研究人员表示:“GaN/AlN 量子点的一个非常吸引人的特征是它们属于 III 族氮化物半导体家族,即固态照明革命(蓝色和白色 LED)背后的家族,其重要性在 2014 年获得了诺贝尔物理学奖。”“如今,就消费市场而言,它是仅次于硅的第二大半导体家族,主导着微电子行业。因此,III 族氮化物受益于坚实而成熟的技术平台,这使得它们在量子应用开发中具有很高的潜在价值。”
通过静电组装制备过渡金属碳化物/碳氮化物(MXene)@聚苯乙烯纳米复合材料,用于高效电磁干扰屏蔽。先进功能材料 2017,27,1702807。
摘要:硝酸氢硼(HBN)中带负电荷的硼空位(V B-)缺陷,其具有光学可寻址的自旋态由于其在量子传感中的潜在使用而出现了。非常明显地,当将其植入距HBN表面的纳米尺度距离时,V b-可以保留其自旋相干性,并有可能启用超薄量子传感器。但是,其低量子效率阻碍了其实际应用。研究报告了提高血浆v B-缺陷的总量子效率。但是,迄今为止报告的最多17次的总体增强功能相对较小。在这里,我们证明了使用低损坏纳米捕获天线(NPA)的V B-的发射增强。观察到总体强度增强高达250次,对应于NPA的实际发射增强约为1685次,以及保留的光学检测到的磁共振对比度。我们的结果将NPA耦合的V B-缺陷作为高分辨率磁场传感器,并为获得单个V B-缺陷提供了有希望的方法。关键字:二维材料,HBN,血浆,纳米腔,旋转缺陷,量子传感
2024/3/6 11:00 11:15氮化物半导体4室D 06AD04O 1224屏障生长温度对绿色Gainn LED特征Mitsuki Yanagawa
氮化物材料中的氮掺杂是改善材料特性的一种有希望的方法。的确,GESBTE相位变化合金中的N掺杂已证明可以极大地提高其无定形相的热稳定性,这是确保最终相变存储设备的数据保留所必需的。尽管建议这种合金中的N掺杂导致GE-N键的优先形成,但有关键的进一步问题,尤其是SB-N和TE-N,并且结构排列尚不清楚。在本文中,我们介绍了使用大量的N含量从0到50 at at 50 at,我们介绍了沉积的元素GE,SB和TE系统及其氮化物(即Gen,SBN和10合金)的研究。%。通过傅立叶变换红外和拉曼光谱法研究了AS沉积合金。我们确定与GE-N,SB-N和TE-N键形成相关的主动振动模式,强调了N融合对这些元素系统结构的影响。我们进一步定性地将Gen,SBN和十个实验光谱与相关理想氮化物结构的“从头开始”进行了比较。最后,对氮化元素层的分析扩展到N掺杂的GESBTE合金,从而在记忆技术中采用的此类三元系统中对氮键有更深入的了解。
摘要 III 族氮化物和β 相氧化镓(β -Ga 2 O 3 )是目前研究较为深入的两种用于电力电子的宽带隙半导体材料。由于两种材料体系之间的晶格失配度相对较小,且可以利用体相 AlN、GaN 和β -Ga 2 O 3 衬底,因此已经实现了在β -Ga 2 O 3 上外延生长 III 族氮化物或反之亦然。然而,将两种材料体系集成在一起来设计功率器件仍然缺乏。本文数值研究了 AlN/β -Ga 2 O 3 异质结构,利用极化诱导掺杂来实现高性能增强型晶体管。受 AlN/β -Ga 2 O 3 界面极化效应的影响,沟道中的二维电子气浓度最高可达 8.1 × 10 19 cm −3。在沟道顶部引入p-GaN栅极,最终实现了具有可调正阈值电压的常关型AlN/β-Ga 2 O 3场效应晶体管。此外,我们插入了非故意掺杂的GaN背阻挡层以抑制漏极漏电流。最后,为了实现高性能III族氮化物/Ga 2 O 3基功率器件,我们进一步研究和分析了具有不同结构参数的器件的传输和输出特性。
自 2004 年以来,随着二维 (2D) 材料的迅猛发展,这些纳米材料在许多应用领域引起了广泛关注,包括储能、[1] 催化、[8] 柔性电子 [9] 和摩擦纳米发电机。[12] MXenes 于 2011 年被发现,是几原子厚的层状二维过渡金属碳化物、氮化物和碳氮化物。[13] MXene 单片的化学式为 M n +1 X n T x (n = 1 至 4),它描述了交替的过渡金属层(M:元素周期表的第 3 – 6 族)与具有键合终端的碳/氮(X)层(T x:-O 2 、-F 2 、-(OH) 2 、-Cl 2 或它们的组合)交错在外部过渡金属表面上。 [6, 14, 15] MXenes 的晶体结构和化学式来源于其 3D