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反射疗法在糖尿病管理中的应用......
糖尿病是一种严重的慢性疾病，给个人和社会带来沉重的负担。慢性疾病是导致个人生活质量下降、日常生活受限以及过早死亡的主要因素之一。如果不及时有效地治疗，糖尿病会导致全身系统功能紊乱。为了控制复杂的糖尿病症状，患者有时会在药物治疗之外寻求补充和替代疗法。补充疗法的目的是营造疗愈环境，提高个体的认知，并展现自我疗愈的力量。糖尿病患者通常使用补充和替代疗法来治疗糖尿病或改善整体健康。众所周知，糖尿病患者使用补充和替代疗法来降低/平衡血糖并预防糖尿病并发症。糖尿病常用的补充和替代疗法包括瑜伽、针灸、反射疗法、芳香疗法和草药疗法。由于目前缺乏关于反射疗法在糖尿病治疗中效果的充分研究，本文旨在为未来的研究提供信息和帮助。
AZ® BARLi® -II 底部抗反射涂层
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紫外线反射多孔纳米级周期孔阵列...
图1。（a）4H-SIC纳米级周期孔阵列的制造过程插图。SEM图像显示了孔阵列的顶视图和横截面视图。（b和c）分别由AFM采集的孔阵列的表面地形图3D图像和横截面线轮廓。
俄罗斯的反射控制理论：操纵对手以获得优势
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本体感受深部腱反射 Jose 博士...
Jose Palomar Level 医生是墨西哥哈利斯科州首府瓜达拉哈拉人。他 17 岁时开始在瓜达拉哈拉自治大学 (UAG) 接受医学院教育，并在陆军和军队大学 (UDEFA) 接受骨科手术和创伤学培训。他在 24 岁时进行了第一次骨科手术，1984 年至 1988 年间，他在 SSA 哈利斯科州研究所的重建和整形外科团队任职。随后，他在德克萨斯州达拉斯的德克萨斯背部研究所接受了微创脊柱手术的专门培训。
1650 nm 相位对比反射共聚焦脑成像
使用偏振滤波来最大化信噪比 (SNR)，尽管使用低激发功率，但仍能获得良好的组织成像深度。然而，在将血管结构与髓鞘轴突进行比较时，内在信号可能会出现一些模糊性。上述工作通过结合分子成像（例如第三谐波产生 (THG)）解决了这种矛盾。在眼科成像领域，有大量关于相位对比有助于识别细胞界面的研究。Sulai 等人以标准自适应光学扫描激光检眼镜 (AOSLO) 成像装置为基础，将相位对比附加到 AOSLO 系统中。8 显微镜点扩展函数的横向分离增强了整体对比度和检测系统微特征的能力。9 此后，再也没有在大脑中研究过类似的方法。然而，使用 NIR-II 光谱范围会减少光的散射，这可能有助于实现相位对比成像，如果应用于反射共聚焦显微镜设置，将会大有裨益。在没有飞秒源产生 THG 的情况下，血管造影可以从类似于光学相干断层扫描 (OCT) 中的散斑分析的技术中受益。基于信号的高频时间滤波，OCT 能够在体内检索红细胞路径。10 类似于 NIR-II 反射共聚焦显微镜的方法可以帮助区分皮质组织中的轴突和血管。在本研究中，我们调查了相位对比方案与 NIR-II 反射共聚焦显微镜的结合是否可以为细胞（包括管腔中的红细胞）提供内在对比。这项研究将表明，将这种成像装置与高频时间滤波相结合，可以证明是一种有效的框架，可以检测微血管网络结构（或血管结构），并区分皮质中具有流动的动态元素（如血管）和静态元素。我们的报告描述了成像装置、动态结构成像方法和体内测试，其中小鼠的头骨保持完整，以测试定制显微镜的功能。
辅助负荷促进以目标为导向的拉伸反射增益调节
自愿运动在执行前需要做好准备。人们已在整个中枢神经系统中观察到了准备活动，最近在人类周围神经系统（即肌梭）的一级神经元中也发现了准备活动。感觉器官中出现的变化表明，拉伸反射增益的独立调节可能是运动准备的重要组成部分。本研究的目的是进一步研究人类受试者优势上肢的短延迟拉伸反射反应 (SLR) 和长延迟拉伸反射反应 (LLR) 的准备调节。具体来说，我们研究了不同的目标参数（目标距离和方向）如何影响目标导向伸手的背景下拉伸反射增益的准备调节，以及任何此类调节是否取决于准备持续时间和背景负荷的方向。我们发现目标距离只会产生很小的反射增益变化。相比之下，SLR 和 LLR 增益都根据目标方向受到强烈调节，从而促进即将到来的自愿运动。当准备延迟足够长（> 250 毫秒）且同向肌肉未负重时，这种以目标为导向的 SLR 和 LLR 增益调节会出现或增强 [即，当背景负荷首次施加在同向肌肉动作方向（辅助负荷）时]。结果进一步支持了伸手准备中相对缓慢进化的过程，该过程可能通过独立控制肌腱运动神经元来调节反射性肌肉僵硬。这种控制可以增强自愿的目标导向运动，并在同向肌肉未负重时被触发或增强。
通过开路和无光刻技术实现抗反射多孔 Ge...
1) 新加坡南洋理工大学电气与电子工程学院，50 Nanyang Avenue 639798，新加坡。2) 韩国机械材料研究所纳米融合机械研究部，韩国大田儒城区 34103，韩国。3) 德克萨斯大学阿灵顿分校电气工程系，德克萨斯州阿灵顿 76019，美国。4) 伊利诺伊大学厄巴纳-香槟分校电气与计算机工程系和 Holonyak 微纳米技术实验室，伊利诺伊州厄巴纳 61801，美国 关键词。金属辅助化学蚀刻；多孔 Ge；抗反射；