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World File Search System基马卡劳
CV 阿马杜·伊萨卡
领导分散评估过程，包括： • 根据世界粮食计划署评估质量保证要求制定职责范围。 • 选出由三个联合国机构的主要工作人员和评估参考小组 (ERG) 成员组成的评估委员会 (EC)。 • 组织招募独立评估公司（与采购部门合作） • 协调文件审查过程，以确保世界粮食计划署数据质量支持服务、EC 和 ERG 成员提供的可交付成果（职责范围、初始报告、评估报告草案、最终评估报告）的质量。 • 确保在整个评估过程中遵守时间表、关键里程碑和预算。 • 管理对评估公司的日常支持。 • 与评估公司一起准备和组织数据收集的实地工作。 • 与所有同事、政府官员和任何其他利益相关者/合作者进行有效沟通。 • 定期向 EC 成员、RB 和三个机构的 OEV 通报最新情况。 • 向实施团队通报需要开展的活动、关注点和做出的决定。监测与评估及经济分析主任 (2022 年 11 月 - 2023 年 4 月)
雅基马培训中心 PFAS 响应
为何选择 POET？• 陆军认识到其有责任处理可能因历史陆军活动而释放到环境中的污染物和/或污染物。• 陆军与科学家和工程师合作，仔细而有条不紊地确保将要安装的任何过滤系统都是适合从饮用水中过滤掉 PFAS 的系统。• 为迎接 EPA 预计在 2023 年底发布的最终标准，国防部正在采取行动，准备将 EPA 的最终监管标准纳入其当前的清理流程，例如审查其现有数据并在必要时进行额外采样。• 陆军继续与房主合作，以便他们了解这些系统的外观和运作方式。• PFAS 水平超过 70 ppt 的住宅将继续获得瓶装水，直到安装和测试过滤系统。
怀马卡里里经济发展战略 2024-34
我们非常重视与 Te Ngāi Tūāhuriri Rūnanga 的关系，并将继续与 mana whenua 合作，通过就相关问题进行持续讨论和协商，建立相互理解的关系。 Te Ngāi Tūāhuriri Rūnanga 目前正在制定一项 Kāinga Nohoanga 战略，该战略将重点关注毛利保留地 873 和现有城市地区的住房、经济发展和社会设施/活动。委员会承认，Te Ngāi Tūāhuriri Rūnanga 可能在整个地区广泛的经济活动中拥有利益，而不仅仅是 MR873。委员会将继续与 Te Ngāi Tūāhuriri Rūnanga 合作，支持并推动部落主导的全方位发展活动。
德丹基马蒂科技大学
他就读于尼耶里小学，是 8-4-4 体制下的先锋。年少时的寄宿学校经历培养了他自力更生和专注的意识。Eng. Githinji 是班上三名有资格进入著名的联盟高中的学生之一。对他来说，联盟高中是一种范式转变，他称之为“伟大的均衡器”。这所学校的学生来自遥远的北部曼德拉和洛基乔吉，甚至来自沿海地区和大湖地区。联盟高中的座右铭“坚强服务”成为他服务他人的基石。1989 年，他完成高中学业并考入埃格顿大学攻读农业工程学士学位。尽管表现出色，Eng. Githinji 仍对自己没有获得第一志愿即在内罗毕大学攻读电气工程学位而感到失望。不过，他曾在埃格顿大学短暂任职，并再次结下了终生友谊，这些友谊在他以后的职业生涯中发挥了重要作用，并促使他 30 年后回到肯尼亚。Eng. Githinji 于 1990 年离开埃格顿大学，出国深造。他得到了在加拿大继续深造的机会，在温莎大学阿桑普申工程学院学习电气与电子工程。安大略省温莎市是一座大学城，是一个多元化的堡垒，也是世界最大汽车制造商通用汽车 (GM)、福特和克莱斯勒的所在地。这个国际化和进步的生态系统结合并促进了学术和商业关系。从大一开始，Eng. Githinji 就参与了通用汽车温莎动力传动分部的合作培训。Eng. Githinji 将这种学术和商业合作模式融入其中，并在多年后形成了 STL 劳动力发展的运营战略。Eng. Githinji 于 1995 年毕业，获得电气与电子工程学士学位（荣誉学位）。
氧化铈基复合电解质材料研究进展
单相电解质的低离子电导率已不能满足600 ˚C以下的使用要求，制备高离子电导率的复合电解质成为发展方向。本文综述了掺杂CeO 2 无机盐(碳酸盐、硫酸盐)、掺杂CeO 2 金属氧化物以及掺杂CeO 2 钙钛矿复合电解质，分析了第二相对CeO 2 基电解质性能的影响。由于独特的H + /O 2−共导电性，无机盐的加入可以提高掺杂CeO 2 无机盐复合电解质的电导率。掺杂CeO 2 钙钛矿体系总电导率的提高可能是由于晶界电导率提高引起的。在掺杂CeO 2 金属氧化物体系中加入氧化物可以降低烧结温度，提高晶界电导率。以期为制备性能优异的二氧化铈复合电解质提供理论指导。
用于元件抛光的CeO2基复合材料的研究进展
Figure 7. Morphologies and surface roughness values of (a) the initial surface and the polished surface under conditions of (b) without UV-light, (c) TiO 2 film electrode with UV-light, (d) TiO 2 film electrode with UV-light and anodic bias, (e) CeO 2 -TiO 2 composite-film electrode with UV-light and (f) CeO 2 -TiO 2 composite-film elec- trode with UV-light and anodic bias [31] 图 7. (a) 初始表面； (b) 无紫外光条件下抛光表面； (c) 有紫外光并使用用 TiO 2 薄膜电极抛光下表 面； (d) 在有紫外光和阳极偏压的 TiO 2 薄膜电极下抛光表面； (e) 有紫外光并使用 CeO 2 -TiO 2 复合 膜电极下抛光表面； (f) 有紫外光和阳极偏压的 CeO 2 -TiO 2 复合膜电极抛光表面的形貌和表面粗糙 度值 [31]