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World File Search System噻硫
硫唑嘌呤 - 兽医医学 - 密西西比州立大学
硫唑嘌呤是活性代谢物 6-巯基嘌呤的前体药物，长期以来人们认为其主要作用机制是通过阻断诸如酰胺磷酸核糖基转移酶之类的酶来抑制嘌呤腺嘌呤和鸟嘌呤的合成，从而产生无功能的核酸链。从头嘌呤合成的中断会抑制 DNA 和 RNA 的合成，从而抑制淋巴细胞等快速生长细胞的增殖。淋巴细胞特别容易受到从头嘌呤合成抑制的影响，因为它们相对缺乏嘌呤合成的替代途径，即嘌呤“补救”途径，在该途径中核苷酸由核苷酸降解产物重新合成。然而，在过去的几十年里，人们提出了多种由各种硫唑嘌呤代谢物介导的其他作用机制，包括阻断 T 细胞活化和刺激 T 细胞凋亡。长期以来有报道称硫唑嘌呤对 T 细胞功能比对 B 细胞功能更有效，尽管缺乏有力的证据支持这一点，而且我们实验室最近的研究表明硫唑嘌呤可以抑制 B 细胞和 T 细胞增殖。
铝硫电池的完整纸质新颖电解质
摘要：铝和硫的高丰度和低成本使AL-S电池成为有吸引力的组合。但是，需要显着改善性能，并且增加硫电极的厚度和硫含量对于开发具有特定能量竞争价值的电池至关重要。这项工作报告了硫含量最高的硫电极的发展（60％wt。）迄今为止针对AL-S电池系统的报道，并对硫电极厚度对电池性能的影响进行了系统的研究。使用使用乙酰氨酰胺或尿素制成的低成本电解质时，当增加电极厚度时，电解质物种的质量缓慢被确定为硫酸盐利用率不良的主要原因，而完全粘性的离子离子液体可实现完全的硫。此外，对非常薄的电极的分析揭示了低成本电解质中降解反应的发生。总而言之，此处开发的新分析方法非常适合评估AL-S电池的新型电解质的稳定性和质量传输局限性。
钼中稳定硫空位的合理设计...
f纳克技术大学，丹麦技术大学物理系，丹麦2820 G材料学院，太阳YAT-SEN大学，广州510275，H中国H中心微型/纳米电子中心（Novitas），电气和电子工程学院，电气和电子工程学院，Nanyang技术大学CNRS/NTU/THALES，UMI 3288，研究技术广场，637553，新加坡†相同的贡献 *相应的作者。Karen Chan：kchan@fysik.dtu.dk; pingqi gao：gaopq3@mail.sysu.edu.cn; Hong Li：ehongli@ntu.edu.sgKaren Chan：kchan@fysik.dtu.dk; pingqi gao：gaopq3@mail.sysu.edu.cn; Hong Li：ehongli@ntu.edu.sg
电动汽车可以通过锂硫电池带有添加的铂金
“我们八年前开始使用这些下一代电池化学。第一个充电周期很棒。到20周期，它是一块无用的金属，”工程与计算学院副教授比拉尔·扎哈布（Bilal El-Zahab）说。“我们必须成为电池窃窃私语者来解决他们的问题，因此在现阶段真正令人兴奋。”
药物引起的光敏性 - 更新：罪魁祸首，预防和管理
抽象光敏药物喷发是由于暴露于药物和紫外线或可见辐射而导致的皮肤不良事件。在这篇综述中，讨论了药物诱导的光敏性的诊断，预防和管理。诊断主要基于药物摄入的史和喷发的出现，主要影响皮肤暴露的区域。此诊断也可以通过诸如光题，光接测试和补偿测试等工具来帮助。管理的支柱是预防，包括通知患者光敏性增加以及使用适当的防晒措施。一旦发生光敏反应，可能有必要停止罪魁祸首并治疗与皮质类固醇的反应。对于某些药物，可以表明长期监测，因为在早期光敏反应的部位患黑色素瘤或鳞状细胞癌的风险更高。大量药物被认为是光敏性的原因，许多药物具有令人信服的临床和科学支持证据。我们回顾了有关每种药物犯罪能力的证据的医学文献，包括光电测试，照相测试和补偿测试的结果。胺碘酮，氯丙嗪，强力霉素，氢氯噻嗪，纳利迪二酸，萘普生，吡罗昔康，四环素，硫代嗪，硫代嗪，vemurafenib和vorcoronazole是最一致的牵连，并且是最一致的预先涉及的预兆，并且是最多的预防效果。
地热发电厂减少冷凝器和冷却塔中的硫矿床
通过Geosol Sulphur分散剂，冷凝器中的硫沉积物和冷却塔中的硫沉积物得以迅速而安全地去除，真空和冷却能力恢复，并大大减少了植物的停机时间。全年，视觉检查没有显示填充物内部水流路径的显着改变。13个月后，对冷凝器进行了彻底检查。它几乎在喷雾器，柱或其他表面上显示任何沉积物。此外，与以前的竞争产品相比，清洁少量存款表面所需的时间和资源要少得多。
锂硫电池：适用于多个领域的轻量化技术
降低电池成本是制造商面临的最大挑战之一。目前电池的成本很大一部分来自镍和钴等金属的成本。8 相比之下，锂硫电池电极所用材料成本相对较低，硫是地球上最丰富的元素之一。锂硫电池规模经济的优势将在更广泛的商业化中实现，特别是在电解质的生产方面。预测表明，这可能会使锂硫电池的性能与锂离子电池相当，但价格不到一半。9 从电池中去除钴等过渡金属也是一个重要的考虑因素，因为采矿存在环境和道德问题，供应安全也存在不确定性。10
芳基硫氰酸酯作为有机的“ CN”来源：圆形...
