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抗血管生成疗法或免疫疗法？对患有晚期非小细胞肺癌患者具有EGFR/HER2外显子20插入突变
结果：在研究中包括的126名患者中，有51例患者患有EGFR20INS突变，75例患者患有HER2-20INS突变。与单独的化学疗法（化学疗法）相比，在第一线治疗中，贝伐单抗+化学疗法（BEVA+化学疗法），ICI+化学疗法（ICI+化学疗法），ORR：40％vs 33.3％vs 15％（P = 0.0168）； DCR：84％vs 80.9％vs 67.5％（p = 0.1817）; PFS中间：8.3 vs 7.0 vs 4.6个月（P = 0.0032），ICI+化学疗法具有OS的益处趋势。分层分析表明，与化学疗法相比，ICI+化学疗法对于中位PFS的EGFR20INS突变更有效：10.3 vs. 6.3m（p = 0.013）。 BEVA+化学疗法对于HER2-20INS突变更有效，中位PFS：6.6比4.3m（P = 0.030）。在EGFR20INS突变的二线治疗中，贝伐单抗 +化学疗法在PFS中具有显着优势，与靶向治疗相比，中位PFS：10.8 vs 4.0个月（P = 0.016）。
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玛丽贝塞斯达国家卫生研究院国家癌症研究所生物特征分支机构员工研究员。1971年8月至1972年8月。北伊利诺伊大学数学科学系助理教授，1972年9月至1977年9月。北伊利诺伊大学数学科学系副教授，1977年9月至1981年8月。1981年8月至1982年5月，肯塔基大学统计学系访问副教授。肯塔基大学统计学系副教授兼数学科学咨询实验室主任，1982年8月至1986年5月。肯塔基大学统计系统计学系教授兼数学科学咨询实验室，1986年8月至1989年8月。。 统计局董事长兼肯塔基大学医学中心校园生物统计学咨询部主任，1990年8月至1998年7月。。肯塔基大学统计系统计学系教授兼数学科学咨询实验室，1986年8月至1989年8月。统计局董事长兼肯塔基大学医学中心校园生物统计学咨询部主任，1990年8月至1998年7月。统计系教授，肯塔基大学医学中心校园的生物统计学咨询部主任，1989年8月至2000年12月。 统计系教授和肯塔基州公共卫生学院，生物统计学咨询部主任，2001年1月至2004年6月。 统计系教授。 艺术与科学学院兼主席，公共卫生学院生物统计学系，2004年7月至2016年。 艺术与科学学院统计学系2017年至今教授。 艾伦·安德森（Allen-Anderson统计系教授，肯塔基大学医学中心校园的生物统计学咨询部主任，1989年8月至2000年12月。统计系教授和肯塔基州公共卫生学院，生物统计学咨询部主任，2001年1月至2004年6月。 统计系教授。 艺术与科学学院兼主席，公共卫生学院生物统计学系，2004年7月至2016年。 艺术与科学学院统计学系2017年至今教授。 艾伦·安德森（Allen-Anderson统计系教授和肯塔基州公共卫生学院，生物统计学咨询部主任，2001年1月至2004年6月。统计系教授。艺术与科学学院兼主席，公共卫生学院生物统计学系，2004年7月至2016年。艺术与科学学院统计学系2017年至今教授。 艾伦·安德森（Allen-Anderson艺术与科学学院统计学系2017年至今教授。艾伦·安德森（Allen-Anderson
在铁电体Hf0.5Zr0.5O2上插入Al2O3中间层扩大Si沟道FeFET存储窗口
基于AFNIA（HfO 2 ）的硅通道铁电场效应晶体管（HfO 2 Si-FeFET）在非挥发性存储器领域得到了广泛的研究[1-7]，这得益于掺杂HfO 2 中铁电性的发现[8]。文献报道中HfO 2 Si-FeFET的存储窗口（MW）大多在1-2 V左右[9-12]，不能满足其在多位存储单元应用的要求。为了提高MW，当前的措施主要通过降低掺杂HfO 2 铁电体与Si通道之间底部SiO x 夹层的电场，从而抑制掺杂HfO 2 /SiO x 界面处的电荷捕获[13-16]，同时增加SiO x 的数量。最近，有报道称MIFIS结构可以有效提高MW，并使用SiO 2 作为顶部夹层[17-21]。然而，Al 2 O 3 作为顶层尚未见报道。因此，我们报道 Al 2 O 3 层作为顶层中间层，以及 MW 对 Al 2 O 3 厚度的依赖性。
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PURPOSE ..............................................................................1 BACKGROUND ...................................................................1 POLICY .................................................................................2 RESPONSIBILITIES ...........................................................4 PROCEDURES .....................................................................5 REFERENCES ...............................................................................................................................................................................................................................................................
