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World File Search System氮化硅
DNA折纸定向集成胶体纳米光子材料与硅光子学
将胶体量子发射器确定性地整合到硅基光子器件中将推动量子光学和纳米光子学的重大进展。然而，将 10 纳米以下的粒子以纳米级精度精确定位到微米级光子结构上仍然是一项艰巨的挑战。在这里，我们引入了腔形调制折纸放置 (CSMOP)，它利用 DNA 折纸的形状可编程性，选择性地将胶体纳米材料沉积在光刻定义的光刻胶腔内，这些光刻胶腔被图案化到任意光子器件上，具有高产量和方向控制。软硅化钝化可稳定沉积的折纸，同时保留其空间可编程的 DNA 杂交位点，从而实现等离子体金纳米棒 (AuNR) 和半导体量子棒 (QR) 的位点特异性附着。这分别提供了对光散射和发射偏振的控制，并在氮化硅波导、微环谐振器和靶心腔内确定性地集成了单个 QR。因此，CSMOP 为胶体纳米材料集成到光子电路中提供了一个通用平台，具有为量子信息科学和技术提供强大推动力的广阔潜力。
联合研究的启动是为了评估硝酸硅陶瓷底物的热扩散率
氮化硅陶瓷底物在活性金属悬挂（AMB）底物中起着关键作用，用于电动模块，其应用包括电动汽车（EV）和混合电动汽车（HEV）电动机控制的逆变器。这些基材在功率半导体模块操作过程中具有散热的函数。同时，底物越细，其热扩散率越高，功率半导体模块的操作效率越大。增加的电动汽车和HEV的采用量正在推动针对高功率设计的功率半导体模块的更多使用，从而最终导致对较薄的底物的需求不断增长，这些底物具有很大的热耗散性能。然而，缺乏评估比0.5毫米的底物热扩散性的确定方法，这在确保测量结果的一致性方面引起了挑战。这项联合研究邀请AIST及其对评估方法的广泛了解以及NGK及其先进的陶瓷底物技术，以收集数据以量化初步过程，这会影响底物热扩散率的测量。这将使我们能够验证评估高性能薄底物的方法，这些底物甚至比0.5毫米薄，例如尚未根据现有日本工业标准（JIS）定义的方法，从而有助于高度准确的测量数据和评估方法的未来标准化。
Honeywell ZephyrTM 数字气流传感器 HAF 系列 — 高精度：10 SLPM、15 SLPM、20 SLPM、50 SLPM、100 SLPM、200 SLPM、300 SLPM
描述 Honeywell Zephyr™ HAF 系列传感器提供数字接口，用于读取指定满量程流量和补偿温度范围内的气流。热隔离加热器和温度传感元件有助于这些传感器对空气或气体流量做出快速响应。Zephyr 传感器设计用于测量空气和其他非腐蚀性气体的质量流量。标准流量范围为 10 SLPM、15 SLPM、20 SLPM、50 SLPM、100 SLPM、200 SLPM 和 300 SLPM，可提供自定义流量范围。传感器经过完全校准，并通过板载专用集成电路 (ASIC) 进行温度补偿。HAF 系列 >10 SLPM 在校准温度范围 0°C 至 50°C [32°F 至 122°F] 内进行补偿。最先进的 ASIC 补偿提供数字 (I2C) 输出，响应时间为 1 毫秒。这些传感器采用热传递原理测量空气质量流量。它们由微桥微电子和微机电系统 (MEMS) 组成，带有沉积有铂和氮化硅薄膜的温度敏感电阻。MEMS 传感芯片位于精确且精心设计的气流通道中，可提供对流量的可重复响应。Zephyr 传感器为客户提供增强的可靠性、高精度、可重复的测量以及定制传感器选项以满足许多特定应用需求的能力。坚固的外壳与稳定的基板相结合，使这些产品极其坚固耐用。它们是按照 ISO 9001 标准设计和制造的。
Honeywell ZephyrTM 数字气流传感器 HAF 系列 - 高精度：10 SLPM、15 SLPM、20 SLPM、50 SLPM、100 SLPM、200 SLPM、300 SLPM
