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World File Search System如钼二二
从黄龙病作为一种免疫介导的植物疾病中吸取的教训
此外，通过施用微量元素[硼 (B)、铁 (Fe)、钼 (Mo)、镍 (Ni) 和锌 (Zn)] 可能诱导抗氧化酶的活性，以减少 ROS 的损害。微量元素对植物生长至关重要。此外，适当浓度的硼、铜、铁、锰 (Mn)、钼、镍、硒或锌可激活内源性抗氧化酶和非氧化代谢，从而减轻 ROS 的损害 (Tavanti 等人，2021 年)。与阴性对照相比，土壤施用锰和锌，或镁 (Mg) 和硼，以及叶面喷施锰、锌、Mg 和钼可显著缓解 HLB 症状 (Shen 等人，2013 年；Atta 等人，2021 年；Zhou 等人，2021 年)。然而，一旦 HLB 对树木造成严重损害，对 HLB 管理的积极作用似乎就会受到限制（Gottwald 等人，2012 年）。
X 射线布拉格衍射 - 测量 NaCl 中的晶面间距 Darrel Smith 博士 1
产生 X 射线的第一步是通过 25-35 kV 的大电位差加速电子。当电子撞击钼靶时，它们会通过称为轫致辐射（断裂辐射）的过程减速。当小质量带电粒子（例如电子）经过大质量带电粒子（例如钼原子核）附近时，就会产生 X 射线。电子通过多次散射原子核而快速减速，从而导致发射多条 X 射线，在极少数情况下，当电子将其所有动能都交给单个原子核时，会发射出一条高能 X 射线。最后一个过程对应于 X 射线能谱的终点能量，这可通过查看图 2 中所示的光谱左端来观察。钼表面（阳极）与入射电子束成一定角度，以利于在特定方向产生 X 射线。图 2 显示了钼靶的能量谱。距离其产生点不远处是一个准直管，它允许一条狭窄的水平 X 射线带通过，到达结晶的 NaCl 靶。当 NaCl 靶（搁置在测角仪上）相对于入射 X 射线的角度倾斜刚好正确（θ）时，就会发生建设性干涉，并且在位于 2 θ 角的盖革-穆勒管中可以观察到增加的计数率（计数/秒）。如图 3 所示。
Mo -Si System的硅化硅的主要特性
摘要。使用Magnetron-ION溅射，将一层金属钼1–2μm厚的金属钼沉积在环境温度下惰性氩气的大气中，该硅通过Czochralski方法生长的硅单晶表面。根据实验的结果，纯Mo层厚度为2μm，通过磁控蛋白的反应性溅射从高度纯的金属钼靶中沉积到冷硅晶片底物上，厚度为1.5 mm。仅在严格定义的钼金属沉积速率对应于体积中给定的巨质压力的情况下，它们的电导率和透明度也很高。溅射目标是直径为40 mm的磁盘，厚度为3-4 mm。产品处理的技术周期包括目标清洁的阶段。在不添加氧气的情况下将金属MO靶标溅射在纯氩AR中，可以促进具有非常好的电导率的不透明金属膜的形成。X射线衍射分析具有Mo金属涂层表面的硅单晶体显示了Moleybdenum-Silicon系统中的MO3SI和MOSI.65的化合物。硅硅硅酸盐被发现在温度范围1850÷1900°C的温度范围内经历同类肌转化，而低温品种 -MOSI2具有四方结构。 -MOSI2的高温形式具有六边形结构。使用原子扫描显微镜进行研究的结果表明，硅原子的链与MO原子连接，形成沿平行X和Y轴的MO结构的棱镜形成的锯齿形。
402-GT-2020.pdf
（2），如果以情况为例，生成公司或传输持有人的资产进行了资产，则资产的原始成本（如脱二二型日期）应从固定资产的价值和相应的贷款中扣除，并从额外的贷款中扣除，并在年度范围内分别扣除了股票，并应逐步调整，以进行额外的调整，以进行额外的贷款。偿还贷款，应考虑其资本化的一年。”
作者索引 - ASTM 国际
泡沫钽，30 拉伸性能，钛合金，71 三点弯曲试验，113 Ti-15Mo-2.8Nb-0.2Si，151 Ti-29Nb-13Ta-4.6Zr，135 Ti-6Al-4V，151 Ti-6Al-4V ELI，177 Ti-6Al-7Nb，113，177 Ti-Fe-ON 合金，103 Timetal® 21SRx，151 TiOsteum®，3，30 组织反应，钛合金，120 工业纯钛，151，177，196 钛-12钼-6锆-2铁β钛合金，机械和物理性能，3 钛-15钼，71，83，177钛-35铌-7锆-5钽β钛合金，30，52 钛合金，83，103，120 时效处理，52 铸造，113 腐蚀疲劳，177 模块化柄，215 骨科植入物，30 应力腐蚀开裂，166 表面特性，151 钛合金，3 钛粉，30 钛/钛合金，3 TMZF®β钛合金，3 毒性，248 Trabecular Metal™，30
作者索引 - ASTM International
泡沫钽，30 拉伸性能，钛合金，71 三点弯曲试验，113 Ti-15Mo-2.8Nb-0.2Si，151 Ti-29Nb-13Ta-4.6Zr，135 Ti-6Al-4V，151 Ti-6Al-4V ELI，177 Ti-6Al-7Nb，113，177 Ti-Fe-O-N 合金，103 Timetal® 21SRx，151 TiOsteum®，3，30 组织反应，钛合金，120 工业纯钛，151，177，196 钛-12钼-6锆-2铁β钛合金，机械和物理性能，3 钛-15钼，71，83，177钛-35铌-7锆-5钽β钛合金，30，52 钛合金，83，103，120 时效处理，52 铸造，113 腐蚀疲劳，177 模块化柄，215 骨科植入物，30 应力腐蚀开裂，166 表面特性，151 钛合金，3 钛粉，30 钛/钛合金，3 TMZF®β钛合金，3 毒性，248 Trabecular Metal™，30
第 65 届年度技术会议论文集：2022 年 5 月 2 日至 5 日 © 2022 真空镀膜协会保留所有权利，ISSN 0737-5921，ISBN 978-1-8780
钼 (Mo) 和钨 (W) 因利用这些难熔金属的特殊材料特性而得到广泛的应用。演讲将概述 Mo 和 W 在微电子、显示器和太阳能行业的重要应用，并介绍特定应用所需的最相关材料特性。钼因其在玻璃上的优异附着力、高电导率和良好的扩散阻挡性能而用于显示器的薄膜晶体管 (TFT) 和薄膜太阳能电池的电极。Mo 和 W 薄膜的高密度和良好的电阻率对于 MEMS 组件（如 RF 滤波器 (SAW/BAW) 或压电传感器）非常重要。在半导体制造中，由于电子在小临界尺寸下的平均自由程较长，Mo 和 W 可以作为薄膜材料发挥关键作用，以实现更小的节点和器件结构。对于电致变色应用，通常使用氧化钨基材料作为有源层。