面时，可以弹出原子。溅射室的示意图如图2所示。电场将传入的气体电离（通常是氩气）。阳性离子轰击靶（阴极）和溅射原子在底物上（阳极）。可以加热底物以改善键合。溅射产量（即从每个入射离子射出的原子的平均原子数）取决于几个参数，包括相对于表面的离子入射角，离子的能量，离子和靶原子的相对质量以及靶原子的表面结合能。虽然影响溅射的相对较大的数字参数使其成为一个复杂的过程，但具有如此多的控制参数可以对所得膜的生长和微观结构进行很大程度的控制。各向异性的晶体靶材料，晶格相对于靶表面的方向影响溅射产量。在多晶溅射目标中，以不同速率的不同方向溅射的晶粒。这可能会影响沉积薄膜的均匀性。一个关键控制参数是目标材料中纹理的均匀性。图3显示了铜单晶溅射产量的各向异性（Magnuson＆Carlston，1963年）。所有面部中心材料的一般趋势均具有：S（111）> s（100）> s（110）。
一系列阳离子改性的鲁棒锆基金属...
摘要：金属有机框架（MOF）代表了最有前途的多孔固体之一，用于控制和减少温室气体排放。研究表明，开放金属位点（OMS）与二氧化碳强烈相互作用，因此是CO 2捕获的有效结合位点。但是，许多具有OMS的MOF缺乏框架稳定性，并且通常具有较高的再生温度。为了寻求解决稳定性问题的方法，我们通过通过ZR-TCPB-COOH上的质子交换金属离子，通过ZR-TCPB-COOH在ZR-TCPB-COOM（M = M = M = Alkali/Alkaline Earth Metal）中设计了一系列。原始的MOF（ZR-TCPB-COOH）具有非常强大的框架。PSM过程不会恶化框架稳定性，而是创建与二氧化碳形成牢固键的金属结合位点。结果表明，在低CO 2压力下，使用ZR-TCPB-COOM大大增强了吸收量，并且趋势趋于增加原子数（li + 在室温下N 2上的CO 2也可以实现高吸附选择性（CO 2 /N 2 IAST选择性（15:85）= 539.5）。 这种方法提供了一种可行的方法来提高CO 2捕获能力，尤其是在低浓度下。在室温下N 2上的CO 2也可以实现高吸附选择性（CO 2 /N 2 IAST选择性（15:85）= 539.5）。这种方法提供了一种可行的方法来提高CO 2捕获能力，尤其是在低浓度下。
氧化锌掺杂的硼硅酸盐玻璃的合成和伽马射线屏蔽效率：比较研究
摘要这项研究研究了几种玻璃成分作为伽马射线屏蔽物质的适用性。所测试的组合物具有不同的ZnO浓度，特别是（60-X）B 2 O 3 - 10NA 2 O —15SIO 2 –15SIO 2-5AL 2 O 3 - （x + 10）ZnO（其中x = 5、10、15和20 mol％）。测量以0.6642、1.1776和1.3343的能量水平进行，从CS 137和CO 60点源辐射，以及闪烁检测器[NAI（TL）]。我们研究了与γ辐射屏蔽相关的关键特性，确定有效原子数（z eff），电子密度（N EL），半价值层（HVL），线性衰减（μ）和质量衰减（μm）系数（μm）系数和平均自由路径（λ）。我们的结果表明，随着Zn浓度从15摩尔％上升到35 mol％，在检查中的眼镜从2.12至2.77 g/cm3变得更密集。此外，所有玻璃成分都提供了针对指定能级的伽马辐射的足够保护。µ的值从0.157上升到0.214 cm -1（0.6642 meV），从0.119升至0.160 cm -1（1.1776 meV），并从0.114 cm -1（1.1776 meV），从0.114 cm -1（1.3343 meV）上升到0.160 cm -1（1.1776 meV）。对于样品B1和B4，观察到的HVL值从4.41、5.84和6.12 cm降至3.21、4.31和4.61 cm，分别为0.6642、1.1736和1.3343 MEV。与经常使用的玻璃和混凝土样品相比，经过测试的材料中显示的屏蔽能力更高。该研究强调了这些玻璃成分作为可以掩盖伽马辐射的实用材料的潜力。
超重或肥胖老年人糖耐量受损及2型糖尿病的脂质组学分析
