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World File Search System抗蚀层
电子束光刻中的局部剂量分布和轮廓变化。
摘要 为了将利用电子束光刻技术制作的抗蚀剂图案应用于纳米压印模具，不仅需要考虑从曝光顶面二维观察到的线宽和孔径，还需要考虑包括抗蚀剂横截面形状在内的三维情况。在本研究中，我们关注图案内部的剂量分布和显影时间，并研究它们对抗蚀剂横截面形状的影响。采用曝光方法制作线宽为 100nm 的抗蚀剂图案，其中一条线内的总剂量相同，但一条线内的电子束扫描位置和次数会发生变化。通过电子散射模拟分析的剂量分布与解析后的图案侧壁形状之间的比较结果表明，在特定条件下，剂量分布和实际的抗蚀剂形状在 ±5nm 精度内相互一致。结果表明，即使整个图案的平均剂量相同，抗蚀剂侧壁的实际形状也会因取决于扫描位置和扫描次数的抗蚀剂中的局部剂量分布而改变。此外，我们通过观察不同显影时间下曝光后的抗蚀剂的显影过程，研究了抗蚀剂的分辨机理。结果表明，图案内部剂量的差异引起的显影速度差异对抗蚀剂的截面形状产生影响。本研究结果表明，抗蚀剂内部剂量分布和由此引起的显影速度差异对抗蚀剂截面形状有显著影响，这些参数有望在未来应用于所需截面形状的制作。
E 241 调查论文：文献中关于抗蚀剂回流的经验和分析研究的总结
因此，给定最终宽度和曲率半径 R，就可以预先确定所需光刻胶的高度。该模型假设光刻胶和基板之间的临界接触角没有影响，并为近似回流光刻胶形状提供了一个起点。参考文献 2 将临界角作为次要约束，并发现对于 S1818 光刻胶，其对回流温度（120 到 170°C 之间）的依赖性大约为 y = -0.2431x + 48.344。参考文献 3（配套论文）研究了 3 种描述光刻胶形状的分析模型。模型 A 使用 Sheridan 等人提出的 4 阶多项式模型；这与模型 B（“总和模型”）和模型 C（“乘积”模型）进行了比较，后两者均使用 4 阶多项式来捕捉与球形概念的偏差。使用边界条件计算系数，包括：面积、中心高度、边缘=0 和临界角。
發展anti- CD33 (Siglec-3)抗體以治療慢性B型肝炎及 ...
免疫受体酪氨酸基抑制基序（ITIM）类似于免疫检查点受体PD-1。 我们发现，CD33是乙型肝炎病毒（HBV）的模式识别受体，并产生了使用慢性肝炎患者的PBMC诱导抗HBSAG抗体诱导抗HBSAG抗体，表明SP-1 MAB能够破坏HBV诱导的免疫力。 我们进一步产生了针对CD33的高亲和力人类抗体，发现抗CD33 MAB（SP-2）可以激活小胶质细胞以摄取β-淀粉样蛋白和细胞外的高磷酸化tau蛋白。 Alector/Abbvie已在阿尔茨海默氏病（AD）中发起了I期临床，以确保抗CD33 MAB的安全性，并暗示SP-2抗体具有很大的潜力，可以成为治疗AD的治疗剂。。免疫受体酪氨酸基抑制基序（ITIM）类似于免疫检查点受体PD-1。我们发现，CD33是乙型肝炎病毒（HBV）的模式识别受体，并产生了使用慢性肝炎患者的PBMC诱导抗HBSAG抗体诱导抗HBSAG抗体，表明SP-1 MAB能够破坏HBV诱导的免疫力。我们进一步产生了针对CD33的高亲和力人类抗体，发现抗CD33 MAB（SP-2）可以激活小胶质细胞以摄取β-淀粉样蛋白和细胞外的高磷酸化tau蛋白。Alector/Abbvie已在阿尔茨海默氏病（AD）中发起了I期临床，以确保抗CD33 MAB的安全性，并暗示SP-2抗体具有很大的潜力，可以成为治疗AD的治疗剂。
锑离子注入改性重氮醌-酚醛清漆光刻胶薄膜
引言目前，光刻是多种半导体器件和集成电路一般生产周期中的主要工艺之一。重氮喹诺酮酚醛 (DQN) 光刻胶广泛用作亚微米和纳米光刻的掩模 [1–4]。现代电子学中形成掺杂区的主要方法之一是离子注入 (II)。该方法可以精确控制掺杂剂浓度，且具有工艺多功能性和灵活性的特点。DQN 光刻胶与紫外线、X 射线和可见辐射的相互作用已得到充分详细研究，而离子辐照引起的过程仍然知之甚少，尽管它们会显著影响所创建器件的质量 [4–6]。在聚合物的 II 期间，辐射诱导过程先前已被证明会发生在离子路径区域内及其外部 [5, 7–9]。例如，在 [5] 中发现了 DQN 抗蚀剂膜在锑离子注入层后面的辐射硬化。然而，导致 II 层后面的 DQN 抗蚀剂的物理机械性能发生变化的辐射诱导过程的机制尚未确定。对于薄膜研究，受抑全内反射 (TIR) 的 FTIR 光谱可以定性和定量地获取固体中复杂有机化合物及其混合物的成分和结构
