通过外延应变制备锰氧化物薄膜 Dong Li 1† 、Bonan Zhu 2† 、Dirk Backes 3 、Larissa SI Veiga 3 、Tien-Lin Lee 3 、Hongguang Wang 4 、Qian He 5 、Pinku Roy 6,7 、Jiaye Zhang 8 、Jueli Shi 8 、Aiping Chen 6 、Peter A. van Aken 4 、Quanxi Jia 7 、Sarnjeet Dhesi 3 、David O. Scanlon 2,3 、Kelvin HL Zhang 8* 和 Weiwei Li 1* 1 南京航空航天大学物理学院,工业和信息化部空天信息材料与物理重点实验室,南京 211106,中国 2 伦敦大学学院化学系,伦敦 WC1H 0AJ,英国 3 Diamond Light Source Ltd.,哈威尔科学与创新园区,迪德科特,牛津郡 OX11 0DE,英国 4 马克斯普朗克固体研究所,Heisenbergstr. 1, 70569,斯图加特,德国 5 新加坡国立大学材料科学与工程系,新加坡,117575,新加坡 6 综合纳米技术中心 (CINT),洛斯阿拉莫斯国家实验室,洛斯阿拉莫斯,新墨西哥州 87545,美国 7 纽约州立大学布法罗分校材料设计与创新系,纽约州布法罗 14260,美国 8 厦门大学化工学院,固体表面物理化学国家重点实验室,能源材料化学协同创新中心,厦门 361005,中国 电子邮件:kelvinzhang@xmu.edu.cn,wl337@nuaa.edu.cn † 这些作者对这项工作做出了同等贡献