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World File Search System四点
标题在句子案例中，大胆，中心和十四点
预印本（未通过同行评审认证）是作者/资助者。保留所有权利。未经许可就不允许重复使用。此版本的版权持有人于2025年1月24日发布。 https://doi.org/10.1101/2025.01.21.634128 doi：biorxiv Preprint
四点抗性测量
此技术论文描述了锁定放大器的最多用途之一，即四点AC固定测量（也称为四端或四线）。材料或设备的电阻（或者通过样品几何形状进行正常的电阻率）是一种基本特性，可用于理解Maperial的电子行为，无论是从物理，材料科学的角度还是电气工程的角度来看[1-3]。的确，它是我们小组中最早的测量之一，以了解新合成的导电材料。例如，金属的电阻率将随温度降低而降低，而随着电荷载体“冻结”，半导体或绝缘体的电阻率将增加。为了进一步量化金属的质量，可以通过测量室温下的电阻比除以低温下的电阻（4 K）来隔离杂质和晶体缺陷的影响。这是所谓的残余电阻率或RRR。完美的金属晶体将在零温度（无限RRR）下具有零分解性，而杂质会导致耐药性饱和至有限的值（较小的RRR）。纵向抗性当然是识别超导性的关键措施[4，5]。电阻率测量的其他用途包括识别
微分四点探针具有高空间分辨率用于离子植入和超浅连接特征
摘要。在这项工作中证明了微型四点探针技术在离子植入非均匀度映射和分析中的应用。该技术使用具有10 µm电极螺距的微米大小探针，以极大地增强了板电阻（RS）测量的空间分辨率。rs由于掺杂剂的分布或激活不均而导致的不均匀性可以通过提高的精度映射，从而更容易检测植入术扫描问题，剂量和电荷控制故障以及与退火器相关的非均匀性。该技术在空间分辨率上的出色性能优于常规四点探针测量值，这是通过晶圆边缘处的零边缘排除板电阻测量来证明的。此外，该技术用于研究等效 + +植入物之间具有相同有效能量的2 +植入物之间的潜在RS变化。最后，通过对所选的ULE植入和退火晶片进行多次测量来研究可重复性和可重复性。