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Mg3+xSb1.5Bi0 的热电性能增强...
完整作者列表：Ozen，Melis；科克大学科学与工程研究生院；科克大学硼与先进材料应用与研究中心 Yahyaoglu，Mujde；科克大学科学与工程研究生院；科克大学硼与先进材料应用与研究中心 Candolfi，Christophe； Jean Lamour 研究所，Veremchuk，Igor；马克斯普朗克固体化学物理研究所，凯撒，菲利克斯；马克斯普朗克固体化学物理研究所、化学金属科学 Burkhardt，Ulrich； MPI CPfS，化学冶金学 Snyder，G.；西北大学，材料科学 Grin，Yuri； MPI CPfS，化学金属科学 Aydemir，Umut；科克大学化学系，化学；科克大学硼与先进材料应用与研究中心
研究论文 PtSn 4 中磁热导率大幅抑制和磁热电性能增强
近年来，热电效应引起了材料科学、固体物理和化学领域的广泛关注。实际上，固态热电转换为能量收集和冷却提供了一种有前途的解决方案[1]。此外，研究热电现象对于理解固体材料中准粒子的基本传输行为也很重要[2]。材料的热电效率用性能系数zT=S2T/ρκ来衡量，其中S、T、ρ和κ分别是热电势、绝对温度、电阻率和热导率。S2/ρ称为热电功率因数。虽然表达式很简单，但获得高zT是一项具有挑战性的任务，因为这些传输参数是相互关联的。作为一项艰巨的任务，我们需要计算材料的热电效率，以确定材料的热电效率。
19 单栅极 MOSFET 性能增强，
本研究通过采用高介电常数电介质材料来提高19nm单栅极MOSFET的性能。通过采用高K电介质材料代替SiO2，可以满足MOSFET器件尺寸缩小趋势的要求。因此，实现了具有不同高K电介质材料的19nm n沟道MOSFET器件，并分析了其性能改进。通过Silvaco TCAD工具中的ATHENA模块进行虚拟制造。同时，使用ATLAS模块利用器件特性。还对上述材料进行了模拟，并与相同结构的传统栅极氧化物SiO2进行了比较。最后，结果证明，氧化钛（TiO2）器件是金属栅极钨硅化物（WSix）组合的最佳介电材料。该器件 (WSix/TiO2) 的驱动电流 (ION) 在阈值电压 (VTH) 为 0.534 V 时为 587.6 µA/um，而预测的目标值为 0.530 V，并且 IOFF 相对较低，为 1.92 pA/µm。该 ION 值符合国际半导体技术路线图 (ITRS) 2013 年对低性能 (LP) 技术预测的最低要求。