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具有纳米晶界的等静压热压 W-Cu 复合材料：微观结构、组织及对伽马射线的辐射屏蔽效率
1 磁膜物理实验室，SSPA“白俄罗斯国家科学院科学与实用材料研究中心”，P. Brovki 街 19，220072 明斯克，白俄罗斯；fix.tatyana@gmail.com (TIZ)；zheludkevich27@gmail.com (ALZ)；ir23.by@gmail.com (IUR)；bondruk625@gmail.com (AAB)；katenickerd@gmail.com (EKZ)；truhanov86@mail.ru (AVT) 2 南乌拉尔国立大学单晶生长实验室，列宁大街 76，454080 车里雅宾斯克，俄罗斯 3 联合核研究中心弗兰克中子物理实验室，Joliot-Curie 街 6，141980 杜布纳，俄罗斯； vershinina@nf.jinr.ru 4 杜布纳国立大学自然科学与工程科学学院，Universitetskaya Str. 19, 141980 Dubna，俄罗斯 5 白俄罗斯国立信息与无线电电子大学微纳米电子系，P. Brovki Str. 6, 220013 Minsk，白俄罗斯 6 东北大学资源环境系，沈阳市文化路 3-11 号 110819，中国；mg_dong@163.com 7 乌拉尔联邦大学物理与技术研究所，Mira Str. 19, 620002 Yekaterinburg，俄罗斯；mokhamed.khanfi@urfu.ru 8 核材料管理局，El Maadi，开罗 PO Box 530，埃及 9 伊斯拉大学理学院物理系，Al Hezam Road，安曼 1162，约旦； dr.mabualssayed@gmail.com 10 核医学研究系，医学研究与咨询学院，伊玛目阿卜杜拉赫曼·本·费萨尔大学，沙特阿拉伯达曼 31441 11 莫斯科谢切诺夫第一国立医科大学生物医学科技园，Bolshaya Pirogovskaya Str. 2/4，119991 莫斯科，俄罗斯；sil_m@mail.ru 12 国立科技大学 MISiS 电子材料技术系，列宁大街 4/1，119049 莫斯科，俄罗斯 * 通讯地址：dashachushkova@gmail.com (DIT)；sv_truhanov@mail.ru (SVT)；电话：+375-29-562-81-87 (DIT)；+375-29-536-86-19 (SVT)
对于使用 AST 产品的典型任务（在低地球轨道运行 10 年），考虑到其固有屏蔽，可以假设剂量高达 40 千拉德。
辐照在德国奥伊斯基兴的“弗劳恩霍夫自然科学技术趋势分析研究所”进行，使用最大剂量率为 720 krad/h 的 60 Co 源和单独的中子源。同位素 60 Co 经 β 衰变为 60 Ni，半衰期约为 5.3 年，后者通过发射能量为 1.172 MeV 和 1.332 MeV 的伽马射线衰变为镍的基态 [3]。弗劳恩霍夫 INT 的 THERMO-Fisher D-711 中子发生器通过以 150 kV 的电压将氘离子 (D = 2H) 加速到氘或氚靶 (T = 3H) 上来产生中子。在靶内发生DD或DT核聚变反应，分别释放氦同位素3He和4He，以及能量分别为2.5MeV和14.1MeV的快中子[4]。3.被测装置
电磁干扰屏蔽材料及应用
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工程师的应用概述：EMI 屏蔽
在莱尔德，“多功能”有着广泛的定义。通常，它指的是现在成功缓解 EMI 和过热问题的莱尔德产品。当设备同时面临 EMI 和散热问题（且空间严重受限）时，莱尔德日益增多的多功能产品可通过单一工艺设计帮助解决这两个问题。莱尔德可为具有独特设计需求或现成解决方案不可行的客户提供定制的 EMI 屏蔽解决方案。此类定制解决方案可采用独特的外形尺寸抑制来自多个噪声源的 EMI，并提供散热途径。利用最先进的设计和建模技术，莱尔德工程团队可提供快速原型，并帮助轻松过渡到定制解决方案的中大批量生产。
EMI 屏蔽技术和概念的基本概述
电路级解决方案是消除传导 EMI 的标准做法，但辐射 EMI 抑制却没有如此简单的解决方案。在不产生新噪声问题的情况下提供辐射 EMI 屏蔽的主要挑战在于电路板和外壳层面。实施电路板级解决方案需要时间和经验。在试验不同的解决方案时，将这些解决方案纳入 PCB 布局可能会引发一系列失败的原型设计运行。众所周知，外壳级解决方案由于难以实施明确的接地策略而会产生新的噪声问题，而外壳辐射 EMI 抑制的选项范围通常仅限于法拉第笼。
分析和预测饱和砂中地铁屏蔽隧道的长期沉降
通常10〜20mm，沿隧道的沉降相对稳定。但是，东部部分的沉降相对较大，其中大多数高于30mm，并且有沉降凹陷。理性分析：沿线西部的地面上有大量建筑设施，这会在隧道所在的层上造成额外的压力，巩固和压缩土壤层。更重要的是，额外的压力的存在等同于埋葬深度的增加，使位置层具有更高的外壳。东部沿线的地面主要位于宽敞的地区，并且没有密集的地面建筑物（例如，沿着东北沿线的地面是一个果园），周围的
分析大直径屏蔽式隧道侧形的高架桥桩基础的施工影响
由实体元素（C3D8R）模拟。理想的弹性塑构的关系用于土壤。由于Mohr-Coulomb模型的参数很容易确定，并且在现场占主导地位，因此Mohr-Coulomb标准用作土壤的屈服标准。根据岩土工程的调查报告，计算中使用的土壤参数的调查报告确定了模型中地层的物理机械参数。使用线性弹性构成关系
金属网与石墨烯复合的光学透明微波屏蔽混合薄膜
摘要 — 具有宽带电磁屏蔽能力的透明导电材料在航空航天、医疗设备和电子通信领域有着广泛的应用。在不牺牲太多光学透明度的情况下实现增强的电磁屏蔽效果是学术界和工业界的技术趋势。在这里，我们通过实验提出了一种由纳米印刷基金属网和石墨烯涂层构成的柔性混合薄膜，用于透明电磁屏蔽应用。进行数值分析以研究电磁屏蔽和光学透明度之间的最佳平衡。在实验中，与参考组（仅有金属网的情况）相比，混合薄膜的屏蔽能力增强，而不会过度牺牲光学透射率。我们的工作为高性能光学透明屏蔽材料提供了一个混合平台，用于电磁环境保护。
Cu的铜金属膜的原子层沉积（... 激光能量输入和屏蔽气流对Zn Metal的激光粉床融合期间蒸发烟气的影响 从改善粮食安全的创新中删除政治 现实生活中的自我控制是在偏好决策过程中的顶活动预测的：大脑解码分析 使用可充电海水电池同时存储和海水脱盐：可行性和未来方向
铜金属由于其低电阻率和对电子的高电阻性而高度偏爱微电子的相互作用。[1]微电子设备中最小特征的尺寸计划到2022年达到3 nm限制，[2]设定了越来越严格的需求，以使该技术沉积该设备制造的连续低电阻式CUFILMS。原子层沉积（ALD）是一种基于相互脉冲前体的领先的气相薄膜技术 - 是微电子行业的理想选择，因为它固有地提供了高度的相结合薄膜，而不是复杂的几何形状和高光谱比率结构，并且可以使用高含量比率结构，并且可以覆盖厚度较高。[3] Challenge是为了找到行业，有效和可靠的ALD
