Yujie Ding,美国利哈伊大学,主席 Weili Zhang,美国俄克拉荷马州立大学,替补主席 Jerry Chen,美国麻省理工学院林肯实验室 Nils Fernelius,美国空军研究实验室 Manfred Helm,德国德累斯顿-罗森多夫研究中心 Iwao Hosako,日本国立信息通信技术研究所 Hiromasa Ito,日本理化学研究所 Peter Jepsen,日本理工大学丹麦,丹麦 Thomas Kleine-Ostmann,德国联邦物理技术研究院 Ajay Nahata,Univ.美国犹他州 Tsuneyuki Ozaki,国家科学研究所加拿大科学研究中心 Ci-Ling Pan,Natl.清华大学,中国 石伟,NP Photonics,Inc.,美国 David Zimdars,Picometrix,LLC,美国
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根据 Seneca Meadows 提供的工资记录,CGR 计算了该工厂的直接和溢出经济影响。直接就业和工资是直接来自公司的。间接影响是该公司在该地区花费 2650 万美元购买设备、材料和用品的结果。诱发影响是该公司员工支出的结果。间接影响和诱发影响合并在一起并报告为“溢出”。CGR 还估计了这些工资数字将如何推动州和县销售税以及纽约州所得税的增加。
Dilase 250 是一款实用的台式高分辨率激光光刻系统。因此,可以使用 Dilase 250 在对蓝色或紫外线激光波长敏感的光刻胶中写入光刻微结构,方法是使用发射波长为 375 或 405 nm 的固定连续激光源。写入表面可以延伸至 4 英寸,而可实现的最小特征尺寸(宽度)为 1 µm。该设备提供矢量和扫描写入模式,并确保轨迹在 100 nm 的最大偏差范围内。随附的电动光学聚焦系统提供快速和精细的聚焦设置,以满足各种基板厚度要求,从 150 µm 到 5 mm。这款紧凑型系统还为基板室提供了可选的晶圆装载和卸载系统,从而提高了清洁度、提高了产量并提高了用户安全性。Dilase 250 系统与大多数市售光刻胶兼容,例如 SU8、Shipley 和 AZ 光刻胶。它仅针对与 KLOE 开发的用于高纵横比微结构化应用(1x20)的 K-CL 光刻胶配合使用进行了优化,通过激光光刻技术。
项目要求 需要定期维护疏浚,每 3 至 5 年一次,疏浚量约为 9,000 至 15,000 立方码。 部分河流的上一次疏浚是在 2015 年。 沉积物采样已使用 FY23 资金完成。 将使用 FY24 资金启动疏浚物管理初步评估。 需要进行维护疏浚,但疏浚前需要确定和协调放置地点。 项目的洪水风险管理组件(堤坝系统)需要维修。北堤坝的堤坝在 2012 年进行了大规模重建。南堤坝需要维修。 南堤坝维修的工程和设计正在使用 FY23 BIL 资金完成。这些维修的建设资金由 FY24 BIL 提供。 北岸需要进行小规模维护,包括修复剥落的混凝土、修复土堤和安装挡水板起重设备。