是由最近提出的镍3 ni 2 o 7交替交替的单层三层堆叠结构的动机,我们使用从头开始和随机相近似技术全面研究了该系统。我们的分析揭示了这种新颖的LA 3 Ni 2 O 7结构与其他Ruddlesden-Popper镍超导体(例如类似的电荷转移差距值和E G轨道的轨道选择性行为)之间的相似性。压力主要增加了ni g波段的带宽,这表明这些E G状态的巡回特性提高了。通过将细胞体积比0从0.9更改为1.10,我们发现La 3 Ni 2 O 7中的双层结构总是比单层三层堆叠LA 3 Ni 2 O 7具有低的能量。此外,我们观察到从三层到单层sublattices的“自我兴奋剂”效应(与整个结构的每个位置的平均每个位置的1.5电子相比,相比之下),通过总体电子掺杂,这种效果将增强。此外,我们发现了一个限制在单层的d x 2 -y 2波配对状态。由于单层之间的有效耦合非常弱,因此由于中间的非耐受性三层,这表明该结构中的超导过渡温度t c应远低于双层结构中。
• 卓越的设计 - 完全独立的单元 - 坚固的不锈钢框架,采用双层结构、内部 GI 板和预涂外部滑轨,使用寿命更长 - 采用工业级涂层的 CNC 制造 - 不锈钢内皮的灵活性可用于食品、制药和其他关键行业应用中的专门应用 - 多种再活化热源选择 - 电、蒸汽、热流体、直接/间接燃烧气体 - 螺栓工艺旁路,用于定制设计工艺空气流或工艺温度控制 - 工艺和再活化空气流区绝缘
为了保持温度均匀性并防止热量损失,VWR Signature 系列烤箱在炉膛的五面都使用了 3 1 Ú 2 英寸厚的双层隔热屏障,该屏障由高密度硅酸铝和高温玻璃纤维组成。双层结构不会因受热而破裂或沉降,因此多年后您仍可以期待这款烤箱的性能。此外,接缝交错排列,以避免出现缝隙和随后的热量损失,从而确保烤箱触感凉爽。高温硅橡胶门密封可消除空气泄漏。此外,门闩和铰链可由用户调节,以在金属在烤箱使用寿命期间膨胀和收缩时保持更好的密封。这些功能使 VWR 烤箱能够在您完成工作时完成工作,因此
我们提出了一种灵活,有效的方法,可以通过在三维框架中耦合电荷,自旋和磁化动力学来建模现代SOT-MRAM细胞中的磁化动力学。我们扩展了现有文献,以获得为Rashba-Edelstein效应建模的旋转电流边界条件。我们计算起源于自旋大厅和Rashba-Edelstein效应的自旋 - 轨道扭矩,并表明我们的模型可以重现IR/COFEB双层结构中自旋扭矩的厚度依赖性的实验结果。此外,我们通过模拟无野外SOT-MRAM细胞中的磁化逆转来验证我们的方法,并表明,随着界面dzyaloshinskii – Moriya相互作用,我们获得了与先前报道的实验结果相似的域壁运动。
最近,Moiré系统已成为2D材料研究领域的新领域。moiré系统是指显示超晶格样图案的材料,这些模式是由2D双层结构中两个或更多层的蜂窝晶格之间的轻微错位引起的[11]。除了由于单个层之间略有晶格常数不匹配而形成的莫伊尔图案(图1A),另一种形成这些模式的方法是通过以较小的角度扭曲或旋转两个单独的层(图1B)。这种现象在扭曲的双层石墨烯中尤为明显,在扭曲的双层石墨烯中,所产生的moiré模式显着改变了材料的电子特性,最终导致以1.1°的魔法角度出现非常规超导性[12]
摘要:囊泡是一种囊泡纳米载体,在临床实践中用于增强各种药物的治疗效果。囊泡由双层疏水膜包围着一个充满水相的中央腔体组成,因此,它们可以封装和递送疏水和亲水物质。与脂质体等其他双层结构相比,囊泡纳米载体更受欢迎,因为它们具有化学稳定性、生物降解性、生物相容性、低生产成本、低毒性以及易于储存和处理等特点。此外,可以通过加入配体或刺激敏感片段轻松修改囊泡膜,以实现封装货物的靶向递送和触发释放。这篇小型综述概述了设计功能性囊泡的最新进展及其作为开发先进药物和基因递送系统的平台的用途。
结构厚度方向上的交联密度决定了材料性能的梯度,从而决定了浸入溶剂时的不同响应。因此,研究了获得的双层结构经受溶剂触发形状变化的能力。为此,首先从物理机械的角度研究了单层结构。表 3 报告了从本次调查中获得的主要参数。特别是,控制紫外线照射时间和打印床温度可以控制两层的凝胶含量,从而控制浸入 THF 后膨胀引起的纵向应变(e 膨胀)。此外,交联程度的增加导致两层之间的机械性能(即 E )增加(表 3 和图 1)。在这项调查之后,探索了双层结构的溶剂触发行为。由于交联,3D 打印的双层在暴露于溶剂时会发生平面外弯曲(或折叠)(图 2B)
利用 5G 延迟优势实现的 VCSEL 应用部署可以通过使用商业化技术来遵循行业发展时钟速度而受益。[1] 根据功率输出,VCSEL 器件可以根据沉积材料厚度和结构进行大致分类。[2] 本研究量化了与参考金属化膜铝最相关的双层结构特征,以便有效使用。它基于这些发现探索了成功使用常见金属氧化物绝缘体 (SiO 2 / Al 2 O 3 ) 双层处理所需的多元优化,各向同性溅射沉积厚度为 100nm 至 250nm。提出了一个表征关键变量的模型。此外,它还介绍了一种新的高温双层工艺,使用负像抗蚀剂,能够在高温绝缘体沉积期间保持稳定性。本研究确定了制造成功双层的尺寸目标,用于溅射绝缘体,适用于工艺优化,以促进不断发展的 III-V 应用。介绍
是由在压力下在LA 3 Ni 2 O 7中高T C超导性的最新报道所激发的,我们从理论上分析了这种化合物中正常和超导状态中的磁激发,可以通过无弹性中子散射或RIX来测量。我们表明,自旋响应的双层结构允许以非常有效的方式阐明层间相互作用的作用和库珀对的性质。特别是,我们通过比较自旋敏感性的均匀和奇数通道中的相应响应,展示了电位S±和D波间隙之间的关键差异。我们表明,大多数是层间驱动的粘结 - 抗抗反键S±Cooper Pairing仅在X点附近的奇数通道中产生一个大型自旋共振峰,而奇数和偶数通道中的旋转共振在D-Wave场景中都可以预测。