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BIPM-4 专著 (1997)
目录 作者前言 1 1.简介 2 2.可重入（或 4π）电离室的测量原理 4 2.1 源和电离室的测量几何形状 5 2.2 电离过程和电荷收集 6 2.3 电离电流 7 2.4 电离室校准以进行活度测量 8 2.5 相对活度测量和参考源 10 2.6 Ra-226 源 12 3.电离室的构造 14 3.1 4πγ 电离室 14 3.2 特殊类型的电离室及其应用 15 3.2.1 大气压下未密封的电离室 15 3.2.2 β 粒子电离室 16 3.2.3 α粒子电离室 17 3.2.4 放射性核素校准器 17 3.2.5 电离室配件：屏蔽、样品架、样品更换器、系统控制、数据采集和数据分析 19 4.电离电流测量技术 20 4.1 静电计皮安表 21 4.2 反馈电路和电流积分器 23 4.3 通过高值电阻上的电压降进行测量 25 4.4 带补偿的汤森感应平衡 26 5.电离电流测量中的系统效应 28 5.1 电离和电荷收集引起的波动 29 5.2 电子参数的变化 30 5.3 饱和损失效应 30 5.4 响应活动的线性 31 6. 电离电流值的校正 33 6.1背景 33 6.2 衰变校正 34 6.3 样品尺寸和材料的变化 35 6.4 样品位置的变化 37 6.5 不同溶液体积源的填充校正 38 6.6 放射性核素杂质 39 6.6.1 使用半导体探测器测量的活度比进行校正 40 6.6.2 利用不同半衰期对放射性核素混合物进行校正的方法 42 6.6.3 放射性核素杂质校正的衰减方法 43