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APHIS 国家牛奶检测策略针对 2.3 中的 H5 进化枝。......
I. 策略概述 APHIS 国家牛奶检测策略 (NMTS) 为奶牛中的 H5N1 进化枝 2.3.4.4b（以下简称“H5”）提供监测和应对指导。该策略的总体目标是消除美国奶牛中的 H5N1，并专注于检测奶牛群的散装牛奶。该策略目前适用于美国本土各州。根据各州的情况，该策略的各个阶段可能在全国范围内同时进行。每个阶段的采样方案都根据各州的资源和行业灵活制定。
免疫零剂量儿童的经济学和价值
MPOX病毒被分为2个主要进化枝I和进化枝II，每个进化枝进一步分为IA，新近鉴定的进化枝IB，进化枝IIA和进化枝IIB，该进化枝IIB，该进化枝，该进化枝是负责2022年全球爆发的负责。自2022年进化枝IIB MPOX爆发开始以来，在126个国家 /地区报告了115,101例以上的病例和255例死亡，尽管全球报道的数据可能不包括非洲地区的最新进化枝I。根据美国疾病控制与预防中心（US CDC）和世界卫生组织（WHO），美国已报告了截至2024年10月31日的34,187例MPOX案件。 美国疫情在2024年继续以低但稳定的速度增长，截至2024年11月16日，每年记录了2,481例病例。 随着进化枝IIB在美国和全球的持续传播以及进化枝I和II在非洲地区的传播增加，专家担心国家和全球景观的变化有可能增加美国特定人口的健康风险。根据美国疾病控制与预防中心（US CDC）和世界卫生组织（WHO），美国已报告了截至2024年10月31日的34,187例MPOX案件。美国疫情在2024年继续以低但稳定的速度增长，截至2024年11月16日，每年记录了2,481例病例。随着进化枝IIB在美国和全球的持续传播以及进化枝I和II在非洲地区的传播增加，专家担心国家和全球景观的变化有可能增加美国特定人口的健康风险。
高压应用的可靠性设计
材料特性、环境因素和产品设计的结合可能会产生意想不到的副作用。例如，漏电流可能会随着时间的推移而增加，最终可能导致硬电弧和灾难性故障。过多的漏电流可能会在高阻抗反馈电路中产生错误，从而导致电压随时间和温度变化而漂移和稳定性问题。FR4 PWB 基板特别容易受到污染和吸收水分的影响。吸收的水分会降低 FR4 的玻璃化转变温度 (Tg)，使组件在具有动态热条件的应用中容易发生现场故障。封装系统中的杂质、不正确的填料或不完全固化可能会导致过高的漏电流，这些漏电流会随时间和温度的变化而呈非线性和不稳定状态，从而可能破坏高压系统的稳定性。另一个例子是高压电路特别容易受到电化学迁移的影响。水分会促进离子腐蚀形成导电细丝。重新分布的金属离子可能会发生枝晶生长。高压应力会加速这些电化学过程（尽管锡晶须可以在没有电磁场的情况下形成）。
硅同质外延晶圆表面清洁... - DSpace@MIT
本论文的目的是研究使用 ECR（电子回旋共振）氢等离子体技术的低温原位清洗工艺和使用 HF 浸渍法的原位清洗工艺，用于低温硅同质外延生长。在 MS-CVD（多室化学气相沉积）反应器上安装了负载锁室，以降低将污染物引入系统的可能性。选择 ECR 等离子体系统是因为与传统的 RF（射频）系统相比，它可以以良好调节的方式输送更高密度的低能离子。选择氢气是因为氢气质量轻，并且能够与表面污染物发生化学反应。在原位清洗的晶圆顶部沉积外延层，并通过 XTEM（横截面透射电子显微镜）和 RBS（卢瑟福背散射光谱）技术研究外延层和外延层/衬底界面的结构质量。使用 SIMS（二次离子质谱）检测界面处的氧和碳污染物。
数字孪晶用于弹性全球供应链
简介数字孪生（DT）是一项技术，可促进真实过程，资产或网络的精确副本表示；模拟的数据是从实时的现场传感器获得的（Jones等人。2020;国家学院2024）。实际设置可以是物理的，例如港口，运输网络或制造过程，或无形的，例如客户在营销活动中的行为或城市中的送货驱动程序谈判（Dholakia and Hales 2024）。dt可以为可能的问题提供快速警报，并实现早期干预和解决方案。在当今的全球环境中，供应链高度容易受到大流行和战争等事件的影响，DT可以提供早期警告和预期行动以应对威胁（请参阅Lemos等人。2020）。
毫米波晶圆探测应用解决方案及现场结果
用于 mmWave 封装测试的 xWave 平台 • 信号完整性 – 短阻抗控制共面波导 (CPW) – 测试仪和 DUT 之间的 1 个转换（连接器到引线框架） – DUT 球接触 CPW • 集成解决方案（PCB/接触器合一） – 包括从测试仪到 DUT 的完整 RF 路径 – 用于电源和控制信号的 Pogo 引脚 • 生产封装测试解决方案 – 坚固的引线框架可持续数百万次循环 – 机械组装完全可现场维护 – 包括校准套件（s 参数） – 用于三温测试（-55 至 155°C）的 CTE 匹配材料
深共晶溶剂辅助合成 - 评论
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W 中的协同晶界偏析和沉淀
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