目的：衰老、肥胖和 2 型糖尿病 (T2DM) 形成了一种代谢性疾病连续体，患病率不断上升。脂质组学解释了脂质代谢和代谢疾病之间的复杂相互作用。我们旨在系统地研究超重/肥胖老年个体中新诊断的糖耐量受损 (IGT) 和 T2DM 引起的血浆脂质组变化，并确定区分 IGT、T2DM 和对照组的潜在生物标志物。方法：使用高覆盖率非靶向绝对定量脂质组学方法分析了 148 名超重/肥胖老年个体的血浆样本，其中包括 52 名 IGT 患者、47 名 T2DM 患者和 49 名正常血糖对照者。结果：我们对 38 个类别和 7 个脂质类别中的 1840 种脂质进行了量化。在超重/肥胖老年个体中，IGT 和 T2DM 患者的脂质组学特征与对照组有显著差异，而在 IGT 和 T2DM 组中脂质组学特征相似。IGT 和 T2DM 组的甘油二酯、甘油三酯、磷脂酰胆碱和神经酰胺的浓度发生明显改变。特别地，IGT 和 T2DM 诱导了碳原子数较长（C44–50）和双键数饱和或较少（n（C=C）= 0–2）的甘油三酯的积累。此外，共鉴定出 17 种潜在的脂质生物标志物，可成功区分 IGT、T2DM 和对照组。结论：在超重/肥胖老年患者中，IGT 和 T2DM 诱导了明显的脂质组范围的变化。本研究结果可能有助于解释衰老、肥胖和糖尿病中复杂的脂质代谢功能障碍。
超重或肥胖的老年人中的葡萄糖耐受性和2型糖尿病的脂质组学分析
目的：衰老，肥胖和2型糖尿病（T2DM）形成了一种代谢性连续体，其患病率不断增加。脂质组学解释了脂质代谢与代谢疾病之间的复杂相互作用。我们旨在系统地研究超重/肥胖的老年个体中新诊断的受损葡萄糖耐受性（IGT）和T2DM引起的血浆脂肪组变化，并鉴定潜在的生物标志物，以区分IGT，T2DM和对照组。方法：使用高覆盖的绝对定量脂质症方法分析了来自148个超重/肥胖老年人的血浆样本，包括52例IGT患者，47例IGT患者，47例T2DM患者和49位euglycemic对照。结果：我们量化了38个类别和七个脂质类别的1840种脂质。在超重/肥胖的老年人中，IGT和T2DM患者的脂质组谱与对照组的脂质组谱差异显着不同，而在IGT和T2DM组中它们相似。在IGT和T2DM组中，明显改变了甘油三酸酯，甘油三酸酯，磷脂酰胆碱和神经酰胺的浓度。尤其是，IGT和T2DM诱导甘油三酸酯的积累，其碳原子数（C44-50）和饱和或较低的双键键（N（C = C）= 0-2）。此外，总共确定了17个潜在的脂质生物标志物，以成功区分IGT，T2DM和对照组。结论：在超重/肥胖的老年患者中，IGT和T2DM诱导明显的脂肪组变化。这项研究的结果可能有助于解释衰老，肥胖和糖尿病中复杂的功能障碍脂质代谢。
Jeganathan Kulandaivel博士的生物
NANO用户设施：（ Nano用户设施（NUF）服务以收费提供给外部和内部用户）原子力显微镜（AFM）AFM（AFM）AFM（Agilent 5500）可用于检查材料的表面形态（例如导电，非导向，聚合物，聚合物，组合生物学样品等，均具有Atomic solutive。也可以分析样品的粒度和粗糙度。它还具有多种其他模式，例如磁力显微镜（MFM），电流传感原子力显微镜（CSAFM）等。场发射扫描电子显微镜（FESEM）FESEM（Carl Zeiss）可用于以非常高（大约1.5 nm）（约1.5 nm）（约1.5 nm）的所有材料（导电和非导导）成像。FESEM系统还配备了牛津仪器，英国制造了能源色散X射线分析（EDAX）系统，以进行组成分析，包括映射要检查的材料。高分辨率TE冷却检测器可以检测到原子数大于5的元素。 室/低温光致发光光致发光光谱仪（Horiba Jobin yvon）用于探测材料的光学特性，例如带隙，重组机制和缺陷检测。 高性能热电冷却检测器可以通过允许良好的信号与噪声比和较长的整合时间来检测更好的频谱。 规格➢激发来源：HE-CD激光器（λ= 325 nm）➢检测范围：350-900 nm➢温度范围：10-300 k元素。室/低温光致发光光致发光光谱仪（Horiba Jobin yvon）用于探测材料的光学特性，例如带隙，重组机制和缺陷检测。高性能热电冷却检测器可以通过允许良好的信号与噪声比和较长的整合时间来检测更好的频谱。规格➢激发来源：HE-CD激光器（λ= 325 nm）➢检测范围：350-900 nm➢温度范围：10-300 k
