摘要。下一代极端紫外线(EUV)系统具有0.55的数值,具有提供低于8 nm的半程分辨率的潜力。在较小的特征尺寸下,随机效应的重要性增加了扫描仪和掩模以提供高对比度图像的进一步需求。我们使用严格的面膜衍射和成像模拟来了解EUV掩模吸收器的影响,并确定用于高NA EUV成像的最合适的光学参数。对各种用例和材料选项的仿真表示两种主要解决方案类型:高灭绝材料,尤其是针对线条空间,以及可以提供相移遮罩溶液的低折射率材料。euv相掩码的行为与DUV的相移面膜大不相同。精心设计的低折射率材料和口罩可以为高对比度的边缘打开新的道路。©作者。由SPIE发表在创意共享归因4.0未体育许可下。全部或部分分发或重新分配或重新分配本工作,需要完全归因于原始出版物,包括其DOI。[doi:10.1117/1.jmm.m.19.4.041001]
摘要:热膨胀是长度计量中导致不确定性的主要原因。NIST 设计了一种基于容器的折射仪,其目标是在测量氦折射率时将不确定度控制在 10 − 6;就环境条件下的折射率而言,精度目标是折射率为 3 × 10 − 11。为了达到这种精度水平,0 的长度。5 m 气室需要在 100 nm 以内。当在 20 ◦ C 下用坐标测量机测量容器长度时,这是可以实现的。但是,折射仪将在水和镓的热力学已知固定点附近运行,分别在 0 ◦ C 和 30 ◦ C 附近。容器由熔融石英玻璃制成,其标称热膨胀系数为 0。4 ( µ m/m)/K。因此,要将尺寸计量的精度扩展到20 ◦ C到水的三相点,需要知道熔融石英玻璃的热膨胀系数在10 (nm/m)/K或2 .5 %的范围内。描述了一种测量熔融石英玻璃热膨胀系数的方法。测量原理是监测法布里-珀罗腔谐振频率随温度变化的变化;法布里-珀罗腔由熔融石英玻璃制成。测量中的标准不确定度小于0 .6 (nm/m)/K,或0 .15 %。性能的限制可以说是反射相移温度依赖性的不确定性,因为薄膜涂层的热光系数和热膨胀系数都无法可靠地知道。但是,其他几个不确定性因素的数量级也相同,因此任何性能改进都需要付出巨大努力。此外,对三个不同样品的测量表明,材料的不均匀性导致熔融石英的有效热膨胀系数存在差异;样品间热膨胀的不均匀性比单个样品的测量不确定度高 17 倍。
研究了湍流引起的亚音速、超音速和高超音速边界层的气动光学畸变特性。使用了四个边界层的直接数值模拟 (DNS) 数据,这些边界层的标称马赫数范围从 0.5 到 8。亚音速和超音速边界层的 DNS 数据是平板流。两个高超音速边界层均来自入口条件为 8 马赫的流动,其中一个是平板流,另一个是尖锥上的边界层。这些数据集中的密度场被转换为折射率场,这些折射率场沿预期的光束路径积分,以确定光束穿过湍流场的折射时将经历的有效光程长度。然后,通过考虑与体边界层效应相关的平均路径长度和倾斜问题,确定光程差 ( ) 的分布。将 的均方根与现有模型进行比较。发现从亚音速和超音速数据确定的 值与现有模型非常匹配。可以预料的是,由于在模型推导过程中做出了强雷诺类比等假设,高超音速数据匹配得并不好。到目前为止,该模型从未与本文中包含的马赫数如此之高的流动或流过尖锥几何的流动进行比较。
近年来,在液晶(LCS)中观察到了在折射率光栅上耦合的光束之间的强两光束能传递。由于LC主管的重新定位而获得的0.2阶折射率的高调制使得可以增加一个梁的强度,并具有增益系数的强度近两个数量级,而固体光致热晶体中的强度几乎要大[1-6]。在具有杂化有机 - 无机细胞A LC层的方案中,将两个固体底物放置在两个或两个固体底物之间,其中一个或两个是光致热的。相交的相干光束会干扰并产生无机光致热性底物(S)中的空间电荷。空间电荷会产生一个空间周期性的电场,该电路穿透LC层并调节LC主管。由此产生的主管光栅引起折射率光栅,并确保在LC中传播的相交梁的耦合[7-11]。在讨论混合系统中主管重新定位的机制时,通过与LC旋转极化的相互作用[12-14],而不是通过LC静态介电性各向异性[15,16],而不是通过LC旋转极化[15-16],这是与董事与主任的太空场合的夫妇。对列中[12]和胆固醇LC细胞获得的实验结果的描述[13,14]需要一个额外的假设,使导演幅度是空间载体范围的非线性函数。这导致通过其有效的值替换了外部的系数,这取决于空间电荷范围。在[12]中讨论了这种非线性的可能物理机制。Despite the fact that the physical mechanism of interaction of the space-charge field with the director is the same for nematic and cholesteric LCs, the observed dependence of the gain coe ffi cient of the incident signal beam on the director grating spacing is very di ff erent.增益系数定义为
