随着现代经典技术中集成电路 (IC) 越来越小,量子力学的作用越来越突出,因此量子技术 (基于量子力学和量子信息论的技术 [1]) 变得越来越重要。利用量子技术构建的代表是量子计算机 [2],最近利用超导量子比特已经实现。在量子信息处理中,量子纠缠 [1,3,4] 作为一种物理资源发挥着重要作用,被用于各种量子信息处理,如量子隐形传态 [5,6]、超密集编码 [7]、量子克隆 [8]、量子密码学 [9,10]、量子计量学 [11] 和量子计算机 [2,12,13]。几年前,人们开始探索纠缠辅助目标检测协议(称为量子照明 [ 14 , 15 ])及其实验实现 [ 16 – 20 ]。量子照明是一种利用量子纠缠的协议
摘要在这项工作中,我们使用尖端的机器学习方法来解决模因中的性别歧视问题。该研究首先要导入和可视化模因数据集,然后使用包括种植,缩放和标准化的技术进行图像进行预处理,以便为它们做好准备进行模型培训。一种称为剪辑的预训练模型用于提取功能,并且数据集分为西班牙语和英语的模因的培训和验证集。收集的功能用于训练和评估各种机器学习模型,例如逻辑回归,SVM,XGBoost,决策树,随机森林,神经网络,Adaboost和SGD。精确得分,分类报告和混乱矩阵用于评估性能。随机森林模型在所有这些模型中都表现出了最好的作用。之后,创建了包含模型预测性别歧视发生在测试数据集中的JSON文件。结果强调了训练有素的模型和复杂的机器学习方法如何在社交媒体上识别危险内容,为未来的研究提供有见地的信息以及有助于创建更安全的在线空间的有用应用。
David J. Huggins*剑桥大学,TCM集团,Cavendish实验室,19 J J J Thomson Avenue,Cambridge CB3 CB3 0HE,英国联合王国联合国联合国联合国中心,剑桥大学,剑桥大学,剑桥大学,剑桥大学,英国CB2 CB2 CB2 1EW,英国djh210@cam.ac.uk C. bio divem c. of Oxford, South Parks Road, Oxford, OX1 3QU, United Kingdom philip.biggin@bioch.ox.ac.uk This author declares no conflict of interest Marc A. Dämgen Department of Biochemistry, University of Oxford, South Parks Road, Oxford, OX1 3QU, United Kingdom marc.daemgen@bioch.ox.ac.uk This author declares no conflict of interest Jonathan W. Essex School of南安普敦大学化学,南安普敦SO117 1BJ,英国救生科学研究所,南安普敦大学,南安普敦,SO17 1BJ,英国,英国J.W.essex@soton.acton.ac.ac.uk。 9JT,英国s.a.harris@leeds.ac.uk,该作者没有宣布的利益冲突Richard H. Henchman曼彻斯特生物技术学院,曼彻斯特曼彻斯特大学,曼彻斯特大学131号,曼彻斯特大学,M1 7dn,英国曼彻斯特化学学院M1 7dn,曼彻斯特,曼彻斯特,诺斯特郡,诺斯特,诺斯特郡,诺斯特。兴趣Syma Khalid化学学院,南安普敦大学,南安普敦SO17 1BJ,英国生命科学研究所,南安普敦大学,南安普敦SO17 SO17 1BJ,英国
将基于多甲基丙烯酸酯/多甲基丙烯酸酯(PS/ PMMA)块共聚物组成的自组装形成的纳米骨的最佳策略投资到硅底物中。作者表明,特定问题与通过自组装获得的PS面膜的等离子体蚀刻有关。的确,由于亚15 nm接触孔的纳米尺寸及其固有的高纵横比(> 5),因此必须重新审视微电子工业中通常用于蚀刻SIO 2和硅的等离子体蚀刻过程。特别是,蚀刻各向异性依赖于特征侧壁上钝化层的形成的过程不适合纳米尺寸,因为这些层倾向于填充导致蚀刻停止问题的孔。同时,与在高方面比率纳米骨中克服差分充电效应的典型过程相比,必须增加离子轰击能。然而,通过将适当的过程(例如同步的脉冲等离子体)进行开发,作者表明,通过使用块共聚物和硬面膜策略,可以将70nm深的孔深孔进入硅。这些实验产生的另一个有趣的观察结果是,对于亚15 nm孔,几个nm的临界维度(CD)缩合会导致强大比率依赖性蚀刻速率。此外,在每个等离子体步骤之后,对孔的CD的分散体进行了仔细的分析表明,CD控制远非令人满意的高级CMOS技术要求。v C 2014美国真空学会。[http://dx.doi.org/10.1116/1.4895334]关键问题来自从PS/PMMA矩阵中的未完成的PMMA在我们的自组装过程中的去除:可变量的PMMA保留在PS孔中,从而导致蚀刻步骤中的微功能效应,从而产生CD控制损失。也许可以通过将紫外线释放酸处理与乙酸处理相结合,以在等离子体蚀刻之前提供不含PMMA残基的PS膜,以解决此问题。
