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乔纳斯·纳姆证词
1. 中国对新能源技术的追求中国的投资——不仅在新能源技术的研发上，而且特别是在这些技术的制造能力上——长期以来一直是中国国内经济定位于关键新兴工业领域的广泛战略的一部分。从 21 世纪初的风能行业开始，到 2009 年金融危机后的太阳能行业，以及最近的电动汽车和电池储能行业，中国中央政府一直支持新能源技术，以结合气候和经济目标并创建出口就绪的工业部门。中国现在在通过降低电力和交通运输部门的碳排放来解决气候危机最需要的技术的大规模生产方面处于世界领先地位。这些新能源技术包括风力涡轮机、太阳能电池板、电动汽车和电池。自 2001 年加入世界贸易组织以来，中国在全球太阳能光伏发电中的份额迅速增长，从不到 1% 跃升至全球太阳能电池板的 60% 以上。中国是世界上最大的电动汽车生产国之一；中国生产的风力涡轮机占全球总产量的三分之一以上，为全球风力涡轮机装置生产的零部件也占了很大一部分。中国拥有全球三分之二以上的电动汽车和储能所需锂离子电池产能。中国与欧盟现在也是世界上最大的电动汽车市场之一。1 在很大程度上，由于中国在绿色技术领域的制造业进行了前所未有的投资，清洁能源技术的成本大幅下降。自 2009 年以来，全球风力涡轮机和太阳能电池板的价格分别下降了 69% 和 88%，使得这些产品的价格下降。
新颖的纳米结构纳米线和纳米壳
使它们适合于纳米素质，纳米传感，纳米电子等学科等。[5]。有许多类别的纳米线，根据其组成，结构和特性进行分组。•半导体纳米线：这些是使用硅，硝酸盐或氧化锌等半导体材料生产的，并在电子和光子学中广泛使用，用于半导体，太阳能电池，太阳能电池和光发射diodes（LEDS）等。[6]。•金属纳米线：这些由金，银或铜等金属元素组成，并用于导电电极/膜等应用中，作为化学过程的催化剂等。[7]。•氧化物纳米线：这些纳米线是使用金属氧化物（如二氧化钛或氧化铁）产生的，并用作传感器，催化剂和基于能量的储存电子[8]。•碳纳米管：具有类似于纳米线的特性的空心纳米结构。他们在电子，材料科学和生物医学工程中有应用[9]。•混合纳米线：这些由不同的
塞内卡福尔斯和塞内卡县的经济和财政影响
根据 Seneca Meadows 提供的工资记录，CGR 计算了该工厂的直接和溢出经济影响。直接就业和工资是直接来自公司的。间接影响是该公司在该地区花费 2650 万美元购买设备、材料和用品的结果。诱发影响是该公司员工支出的结果。间接影响和诱发影响合并在一起并报告为“溢出”。CGR 还估计了这些工资数字将如何推动州和县销售税以及纽约州所得税的增加。
博纳量子和博纳量子 T
Bona Quantum 和 Bona Quantum T 优质镶木地板胶粘剂 Bona Quantum 和 Bona Quantum T 是符合 DIN EN ISO 17178 标准的硬弹性单组分硅烷基胶粘剂，可用于安装各种硬木和复合地板。Bona Quantum T 具有更高的粘度，可提高绿色抓取力。该胶粘剂采用革命性的钛交联技术，可快速交联，并具有较高的初始粘结强度。其独特配方在一个有效的产品中同时提供了硬弹性和硬胶粘剂的优点。确保在整个使用寿命期间获得完美的效果和均衡的地板。此外，Bona Quantum 可用作混凝土板或水泥砂浆的防潮层，残留水分含量高达 5 CM-% 或 95 % rh**。易于使用、肋条稳定性良好和绿色特性使 Bona Quantum 成为日常使用的优质胶粘剂。 Bona Quantum T 管状袋非常适合与 Bona OptiSpread 系统配合使用。• 强大的钛交联 • 12 小时后可打磨地板 • 集成防潮层 • 适用于多种用途 • 提高剪切强度 • 可用于金属表面
博士格纳纳·库马尔先生
类型 国际 国家 在 UGC-CARE 列出的期刊上发表的论文 145 --- 在同行评审期刊上发表的论文（上面未提及） - -- 出版的书籍 1 -- 编辑的书籍 -- -- 对书籍章节的贡献 3 会议 / 研讨会论文集的编辑 - 在会议 / 研讨会论文集上发表的论文 2 -- 在会议 / 研讨会上发表的论文 74 68 存放在 CCDC、PDB 等中 -
混合介电质量质量纳米ante纳纳纳与... -dr -ntu
dmitriev，P.A.，Lassalle，E.，Ding，L.，Pan，Z.，Neo，D.C.J.，Valuckas，V.，Paniagua -dominguez，R.，Yang，J.K.W.，Demir，H。V.（2023）。杂种介电 - 质量纳米antena，具有子波长光子源的多散性。ACS Photonics，10（3），582-594。https://dx.doi.org/10.1021/acsphotonics.2c01332
迪拉塞 250
Dilase 250 是一款实用的台式高分辨率激光光刻系统。因此，可以使用 Dilase 250 在对蓝色或紫外线激光波长敏感的光刻胶中写入光刻微结构，方法是使用发射波长为 375 或 405 nm 的固定连续激光源。写入表面可以延伸至 4 英寸，而可实现的最小特征尺寸（宽度）为 1 µm。该设备提供矢量和扫描写入模式，并确保轨迹在 100 nm 的最大偏差范围内。随附的电动光学聚焦系统提供快速和精细的聚焦设置，以满足各种基板厚度要求，从 150 µm 到 5 mm。这款紧凑型系统还为基板室提供了可选的晶圆装载和卸载系统，从而提高了清洁度、提高了产量并提高了用户安全性。Dilase 250 系统与大多数市售光刻胶兼容，例如 SU8、Shipley 和 AZ 光刻胶。它仅针对与 KLOE 开发的用于高纵横比微结构化应用（1x20）的 K-CL 光刻胶配合使用进行了优化，通过激光光刻技术。