Cyano群体以其丰富而多样的重新反应而闻名，因此使其成为访问各种官能团的多功能前体，例如羧酸，醛，胺，胺，胺，胺，胺，四唑，阿沙唑和异唑和异质组。和药品。2加上，氰基覆盖的有机化合物在有机电子和相关技术（例如有机太阳能电池（OSC），或者发光二极管二极管（OLEDS）（OLEDS），非线性光学（NLO）（NLO），光转换剂，光转化剂，有机化的cotals和Phototectes cotal和Photots Phototects和Phototsphtphotox cotal中，有机电子和相关技术的多样化起作用起作用。3因此，通过采用一系列氰化试剂来实现cyanation的重要过程。考虑到环境的影响和毒性，从使用常规的cn型试剂（例如KCN，NACN，Zn（CN）₂和K₄[Fe（CN）₆]到相对更安全的金属硫代盐，从使用常规cn染色试剂进行了明显的过渡。4a，这些试剂中的一些产生化学计量的金属废物和/或释放有害的HCN。为了克服这些多年生问题，已经探索了各种非金属有机氰化试剂，用于氰化含有丙酮氰基氢蛋白，三甲基甲硅烷基氰化物（TMSCN），丙烷基丙烯酸酯，丙烷二酸，乙酸乙酯乙酸乙酯，和异西亚酯。4B此外，硝基苯二烯酸和苯甲氰酸酯也被用作金属催化中的有机溶剂。更重要的是，与广泛研究的C – CN键形成相比，构建X – CN键（X = N，S，O）的探索程度较小。8在过去十年中，许多氰化策略
直接观察硫烷天然气的C-核苷酸和萘
图2：具有355 nm激光脉冲的TX-NTL-0（深蓝色）和TX-0（浅蓝色）的机械研究。a）激发后记录100 ns的瞬时吸收光谱。NTL DNA的三胞胎 - 三曲线吸收带被紫色突出显示。b）和c）在不同检测波长和时间尺度下进行时间分解的测量。d）在MECN（虚线）中TX的时间门控77 K发射，在水溶液（250 mM NaCl，10 mm Na-P I Buffer，pH 7.0）中，在水溶液缓冲液（250 mm NaCl，pH 7.0）中进行了10 ms –100 ms（蓝色）（蓝色）和4.0 s至4.3 s（紫色）（紫色）。
硫退火对石墨烯对过渡金属生长的影响
Dichalcogenides (TMDCs) Ahmad Nizamuddin bin Muhammad Mustafa Sami Ramadan 1 , Peter K. Petrov 1 , Huanyu Zhou 1 , Giuseppe Mallia 1 , Nicholas Harrison 1 , Yasir Noori 2 , Shibin Thomas 2 , Victoria Greenacre 2 , Gill Reid 2 , Philip N Bartlett 2 , Kees de Groot 2 , Norbert Klein 1 1 Imperial College London, London, United Kingdom 2 University of Southampton, Southampton, United Kingdom a.bin-muhammad-mustafa21@imperial.ac.uk Two-dimensional (2D) heterostructures composed of graphene and Transition Metal Dichalcogenides (TMDCs) have garnered significant attention owing to their unique physics and potential applications in diverse设备。TMDC，包括MOS 2，WS 2，Mose 2和WSE 2，由于其带隙范围和强烈的轻度 - 互动，因此对电子和光电应用受到了电子和光电应用的青睐。TMDC和石墨烯中都没有悬空键，允许在异质结构中无缝集成，与单物质构型相比，为出色的设备铺平了道路。在使用机械去角质堆叠单个层的同时，化学蒸气沉积（CVD），电沉积和原子层沉积的最新进展为大面积的生长和可伸缩性提供了希望[1] [2]。但是，需要在生长后或生长后的高温暴露，可能会改变石墨烯的特性。我们研究了硫退火对石墨烯对TMDCS生长的电和结构特性的影响。在各种条件下，在温度范围为300-800°C的温度下进行系统退火。参考我们的发现表明，真空退火在石墨烯中诱导蚀刻，这会因硫种类的存在而加剧，从而导致电性能显着降解（图1）。值得注意的是，用自组装单层涂层的石墨烯会减轻这种降解，从而使高质量TMDC在石墨烯上沉积。MOS 2和WS 2对石墨烯的电沉积，然后进行硫退火后处理证明了该策略的功效。这项研究阐明了硫退火在影响石墨烯质量中的关键作用，并为TMDC在石墨烯上的生长铺平了道路，用于高性能电子应用。