重量。百分比(%)C Cr Mn Mo N Ni OPS Si Fe 316L 0.01 16.24 1.09 2.42 0.05 12.37 0.04 0.04 0.01 0.50 平衡。 431 0.17 16.5 0.1 - - 1.97 - 0.01 0.01 0.7 平衡。 A-36 0.12 0.05 0.78 0.01-0.06-0.02 0.012 0.11 平衡。十三
在Kresna Budiman Fluid中,Galvo扫描速度使用激光消融方法的氧化石墨烯纳米片的产生的影响,教授。 ir。Heru Santoso Budi Rochardjo,M.Eng。,博士,HDI。
我们报告了通过在硅衬底上外延生长的最初均匀的硅锗 (SiGe) 薄膜中进行相位分离直接激光写入渐变折射率光波导。我们使用了波长为 532 nm 的连续波 (CW) 激光器。激光束聚焦到厚度为 575 nm、Ge 浓度为 %50 的 SiGe 薄膜表面上直径为 5 µm 的光斑。通过熔化表面来诱导 SiGe 薄膜的成分分离,并通过将激光诱导熔化区的扫描速度控制在 0.1-200 mm/s 的范围内来调整成分分布。在高扫描速度下,扫描激光束会产生移动的富 Ge 熔化区,由于扩散限制的 Ge 传输不足,Ge 含量会在后缘积聚。材料特性表明,激光加工的 SiGe 微条带由富含 Ge 的条带芯(> 70% Ge)和富含 Si 的底层包层(<30% Ge)组成。扫描速度相关的相位分离允许制造具有可调成分分布的渐变折射率 SiGe 波导,这些波导通过光学传输测量和使用模拟的模式分析来表征。我们的方法还可以应用于三元半导体 (AlGaAs) 的伪二元合金,其平衡相图与 SiGe 合金的平衡相图相似。
摘要:研究了激光功率、扫描速度和激光间距三个重要工艺参数对直接能量沉积 718 合金试件沉积层几何形状、微观结构和偏析特性的影响。研究发现,激光功率和激光间距显著影响沉积层的宽度和深度,而扫描速度影响沉积层高度。比能条件的增加(在 0.5 J/mm 2 和 1.0 J/mm 2 之间)增加了沉积层的总面积,产生了不同的晶粒形貌和析出行为,并对其进行了全面分析。沉积层包含三个不同的区域,即顶部、中部和底部区域,根据局部凝固条件变化而形成的不同微观结构特征进行分类。富铌共晶优先偏析在沉积物顶部区域(面积分数为 5.4–9.6%,A f ),该区域主要由等轴晶粒结构组成,而中部区域(面积分数为 1.5–5.7%,A f )和底部区域(面积分数为 2.6–4.5%,A f )则观察到柱状枝晶形态。高扫描速度更有效地降低沉积物顶部和中部区域的富铌相面积分数。观察到<100>晶体方向是柱状晶粒的首选生长方向,而等轴晶粒具有随机取向。
摘要:为了确定制备基于CO的合金覆层层的最佳过程参数,基于最佳过程窗口和42CRMO作为底物进行了激光覆层CO基于基于的激光覆层CO合金的实验研究。使用方差分析(ANOVA)用于探索激光过程参数对最佳过程窗口范围内包层层的形成特性的影响。此外,通过灰色关系分析获得了最佳过程参数组合,并进行了优化结果的实验性验证。发现由最佳过程窗口确定的过程参数间隔为激光功率1300–2100 W,扫描速度6–14 mm/s和粉末喂养率17.90-29.84 g/min。每个过程参数的影响顺序为:激光功率>扫描速度>粉末进率。获得了激光功率2100 W的最佳过程参数,扫描速度为6 mm/s和粉末喂养速率17.90 g/min。最佳过程参数的实验性验证结果证明,与初始参数相比,优化参数的灰色相关等级提高了0.260,并且与预测值良好,精度为96%。优化后,横截面面积,宽度与高度的比率,覆层效率和覆层轨道的粉末利用率增加了4.065 mm 2、1.031、1.032、19.032和70.3%,以及70.3%的功能率降低了60.9%。最佳的覆层轨道在没有裂纹,孔和明显的元素分离的情况下很好地粘合到底物上,并包括Cr 3 C 7,COCX,FCC-CO和WC的阶段。
选择性激光熔化(SLM)是添加剂制造技术之一,可以使用3D CAD软件逐层构建复杂的结构模型。但是,更高的研究成本几乎无法通过传统方法进行,解决问题的最佳方法是使用仿真软件。本文旨在通过剪辑加成式(SA)软件找到具有最小失真和最低残留应力的样品的最佳处理参数组合。在最佳处理参数下的仿真结果,导致失真和残留应力的最小值是扫描功率与300W,扫描速度为1.3m/s的组合,扫描速度,扫描间隔,一个点直径(0.12mm)(0.12mm)(0.12mm)(0.12mm)和热处理持有时间为4H。此外,计算结果还提供了一种新的研究方法,以验证不同加工参数对SLM制造的Inconel 718合金的影响。
扫描系统的质量将根据用户要求确定技术规格。本节中稍后所述的扫描指示器是将交付扫描图像质量的基础。基于扫描指标,供应商将提供一个或多个加速器,以及必要的检测器,以实现购买者设定的要求和规格。其他因素会影响加速器和要输送的检测器的选择,是通过扫描仪(如果处于静态模式)或扫描仪的扫描速度(如果在移动模式下)和辐射安全要求的扫描速度。辐射要求受许多因素的影响:通过速度和每年要扫描的物体数量。这些因素可能导致加速器的能量输出可变。将将系统移交给购买者之前的最终接受测试非常重要。重要的是,重要的是要检查是否满足所有要求和规格,还要对购买者有良好的了解,是否在首先在第一例中正确定义了要求和规格。
摘要:由于它们的非接触式和快速测量功能,激光干涉仪代表了表面验证仪的触觉手写笔仪器的有趣替代方法。除了这些出色的属性外,收购成本在行业中起着重要作用,限制了光学辅助仪的频繁使用,而光学仪比触觉修理仪昂贵得多。我们提出一个低成本激光测量干涉仪,其轴向重复性以低于1 nm的速度,以每秒38,000高的高度值。传感器的性能已在几个表面标准上进行了验证,可达到高达160 mm/s的横向扫描速度。进一步到高扫描速度,高采集率通过平均测量高度值来提高测量精度。例如,可以将625 pm的标准偏差用于重复测量值,以牺牲数据速率为代价。但是,传感器概念为进一步提高数据速率和测量可重复性提供了潜力。
序号 激光功率,W 扫描速度,mm/s 层高,mm 热处理功率,W #1 45.2 2 0.05 0 #2 56.1 2 0.05 0 #3 45.2 4 0.03 0 #4 56.1 4 0.03 0 #5 45.2 2 0.05 30.5 #6 56.1 2 0.05 30.5 #7 45.2 4 0.03 30.5 #8 56.1 4 0.03 30.5
本研究使用 Trumpf 505 DMD 系统研究 DED-L 工艺参数,旨在确定改变特定工艺参数对 Inconel 718 冶金和机械性能的影响。首先使用田口实验设计研究激光功率、扫描速度和送粉速率。然后检查各向异性、构建方向和热处理。