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PVDF基复合薄膜旋涂及微图案化优化
1 巴黎北索邦大学 (USPN) 材料科学实验室 (LSPM-CNRS UPR-3407), 93430 Villetaneuse, France; anhnn@hus.edu.vn (ANN)； thanhhuyen.vltn@gmail.com (HTTN)； valerie.bockelee@lspm.cnrs.fr (VB); frederic.schoenstein@univ-paris13.fr (FS) 2 越南科学技术研究院材料科学研究所，Cau Giay Distr.，河内，越南 3 激光物理实验室 (LPL-CNRS UMR-7538)，巴黎北索邦大学 (USPN)，93430 Villetaneuse，法国； jeanne.solard@univ-paris13.fr 4 Jean Lamour 研究所，UMR 7198 CNRS - 洛林大学 Artem 校区，54000 Nancy，法国 5 R&I 二氧化硅合成工程师，SOLVAY，92400 Courbevoie，法国； ch.benosman@gmail.com 6 巴塞罗那材料科学研究所 (ICMAB-CSIC)，UAB 校区，08193 Bellaterra，西班牙； agomez@icmab.es (AG)； msimon@icmab.es (MS-S.)； anaesther@icmab.es (AEC) 7 PIMM，艺术与工艺学院，CNRS，Cnam，HESAM 大学，151 Boulevard de l'Hopital，75013 巴黎，法国； Sylvie.GIRAULT@ensam.eu * 通讯地址：silvana.mercone@univ-paris13.fr
棱镜图案 MD 膜-f - Enlighten Publications
Liu, Y., Wang, J., Xiao, Z., Liu, L., Li, D., Li, X., Yin, H. 和 He, T. (2020) 具有波纹图案的超疏水聚二氟乙烯膜在直接接触膜蒸馏中的各向异性性能。脱盐，481，114363。
用于 EUV 光刻的光化图案掩模缺陷检测
随着极紫外 (EUV) 光刻技术进入大批量生产，半导体行业已将光刻波长匹配的光化图案化掩模检测 (APMI) 工具视为 EUV 掩模基础设施的主要空白。现在，已经开发出一种光化图案化掩模检测系统来填补这一空白。结合开发和商业化 13.5nm 波长光化空白检测 (ABI) 系统的经验以及数十年的深紫外 (DUV) 图案化掩模缺陷检测系统制造经验，我们推出了世界上第一个高灵敏度光化图案化掩模检测和审查系统 ACTIS A150（ACTinic 检测系统）。生产此 APMI 系统需要开发和实施新技术，包括高强度 EUV 源和高数值孔径 EUV 光学器件。APMI 系统具有高分辨率、低噪声成像，对缺陷具有极高的灵敏度。它已证明能够检测出印刷晶圆上估计光刻影响为 10% CD 偏差的掩模缺陷。
石头上的图案：使计算机运转的简单想法
这是我刚开始学习计算机领域时希望读到的书。与大多数关于计算机的书不同——它们要么是关于如何使用计算机，要么是关于构建计算机的技术（ROM、RAM、磁盘驱动器等），这是一本关于思想的书。它解释或至少介绍了计算机科学领域的大多数重要思想，包括布尔逻辑、有限状态机、编程语言、编译器和解释器、图灵通用性、信息理论、算法和算法复杂性、启发式、不可交换函数、并行计算、量子计算、神经网络、机器学习和自组织系统。任何对计算机感兴趣并阅读这本书的人可能都曾接触过其中的许多思想，但除了正规的计算机科学教育之外，很少有机会看到它们是如何结合在一起的。这本书建立了联系——从简单的物理过程（如关闭开关）到自组织并行计算机所表现出的学习和适应。
幻灯片——用于先进晶圆级封装的苯并环丁烯基介电材料的图案化永久键合
Michael Gallagher、Rosemary Bell、Anupam Choubey、Hua Dong、Joe Lachowski、Jong-Uk Kim、Masaki Kondo、Corey O'Connor、Greg Prokopowicz、Bob Barr、陶氏电子材料
