用于 mmWave 封装测试的 xWave 平台 • 信号完整性 – 短阻抗控制共面波导 (CPW) – 测试仪和 DUT 之间的 1 个转换(连接器到引线框架) – DUT 球接触 CPW • 集成解决方案(PCB/接触器合一) – 包括从测试仪到 DUT 的完整 RF 路径 – 用于电源和控制信号的 Pogo 引脚 • 生产封装测试解决方案 – 坚固的引线框架可持续数百万次循环 – 机械组装完全可现场维护 – 包括校准套件(s 参数) – 用于三温测试(-55 至 155°C)的 CTE 匹配材料
“自然发展了一些有史以来最精致,最先进的材料。这些天然发生的纤维的物理,机械和化学特性可以帮助解决我们面临的许多工程挑战,但是没有人能够使用诸如静电纺丝和湿旋转的现有技术在工业范围内制造这些生物纤维,”加拿大弗拉姆普顿(John Frampton)博士在Dalhousie和Bi Bioficific官员的加拿大生物生物生态学研究主席说:“使用静电纺织品和湿旋转旋转。“我们的3D生物纤维团队已经解决了使用专有的可扩展过程制作高质量生物纤维的问题,该过程已经比当前技术高至少600倍。迄今为止,制造量表的问题限制了这些生物复合材料的工业应用。凭借我们扩展生产的能力,我们希望改变生物复合市场!”
范围和章节大纲 本章旨在简要概述晶圆级封装 (WLP),包括晶圆级芯片规模封装 (WLCSP) 和扇出型封装,作为这些技术未来发展路线图的背景。本文并非旨在提供详细的历史,也不是与这些技术相关的所有可能的结构、工艺和材料的详细描述。在有关该主题的各种文章和书籍中可以找到更详细的信息。本章试图回顾 WLP 技术迄今为止的发展,并预测未来的需求和挑战。 晶圆级封装是指在晶圆仍为晶圆时对芯片进行封装,可以单独封装,也可以与其他芯片或其他组件(例如分立无源器件)或功能组件(例如微机电系统 (MEMS) 或射频 (RF) 滤波器)组合封装。这允许使用异构集成进行晶圆级和面板级封装。尽管从定义上讲,WLP 历来都是使用直径为 200 毫米或 300 毫米的圆形晶圆格式生产的,但多家供应商正在将类似的制造方法扩展到矩形面板格式。这将允许不仅在晶圆级基础设施(晶圆级封装,或 WLP)上制造异构封装,而且还可以在面板级基础设施(面板级封装,或 PLP)上制造异构封装。本章将包括异构集成路线图 (HIR) 的 WLP 和 PLP 格式。本章分为 7 个部分:1. 执行摘要 2. 晶圆级封装的市场驱动因素和应用 3. 晶圆级封装概述:技术、集成、发展和关键参与者 4. 技术挑战 5. 供应链活动和注意事项 6. 总结、最终结论和致谢 7. 参考文献
摘要:化脓性链球菌 Cas9 蛋白 (SpCas9) 是微生物中基于 CRISPR 的免疫系统的一个组成部分,已广泛用于基因组编辑。该核酸酶与向导 RNA (gRNA) 形成核糖核蛋白 (RNP) 复合物,从而诱导 Cas9 结构变化并触发其切割活性。在这里,电子圆二色性 (ECD) 光谱用于确认 RNP 的形成并确定其各个组成部分。ECD 光谱具有区分 Cas9 和 gRNA 的特征,前者显示出负/正谱,最大值位于 221、209 和 196 nm,而后者显示出正/负/正/负模式,条带分别位于 266、242、222 和 209 nm。首次展示了 gRNA:Cas9 RNP 复合物的实验 ECD 光谱。它表现出双标记正/负 ECD 偶联,最大值位于 273 和 235 nm,并且与每个 RNP 成分的单独光谱有显著不同。此外,Cas9 蛋白和 RNP 复合物在 ECD 测量后仍保留生物活性,并且它们能够在体外结合和裂解 DNA。因此,我们得出结论,ECD 光谱可被视为一种快速且无损的方法,用于监测 Cas9 蛋白因 Cas9 和 gRNA 相互作用而发生的构象变化,以及鉴定 gRNA:Cas9 RNP 复合物。
半导体行业是新加坡的主要制造业之一;占2014年制造总价值的17.6% - 该行业雇用了3600名工人,约占电子劳动力总数的53%。今天,新加坡是世界上三大晶圆铸造厂的所在地,全球四家顶级外包组装和测试服务公司,以及世界上9家顶级女装的半导体公司。其中一些公司包括Broadcom,NXP,Mediatek,Micron Semiconductor Asia PTE Ltd,United Microelectronics Corporation,STATS CHIPPAC,QUAPCOM,Qualcomm和Silicon Manufacturing Company的系统。在2013年,我们的晶圆厂每月生产约100万个晶圆,在全球范围内约有10个晶圆的晶圆。工作详细信息:
根据与诺斯罗普·格鲁曼公司的协议,合作者将有一段预定的时间(“设计期”),使用诺斯罗普·格鲁曼公司提供的模型和 PDK 进行设计。设计期结束后,合作者需要在规定的截止日期前向代工厂提交设计,以便将其设计纳入工厂运行。合作者还需要提交其设计和文档,以便在 STARRY NITE IP 存储库中存档。一旦掩模完成流片,诺斯罗普·格鲁曼公司将使用该掩模制造晶圆。请注意,诺斯罗普·格鲁曼公司不会对电路进行直流或射频测试;整个工厂流程中都会测量掩模上的过程控制监视器 (PCM) 结构。b. 合作者同意公布设计提交和掩模流片时间表。c. 请注意,美国政府对哪些设计将投入生产拥有最终决定权
半导体晶圆加工过程中产生的表面缺陷是微纳米加工面临的主要挑战之一。通常使用光学显微镜扫描晶圆,然后由人类专家检查图像。这往往是一个非常缓慢且令人疲惫的过程。由于可能出现的缺陷种类繁多,开发一种可靠的基于机器视觉的系统来正确识别和分类晶圆缺陷类型以取代人工检查是一项具有挑战性的任务。在这项工作中,我们开发了一种机器视觉系统,用于检查半导体晶圆和检测表面缺陷。该系统集成了光学扫描显微镜系统和基于 Mask R-CNN 架构的 AI 算法。该系统使用具有 MEMS、硅光子学和超导器件的晶圆在不同制造阶段(包括表面缺陷)的显微图像数据集进行训练。所实现的精度和检测速度使该系统有望应用于洁净室。
基于晶圆键合与智能切割技术的功能化GaN异质集成衬底 丁家欣,中国科学院上海微系统与信息技术研究所集成电路材料国家重点实验室