Marit Aure博士,Dir。 Lorena Baccaglini,Der,CCR Alison Boyce博士,Dir。我也是布朗,Der,Research&Research&Carory Development Branch(RTCDB)Christopher Brown博士,DEA,Scientific Review Branch(SRB)Christopher Campbell博士,DEA,SRB Preethi Chander博士,DER,Integraftive Biogy&Intectious Isology&Instectious Isises and Instectious Isases Branch(IBIDB)Jingshan Chen Chen,Dea,Dea,Srb srb srb MS。 Tiffany Chen,OD,通信与健康教育办公室(OCHE),DER,DEA,DEA,SRB MS的Ibidb Aiwu Cheng博士,Der,Der chen博士。 Jennifer Chi,OD,Octom MS。 Der的Alicia Chou,翻译基因组学研究部(TGRB)Kevin Chu先生,OD,OIT,OIT Michelle Cortes博士,Der,Ibidb,Ibidb Brett Dean先生,OD Financial Management Branch(FMB)Jimmy Do,OD,OD,OD,FBM Olga Epifano博士(OSD)Dena Fischer博士,Der,CCR,Melissa Ghim博士,Der,Ibidb,Ibidb博士Margaret Grisius,der,CCR,CCR,Joel Guzman先生,Der,OD MS。 April Harrison,DEA,GMB Belinda Hauser博士,DIR,OSD MS。杰西卡·亨利(Jessica Henry),OSPA,GABRIEL HIDALGO先生,DEA,GMB MS。 Yu-Ling Huang,OSPA,OSPA Timothy Iafolla博士,OSPA,OSPA Hiroko Eid博士,Der,CCR Tomoko Ikeuchi博士,Dir,Osd,OSD Dara Kessler博士,OD Leila Khaki博士,Der,Der,der,BSSRB,BSSRB,BSSRB Wendy Knosp博士Wendy Knosp,Ospa,OSPA OSPA博士Jamie Kugler,Dirl,dir,dir,dir。 Payal Rajender Kumar,OD Robert Kuska先生,OD,Oche Bikash Lamichhane博士,DI,OD Shuang Li博士,Der,Der,OD,Jiwon Lim博士,Jiwon Lim博士,Dir Orlando Lopez,Der,Der,Ibidb,Ibidb William Martin先生Susan Medve,DEA,GMB Yun Mei博士,DEA,SRBMarit Aure博士,Dir。 Lorena Baccaglini,Der,CCR Alison Boyce博士,Dir。我也是布朗,Der,Research&Research&Carory Development Branch(RTCDB)Christopher Brown博士,DEA,Scientific Review Branch(SRB)Christopher Campbell博士,DEA,SRB Preethi Chander博士,DER,Integraftive Biogy&Intectious Isology&Instectious Isises and Instectious Isases Branch(IBIDB)Jingshan Chen Chen,Dea,Dea,Srb srb srb MS。 Tiffany Chen,OD,通信与健康教育办公室(OCHE),DER,DEA,DEA,SRB MS的Ibidb Aiwu Cheng博士,Der,Der chen博士。 Jennifer Chi,OD,Octom MS。 Der的Alicia Chou,翻译基因组学研究部(TGRB)Kevin Chu先生,OD,OIT,OIT Michelle Cortes博士,Der,Ibidb,Ibidb Brett Dean先生,OD Financial Management Branch(FMB)Jimmy Do,OD,OD,OD,FBM Olga Epifano博士(OSD)Dena Fischer博士,Der,CCR,Melissa Ghim博士,Der,Ibidb,Ibidb博士Margaret Grisius,der,CCR,CCR,Joel Guzman先生,Der,OD MS。 