极紫外光刻 (EUVL) 是最有前途的技术之一,它可将半导体器件制造的极限扩展到 50 纳米及以下的临界尺寸 [1]。EUVL 需要制造反射掩模,它不同于紫外可见光光刻技术所用的传统透射掩模。极紫外 (EUV) 掩模由一个 EUV 波长的反射镜组成,反射镜上沉积了吸收图案堆栈。干涉镜由高折射率和低折射率材料的交替堆栈制成,通常是沉积在基板顶部的 40 个 Mo/Si 双层。通过调整 Mo 和 Si 层的厚度,可以针对 13.5 纳米的波长优化反射率。对于“双层工艺” [2],吸收图案堆栈由缓冲层顶部的导电吸收层制成,缓冲层用作蚀刻停止层以及吸收层修复步骤中的保护层。过去几年,人们评估了多种材料(Ti、TiN、Al-Cu、TaSi、Ta、TaN、Cr)[2–4] 作为 EUV 掩模的导电吸收材料的可能性。图 1 描述了这种基本的减法 EUV 掩模工艺流程,其中采用了“双层”吸收堆栈。
摘要 - 在本文中,通过有限元方法(FEM)研究了等离子bragg光栅过滤器的微型设计。过滤器基于沉积在石英基板上的等离激元金属 - 金属波导。为近红外波长范围设计的波纹布拉格光栅均在波导的两侧结构。通过改变过滤器设计的几何参数来研究过滤器的光谱特性。结果,在λbragg= 976 nm处获得的最大ER和带宽为36.2 dB和173 nm,滤光片占地面积分别为1.0×8.75 µm 2。可以通过分别增加光栅周期和光栅的强度来进一步改善ER和带宽。此外,Bragg光栅结构非常容易接受介质的折射率。这些特征允许使用材料,例如金属 - 绝缘体 - 金属波导中的聚合物,可以进行外部调整,也可以用于折射率传感应用。所提出的Bragg光栅结构的灵敏度可以提供950 nm/riU的灵敏度。我们认为,本文提出的研究提供了一个指南,以实现可用于过滤器和折光索引传感应用中的小脚印等离子布拉格光栅结构。
玻璃中飞秒(FS)激光诱导的修饰的种类铺平了通过激光脉冲能的非线性吸收引发的多种结构变化的道路。光眼镜中这些修饰的性质根据激光写参数而变化,并且在文献中将其分为三种主要类型[1]。I型修饰可以观察到较低能量处的折射率的平滑和均匀变化。早期研究表明,FS激光器在硅玻璃中诱导3D折射率分析的潜力,这是创建波导的基础步骤[2]。II型修饰是通过折射率的各向异性变化来区分的。在特定的脉冲持续时间,频率和能量条件下,出现了强烈的双折射,它起源于垂直于激光极化的定期层状纳米结构[3]。在较高的激光强度下,发生了III型修饰,这是由于局部微探索而形成的纳米/微粒子具有致密壳的形成。是II型修饰,与纳米的形成有关。fs激光诱导的纳米射流在几个技术域中发现了广泛的应用。它们在创建长期光学数据存储设备[4,5],热光传感器[6,7]和微流体[8,9]中起着核心作用。重要的是,它们还用于制造各种光学元件,包括波导,光层转化器[10,11]和其他双重元素[12]。尽管其应用的范围很广,但对玻璃中纳米形成背后的机制的全面理解仍有待实现。这是至关重要的,因为它会影响他们的制造,因此在各种技术环境中优化了它们的使用。纳米形成过程的中心是多光子电离的现象,其中光子吸收促进了从入射光到实心玻璃结构的能量转移[13]。由于激光强度超过特定的阈值,它会导致血浆的产生,其特征是高密度自由电子云[14]。入射激光与不均匀性的散射光之间的干扰
一张焦点堆积的宏观照片,该照片具有多个螺旋形波导和其他测试结构的磷化磷化物光子芯片。芯片宽度仅为0.55厘米。由于磷化磷酸盐的高非线性,其高折射率及其可忽略不计的两光子吸收,使用此芯片可实现S,C和L光学通信带的极有效的光学参数扩增和频率转换。
抽象的光学KERR效应,其中输入光强度线性地改变了折射率,它使光学孤子,超充值谱和频率梳子的产生,在芯片设备,纤维通信和量子操作中起着至关重要的作用。尤其是Terahertz Kerr效应,在未来的高速计算,人工智能和基于云的技术中具有引人入胜的前景,由于功率密度和微弱的Kerr响应,遇到了一个巨大的挑战。在这里,我们演示了一个巨大的Terahertz频率KERR非线性,由刺激的声子极性子介导。在巨型Kerr非线性的影响下,功率依赖性的折射率变化将导致微腔的频移,这是通过测量芯片尺度岩石型niobate fabry-pérotmicrobocabity的谐振模式实验证明的。归因于刺激的声子极性子的存在,从频移中提取的非线性系数比可见光和红外光的数量级大,理论上也由非线性黄色方程式证明。这项工作为许多具有Terahertz细纹的基于物理,化学和生物系统的富有和富有成果的Terahertz Kerr效应开放了途径。
cai li,1个feng pei,2 na xiao 1和xiao-fei Zeng 1,2,*抽象的空心二氧化硅纳米球(HSNS)由于其低折射率而被广泛用作抗反射涂层。但是,很难使用简单的混合方法将它们合并到光学聚合物矩阵中,以增强可见的传输。瑞利散射是由其较大的粒径和集聚问题引起的,这会使光学聚合物的阴霾和透明度更糟。在此,直径约为20 nm的超小HSN通过反向微乳液方法合成。通过高重力技术在旋转的床反应器(RPB)中实现了扩展制剂,然后通过简单的溶液混合方法制造了透明的聚乙烯醇(PVA)/HSNS纳米复合材料。HSN的内腔大小约为8 nm,折射率为1.342。通过使用不同的表面修饰符,它们可以分别在水和有机溶剂中单分散。制备的PVA/HSNS纳米复合材料具有超高的透明度和低阴霾,因此HSN均匀地分散在PVA矩阵中,而没有任何聚合,这在光学材料和设备中具有很高的应用前景。