使用 TrueDesign 基因组编辑器中的长插入工作流程将 GFP 序列插入 TRAC 基因座
8. TrueDesign 基因组编辑器将显示优先设计为最接近预期编辑位置（最多 40 bp 距离）的 gRNA 和供体 DNA。gRNA 距离编辑位置越远，敲入效率越低。所有设计的供体 DNA 序列（现在包括同源臂）都将接受 GeneArt 基因合成制造可行性检查。如果供体 DNA 未通过检查，您将无法选择该 gRNA，并且该行将变灰。在这种情况下，请选择不同的 gRNA 或 TALEN 对（如果可用），或更改插入位置或同源臂长度。对于每个 CRISPR-Cas9 gRNA 和 TALEN 对，可以通过单击供体 DNA 列中的眼睛图标来查看供体 DNA 序列。要在您选择的克隆软件中查看和注释供体 DNA 序列，请单击供体 DNA 列中的下载图标下载 FASTA 文件。确保供体 DNA 位于框架内以实现 GFP 的最佳表达。
共同插入阴极材料和石榴石电解质，以开发带有宽电化学窗户
然而，在实现基于LLZ的ASSB的主要挑战中，具有促进电池操作的属性的阴极/LLZ界面形成，例如低界面电阻和良好的接触。因此，LLZ的densi cation采用了高于1000°C的温度下的犯罪策略，以增强其对LI金属的离子电导率和稳定性。然而，这种高温犯罪不可避免地会导致形成高电阻的电极/LLZ相间，从而导致电池较差。12,13可以通过两条路线形成阴极/LLZ接口。在第一个路径中，涉及将阴极层涂在烧结的LLZ磁盘上，LLZ在升高的温度下呈密密度密度，然后使用诸如筛网印刷和浸入等方法与阴极层涂层，并且所得的PORTODE/LLZ系统是在低温到
解码靶向整合的复杂性：使用纳米孔测序表征 CRISPR-Cas9 靶位点的 DNA 插入
考虑到纳米孔测序的~5%测序错误（主要是插入和缺失）和供体片段的部分截断整合，我们在分配数据时基于预期的完美插入大小将间隔扩大±20%。然后，我们用正向骨架插入（Bf）、反向骨架插入（Br）、正向F8盒式插入（F8f）和反向F8盒式插入（F8r）的grepseqs分析了9个数据集特定长度范围内的数据。最后，我们计算出F8盒式插入和骨架整合的比例，分别为40.24%和44.47%。有趣的是，完全供体整合占总插入事件的14.16%，而其余的插入涉及两个相同的片段和三个片段的整合（图5B）。
EGFR 外显子 20 插入突变的晚期非小细胞肺癌的诊断和治疗进展
表皮生长因子受体（EGFR）突变的发现极大地改变了晚期非小细胞肺癌（NSCLC）患者的临床前景。与最常见的EGFR突变（例如外显子19缺失（del19）和外显子21 L858R点突变）不同，EGFR外显子20插入突变（EGFR ex20ins）是一种罕见的EGFR突变。由于其结构特异性，其对传统的表皮生长因子受体酪氨酸激酶抑制剂（EGFR-TKI）表现出原发性耐药，导致患者总体生存预后不佳。近年来，针对EGFR ex20ins的新药研发不断取得进展，为该患者群体的治疗带来了新的希望。对此，我们对EGFR ex20ins的分子特征、诊断进展、治疗现状进行了系统综述。总结了相关药物研发和临床研究的最新数据，旨在为临床诊断、治疗及药物研发提供参考。
通过石墨烯插入在原子薄量子旋转厅绝缘子中实现环境稳定性
半导体表面上的原子单层代表了二维极限的新兴功能量子材料 - 从超导体和莫特绝缘体到铁电和量子旋转厅绝缘子的范围。indenene是iDenene的iDenene，含量约为120 MeV的im依的三角形单层是一种量子自旋霍尔绝缘子，其微米尺度的SIC上的显式外延生长（0001）使其在技术上具有相关性。然而，它对室温旋转的适合性受到空气中拓扑特征的不稳定的挑战。必须制定一种在现场加工和装置制造过程中保护indenene拓扑性质的策略。在这里，我们表明，将泛烯烯酮插入到外延石墨烯中，可以有效地保护氧化环境，同时保留完整的拓扑特征。我们的方法开放了一个现有实验机会的丰富领域，启动单层量子旋转厅绝缘子，以实现逼真的设备制造并访问拓扑保护的边缘通道。