April Harrison,DEA,GMB Belinda Hauser博士,DIR,OSD MS。杰西卡·亨利(Jessica Henry),OSPA,GABRIEL HIDALGO先生,DEA,GMB MS。 Yu-Ling Huang,OSPA,OSPA Timothy Iafolla博士,OSPA,OSPA Hiroko Eid博士,Der,CCR Tomoko Ikeuchi博士,Dir,Osd,OSD Dara Kessler博士,OD Leila Khaki博士,Der,Der,der,BSSRB,BSSRB,BSSRB Wendy Knosp博士Wendy Knosp,Ospa,OSPA OSPA博士Jamie Kugler,Dirl,dir,dir,dir。 Payal Rajender Kumar,OD Robert Kuska先生,OD,Oche Bikash Lamichhane博士,DI,OD Shuang Li博士,Der,Der,OD,Jiwon Lim博士,Jiwon Lim博士,Dir Orlando Lopez,Der,Der,Ibidb,Ibidb William Martin先生Susan Medve,DEA,GMB Yun Mei博士,DEA,SRB
Surgical Site Infection (SSI) is defined as an infection at the site of a surgical incision occurring within 30 days of an operation and can be classified as [1] superficial, including the skin and subcutaneous tissue, [2] deep, including the underlying muscle and fascia, or [3] space SSI, including any organs or tissues other than the muscle or fascia [1].SSI是最常见的医疗保健相关感染,导致了几种不良后果,包括增加伤口愈合时间,增加抗生素的使用,较长的医院住院以及总体上更高的医疗保健相关成本[2]。在沙特阿拉伯的一家三级医院进行的一项大型队列研究确定革兰氏阴性细菌是SSIS中最常见的致病生物,最常见的是大肠杆菌,其次是铜绿假单胞菌,铜绿假单胞菌,Klebsiella pneumoniae,Klebsiellaiae和kinetobactobactabacter baumanniai [3]。
人工智能 (AI) 是当今医学领域的主要驱动力之一,在临床诊断领域具有明显的实用性,并且在改善患者治疗结果方面发挥着作用。机器学习技术(“机器学习” [ML])源于人类的感受、学习和推理能力 1,基于逻辑算法的训练,通过这些算法,如果我们给机器一系列一般规则,机器就会在特定情况下做出决策。如今,人工智能应用已经非常多样化,已被用于改进诊断过程、识别罕见病症以及控制治疗后的结果。此外,由于 ML 技术具有很高的数据处理能力,创建具有多个记录的数据库可以帮助我们检测给定实体中的主要预后指标。毫无疑问,在医疗保健中纳入来自人工智能的元素正变得越来越频繁。主要包括:改善与患者沟通的计划、医疗监测系统、药物开发,以及最重要的是,在手术中,促进手术干预的机器人系统 2。尽管这些新技术在颌面外科领域的应用仍存在一定的局限性,但当今的外科医生需要正确理解它们的可能性、局限性和未来的挑战。在去年于巴塞罗那举行的世界移动通信大会上,展示了第一个能够通过与 5G 技术连接远程指导手术的 AI 平台(外科手术的进步 - TeleSurgeon 平台)。该系统可靠地减少了手术室中的错误,并在过程的最关键阶段依靠机器的建议。这些进步预示着一个非常光明的未来,尽管很难预测这些系统何时会在外科手术领域达到人类的能力;大多数预测都指向这发生在 2050 年代初。
从 Netflix 上的电影推荐到手机上的自动更正功能,人工智能在我们日常生活中的应用越来越普遍。医学和牙科领域可以应用人工智能来跟上技术进步并利用它们来提高实践效率。虽然人工智能尚未得到广泛应用,但在牙科和颌面外科领域与牙科射线照片结合使用时具有巨大潜力。射线照片可以作为机器学习算法的数据集,并使人工智能技术能够执行诊断疾病和治疗计划等任务。正在牙科研究中研究的人工智能技术的用途包括牙科图表、诊断龋齿、囊肿和肿瘤以及正颌和正畸病例的治疗计划。