对激发状态和碱性趋势的理论审查
进行了地球元素。➢用于量子计算机，光学晶格时钟，天体物理学和等离子体诊断。➢相对论杂乱，处理问题和昂贵的工具等问题。➢前景，例如量子技术，更好的原子钟和新材料。摘要：这种新方法预测了原子数的碱性地球元素的激发状态，从4（Beryllium，be）到88（Radium，ra），这是基于碱接地元素的第二个科学和技术领域。它们具有简单的电子结构（NS²），其特定的激发特征在广泛的领域中找到了应用，从光谱和量子计算到精确定时管理和血浆诊断。在过去的几十年中，理论和实验研究付出了很多努力，以研究和理解其激动的状态。计算机化的变化，例如使用许多人体扰动理论，密度功能理论（DFT）和其他相对论校正，已经显着改善了激发态的转变概率，寿命和振荡者强度的预测。其他计算方法（例如配置相互作用（CI）和耦合簇（CC）理论）提供了有关电子相关性和精细结构分裂的更多信息，以提供更大的碱性地球元素，例如钡和radium和radium。本评论论文重点介绍了碱金属激发状态的最新进步，当前趋势和新技术。应用高分辨率光谱法（如激光诱导的荧光（LIF）光电离和两光子效率）的应用，但是可以更好地确定能级，衰减速率和自动离电现象。超快速激光器和可调激光系统的进步有助于实时评估过渡激发现象。利用现代技术，例如激光冷却和捕获，可以对激发状态进行显着操纵，从而在量子信息技术和原子钟中显着进步。激发态在碱 - 地球物种中的应用是多种多样的。基于光原子时钟基于光原子时钟的过渡已开发出来，以确定一天中的新标准，以无法实现的准确性，从而质疑国际单位系统（SI）中第二个的定义。这些量子计算元素的亚稳态状态被视为Qubits，其量子特性被用来维持延长的相干时间并促进更容易的控制。此外
硅辐射探测器技术：从平面到3D
辐射探测器在几种应用中都普遍存在，从文化遗产到环境监测，以及在许多娱乐性和应用研究中，包括少数，包括高能物理学（HEP），光子科学和铜管科学。从最早的设备开始，辐射的检测是基于不同的物理机制，例如热转导，气电离，闪烁等。[1]。与大多数其他传感器技术一样，半导体在辐射检测中也起着特殊的作用，其主要原因是：（i）它们可以直接将辐射转换为电信号，准备通过电子电路处理，并且（ii）通过利用集成电路技术来利用它们，从而带来了多个优势，导致了几个优势，例如小型成本，且可靠地效果，以及2个改善了[2.2 and Scrips and Import and Import and Import and Import and Import Import and Import and Import and Import and Import and Import and Import [2]。其物理特性（例如原子数，密度，电离能，带隙等）使硅特别适合于检测软X射线和带电的颗粒，而对于硬X射线/γ-rays和中子（用于检测应与合适的转化材料偶联的硅）并不有效[1]。但是，由于其制造技术的无与伦比的优势，硅是检测器应用最广泛使用的半导体。尽管硅探测器是相对简单的设备，但它们需要定制的织物技术来优化其电气和功能特性。日本，在该领域运营。直到最近，随着CMOS图像传感器的显着进展，用CMOS Technologies（所谓的单片活性像素）制成的像素探测器已证明可以产生满足的性能[3]。将来，CMOS像素的利用可能会更大，尤其是在X射线成像和带电的粒子跟踪中。但是，仍然希望定制检测器仍然是大多数应用程序的主要选择。硅探测器的市场被认为是微电子领域内的专业探测器，只有一家主要的工业制造商Hamamatsu Photonics K.K.大多数加工设施均由中小型企业（中小型企业）和主要位于欧洲的研究中心拥有。在本文中，我们将回顾硅辐射探测器技术。第2节将回忆起设备的基本原理和主要要求。第3节将被奉献