无标题
家重点基础研究计划 （９７３） 和国家海洋勘测专项 、 科技兴海和国际海洋科学合 作计划等 ， 大大推进了海洋科学技术的发展 ， 在一些领域取得了具有独创性的成 果 ， 海洋科技进入了一个新的发展阶段 。 但在总体上 ， 我国海洋科技水平与国际 海洋强国相比还存在较大的差距 。 主要表现在 ： ① 海洋科技发展不平衡 ， 总体水 平与发达国家相比差距有 １０ ～ １５ 年 ； ② 海洋科技对海洋经济的贡献率低 ， 只有 ３０％ 左右 ， 而发达国家达到 ６０％ ～ ７０％ ； ③ 科技成果的转化率低 ， 不足 ２０％ ； ④ 海洋科技投入不足 。 海洋科技力量和资源利用整合度低 ， 最直接的原因就是设 备材料难以适应严酷的海洋环境 。 海洋科技领域的发展是一项系统的工程 ， 往往 是诸多领域科技发展的集成 ， 但就最重要的基础而言 ， 常常依赖于材料科技的发 展和突破 ， 尤其依赖于专用海洋材料的研究和进展 。 与陆地使用材料不同的是 ， 涉海材料用在海洋中 ， 特别是在深海极端环境下 ， 受到海水重压甚至高温及海洋 微生物的侵蚀 、 硫化物腐蚀 ， 要求必须具有高强度 、 耐海水热液腐蚀 、 抗硫化腐 蚀 、 抗微生物附着 、 高韧性等特点 。 因此 ， 系统研究海洋材料的微生物附着腐蚀 机理与防护将有助于国家海洋战略的发展 。
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1英国伦敦大奥蒙德街儿童医院骨髓移植部； 2小儿onco-Hermatology和造血干细胞移植，意大利帕多瓦大学的妇女和儿童健康系； 3英国伦敦伦敦大学儿童健康学院大奥蒙德街儿童健康学院分子和蜂窝免疫学科； 4英国伦敦大奥蒙德街儿童医院血液学系； 5英国布里斯托尔，布里斯托尔血液学和肿瘤学中心布里斯托尔和韦斯顿NHS基金会信托基金； 6英国曼彻斯特皇家曼彻斯特儿童医院的骨髓移植系； 7卡塔尔多哈Sidra Medicine，Sidra Medicine的小儿血液肿瘤学系； 8英国伦敦大学伦敦大学医院血液学； 9英国布里斯托尔皇家儿童医院骨髓移植系； 10小儿肿瘤学和血液学，英国纽约市纽卡斯尔大北部儿童医院；和11个发展生物学与癌症，伦敦大学学院大奥蒙德街儿童健康研究所，伦敦，英国
蚀变制图的主成分分析* - ASPRS
摘要：减少主成分分析 (PCA) 输入的图像波段数量可确保某些材料不会被映射，并增加其他材料被明确映射到其中一个主成分图像中的可能性。在干旱地形中，如果只有一个输入波段来自可见光谱，则四个 TM 波段的 PCA 将避免氧化铁，从而更可靠地检测含羟基矿物。如果仅使用其中一个 S m 波段，则用于氧化铁映射的 Pw\ 将避免羟基。然后可以创建一个简单的主成分彩色合成图像，其中羟基、羟基加氧化铁和氧化铁的异常浓度在红绿蓝 (RGB) 颜色空间中明亮地显示。该合成允许对蚀变类型和强度进行定性推断，可以广泛应用。
电化学腐蚀和点蚀 - 现场和实验室研究
两次研讨会。电偶腐蚀和点蚀，分别于 1974 年 10 月 22-23 日在密歇根州底特律举行的 1974 年材料工程大会上提出。研讨会由美国材料与试验协会金属腐蚀委员会 G-1 实验室腐蚀试验小组委员会 GO 1.05 和电偶腐蚀小组委员会 GO 1.07 赞助。通用汽车公司的 L. C. Rowe 担任研讨会主席，通用汽车公司的 W. D. France, Jr. 担任点蚀研讨会联合主席。在电偶腐蚀研讨会上，洛克希德导弹与航天公司的 J. F. Rynewicz 担任研讨会主席，德州仪器的 Robert Baboian 担任研讨会联合主席。
间充质干细胞防治移植物抗宿主病临床试验技术指导原则
一、概述 ............................................................................................................... 1