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制造工艺杂志
使用激光束的热丝定向能量沉积 (DED-LB/w) 是一种金属增材制造 (AM) 方法，具有材料利用率和沉积速率高的优点，但 DED-LB/w 制造的零件存在热输入较大和表面光洁度不理想等问题。因此，在沉积过程中调节工艺参数和监测工艺特征以控制最终质量对于确保最终零件的质量至关重要。本文探讨了 DED-LB/w 工艺的动态建模，并介绍了一种参数-特征-质量建模和控制方法，以提高建模质量和对无法现场测量的零件质量的控制。该研究调查了影响单层和多层焊珠中熔池宽度（特征）和焊珠宽度（质量）的不同工艺参数。提出的建模方法使用参数特征模型作为 F 1 和特征质量模型作为 F 2 。比较了线性和非线性建模方法来描述工艺参数和工艺特征即熔池宽度 (F 1 ) 之间的动态关系。采用全连接人工神经网络根据熔池特征 (F 2 ) 对最终部件质量（即熔滴宽度）进行建模和预测。最后，通过将参数特征 (F 1 ) 和特征质量 (F 2 ) 模型集成到部件宽度的闭环控制中，测试并验证了所提出的参数特征质量建模的有效性和实用性。与仅使用 F 1 的控制回路相比，所提出的方法显示出明显的优势，并有可能应用于控制无法直接测量或现场监测的其他部件质量。
GaAs MESFET 及相关工艺
摘要。自 1971 年 GaAs MESFET 问世以来，GaAs 的生长和加工技术已经成熟到模拟和数字 IC 生产已在工业水平上进行的程度。对更高工作频率、低噪声系数和更高增益的不断增长的需求导致了基于 GaAs 和相关化合物的 HEMT 和 HJBT 等较新的器件结构的出现。此外，GaAs 和相关化合物还具有产生、检测和将光转换为电信号的令人兴奋的和经过验证的能力。这开辟了光电器件及其与 MESFET 和其他传统器件集成的广阔领域。所有这些开发活动的基本构建块仍然是 GaAs MESFET，它也被广泛用作低噪声放大器、混频器、振荡器和离散形式的高功率放大器。本文回顾了低噪声和高功率 MESFET 的设计方面、制造技术、直流和微波特性。回顾了各种技术进步，如用于源极接地的通孔、用于低寄生互连的空气桥技术和聚酰亚胺钝化，这些技术进步有助于进一步提高工作频率、降低噪音和高功率输出。最后，还介绍了中国电气与电子研究所制造的一些代表性器件结果。
设备和工艺确认的捷径...
“ENIAC 上的计算器配备了 18,000 个真空管，重 30 吨，而未来的计算机可能只有 1,000 个真空管，重量可能只有 1.5 吨。”−《大众机械》，1949 年 3 月。
WAAM 工艺参数的影响
（a） 5.6±0.6 11.9±0.8 159.2±5.5 31 5.2±0.6 151.6±11.5 （b） 8.0±1.3 13.4±1.5 205.8±8.7 35 4.7±0.3 220.6±26.4 （c） 9.7±-1.7 15.9±1.6 218.5±-14.6 38 4.3±0.6 277.9±28.6 （d） 5.3±-0.5 11.5±0.6 159.8±2.3 34 4.8±0.6 117.6±6.4 （e） 8.3±-1.4 13.7±1.5 209.5±8.5 37 4.4±0.7 183.7±21.4 （f） 9.2±-1.3 14.0±1.5 229.1±15.7 46 3.5±1 205.3±22.6 （g） 5.2±-0.6 11.6±0.6 158.7±4.8 35 4.7±0.5 98.2±5.9 （h） 7.8±-0.9 13.2±0.9 210.3±8.4 38 4.3±0.8 148.1±11.7 （i） 8.7±-1.3 14.9±1.3 226.4± 14.5 40 4.0 ± 0.6 179.9 ± 16.1 187
GA-ASI 特殊工艺清单
AMS2700 1 耐腐蚀钢的钝化 ASTM B912 1 通过电解抛光对不锈钢合金进行钝化 电镀 AMS2460 1 镀铬 AMS-QQ-C-320 1 镀铬（电沉积） AMS2403 1 镀镍（通用） AMS-QQ-N-290 1 镀镍（电沉积） AMS2418 1 镀铜 ASTM B545 1 锡电沉积涂层标准规范 MIL-T-10727 1 锡镀层：电沉积或热浸，用于黑色金属和有色金属 MIL-G-45204 1 镀金，电沉积 ASTM B700 1 银电沉积涂层标准规范 AMS-QQ-S-365 1 银镀层，电镀，一般要求 ASTM B633 1 钢铁上锌电镀层的标准规范 AMS-QQ-Z-325 1 锌涂层，电镀层 ASTM F1941 1 机械紧固件电镀层的标准规范 AMS2417 1 镀层，锌镍合金 AMS2461 1 镀层，锌镍合金（12 至 16% 的 Ni） AMS-QQ-P-416 1 镀层，镉（电镀） 化学镀 AMS2404 1 镀层，化学镀镍 AMS-C-26074 1 化学镀镍涂层 油漆 MIL-DTL-18264 1 表面处理，有机，武器系统，应用和控制 MIL-PRF-22750 1 涂层：环氧树脂，高固体 MIL-PRF-23377 1 底漆涂层：环氧树脂，高固体 MIL-PRF-85285 1 面漆，飞机和支持设备 MIL-PRF-85582 1 性能规范：底漆涂层：环氧树脂，水性 UBC90992 2 整流罩，底漆和面漆应用 UBC90990 2 聚氨酯雨蚀涂层干膜润滑剂的应用 MIL-PRF-46010 1 润滑剂，固体膜，热固化，防腐 (S-1738) AC7108/7 IVD 铝 MIL-DTL-83488 1 涂层，铝，高纯度（离子气相沉积 (IVD)）热处理 AMS2770 1 锻造铝合金零件的热处理 AMS2771 1铝合金铸件AMS2774 1 镍合金及钴合金零件的热处理
产品/工艺变更通知
TLE9261-3BQX SP001611010 TLE92613BQXXUMA1 PG-VQFN-48-31 TLE92613BQXXUMA1 TLE9261-3BQX V33 SP001611060 TLE92613BQXV33XUMA1 PG-VQFN-48-31 TLE92613BQXV33XUMA1 TLE9261BQX SP001611020 TLE9261BQXXUMA1 PG-VQFN-48-31 TLE9261BQXXUMA1 TLE9261BQX V33 SP001611024 TLE9261BQXV33XUMA1 PG-VQFN-48-31 TLE9261BQXV33XUMA1 TLE9262-3BQX SP001611028 TLE92623BQXXUMA1 PG-VQFN-48-31 TLE92623BQXXUMA1 TLE9262-3BQX V33 SP001611032 TLE92623BQXV33XUMA1 PG-VQFN-48-31 TLE92623BQXV33XUMA1 TLE9262BQX SP001611036 TLE9262BQXXUMA1 PG-VQFN-48-31 TLE9262BQXXUMA1 TLE9262BQX V33 SP001611056 TLE9262BQXV33XUMA1 PG-VQFN-48-31 TLE9262BQXV33XUMA1 TLE9263-3BQX SP001611040 TLE92633BQXXUMA1 PG-VQFN-48-31 TLE92633BQXXUMA1 TLE9263-3BQX V33 SP001611044 TLE92633BQXV33XUMA1 PG-VQFN-48-31 TLE92633BQXV33XUMA1 TLE9263BQX SP001611048 TLE9263BQXXUMA1 PG-VQFN-48-31 TLE9263BQXXUMA1 TLE9263BQX V33 SP001611052 TLE9263BQXV33XUMA1 PG-VQFN-48-31 TLE9263BQXV33XUMA1
药物化学工艺系
mwierzch@ump.edu.pl 电话 +48 61 641 84 28 化学博士Zbigniew Dutkiewicz 助理教授 zdutkie@ump.edu.pl 电话 +48 61 641 84 29 博士Wojciech Szczołko 助理教授 wszczolko@ump.edu.pl 电话 +48 61 641 84 30 化学博士Barbara Wicher 助理教授 basia.wicher@wp.pl 电话 +48 61 641 84 32 药学博士Tomasz Koczorowski 助理教授 tkoczorowski@ump.edu.pl 电话 +48 61 641 84 29 博士Dariusz Młynarczyk 助理教授 mlynarczykd@ump.edu.pl 电话 +48 61 641 84 30 博士Dawid Łażewski 助理教授 dlazewski@ump.edu.pl 电话 +48 61 641 84 28 Dr Mohit Kumar Tivari 助理教授 电话 +48 61 641 84 29 M.Sc. Eng. Rita Kuba 办公室助理 rkuba@ump.edu.pl 电话 +48 61 641 84 26 Mgr Agnieszka Gielara - Korzanska 技术员 agnieszka.gielara@op.pl 电话 +48 61 641 84 28 Beata Kwiatkowska 技术员 kwiatkowskabeata@op.pl 电话 +48 61 641 84 30