描述 Honeywell Zephyr™ HAF 系列传感器提供数字接口，用于读取指定满量程流量和补偿温度范围内的气流。隔热加热器和温度传感元件可帮助这些传感器快速响应空气或气体流量。Zephyr 传感器设计用于测量空气和其他非腐蚀性气体的质量流量。标准流量范围为 10 SLPM、15 SLPM、20 SLPM、50 SLPM、100 SLPM、200 SLPM 和 300 SLPM，可提供自定义流量范围。这些传感器经过全面校准，并通过板载专用集成电路 (ASIC) 进行温度补偿。HAF 系列 >10 SLPM 在 0°C 至 50°C [32°F 至 122°F] 的校准温度范围内进行补偿。最先进的基于 ASIC 的补偿提供数字 (I2C) 输出，响应时间为 1 毫秒。这些传感器采用热传递原理测量空气质量流量。它们由微桥微电子和微机电系统 (MEMS) 组成，其中的温度敏感电阻沉积有铂和氮化硅薄膜。MEMS 传感芯片位于精确且精心设计的气流通道中，可对流量提供可重复的响应。Zephyr 传感器为客户提供增强的可靠性、高精度、可重复的测量以及定制传感器选项以满足许多特定应用需求的能力。坚固的外壳与稳定的基板相结合，使这些产品非常坚固。它们是根据 ISO 9001 标准设计和制造的。
Honeywell ZephyrTM 数字气流传感器 HAF 系列 - 高精度：10 SLPM、15 SLPM、20 SLPM、50 SLPM、100 SLPM、200 SLPM、300 SLPM
描述 Honeywell Zephyr™ HAF 系列传感器提供数字接口，用于读取指定满量程流量和补偿温度范围内的气流。隔热加热器和温度传感元件可帮助这些传感器快速响应空气或气体流量。Zephyr 传感器设计用于测量空气和其他非腐蚀性气体的质量流量。标准流量范围为 10 SLPM、15 SLPM、20 SLPM、50 SLPM、100 SLPM、200 SLPM 和 300 SLPM，可提供自定义流量范围。这些传感器经过全面校准，并通过板载专用集成电路 (ASIC) 进行温度补偿。HAF 系列 >10 SLPM 在 0°C 至 50°C [32°F 至 122°F] 的校准温度范围内进行补偿。最先进的基于 ASIC 的补偿提供数字 (I2C) 输出，响应时间为 1 毫秒。这些传感器采用热传递原理测量空气质量流量。它们由微桥微电子和微机电系统 (MEMS) 组成，其中的温度敏感电阻沉积有铂和氮化硅薄膜。MEMS 传感芯片位于精确且精心设计的气流通道中，可对流量提供可重复的响应。Zephyr 传感器为客户提供增强的可靠性、高精度、可重复的测量以及定制传感器选项以满足许多特定应用需求的能力。坚固的外壳与稳定的基板相结合，使这些产品非常坚固。它们是根据 ISO 9001 标准设计和制造的。
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描述 Honeywell Zephyr™ HAF 系列传感器提供数字接口，用于读取指定满量程流量和补偿温度范围内的气流。隔热加热器和温度传感元件可帮助这些传感器快速响应空气或气体流量。Zephyr 传感器设计用于测量空气和其他非腐蚀性气体的质量流量。标准流量范围为 10 SLPM、15 SLPM、20 SLPM、50 SLPM、100 SLPM、200 SLPM 和 300 SLPM，可提供自定义流量范围。这些传感器经过全面校准，并通过板载专用集成电路 (ASIC) 进行温度补偿。HAF 系列 >10 SLPM 在 0°C 至 50°C [32°F 至 122°F] 的校准温度范围内进行补偿。最先进的基于 ASIC 的补偿提供数字 (I2C) 输出，响应时间为 1 毫秒。这些传感器采用热传递原理测量空气质量流量。它们由微桥微电子和微机电系统 (MEMS) 组成，其中的温度敏感电阻沉积有铂和氮化硅薄膜。MEMS 传感芯片位于精确且精心设计的气流通道中，可对流量提供可重复的响应。Zephyr 传感器为客户提供增强的可靠性、高精度、可重复的测量以及定制传感器选项以满足许多特定应用需求的能力。坚固的外壳与稳定的基板相结合，使这些产品非常坚固。它们是根据 ISO 9001 标准设计和制造的。
通过平台启用了集成的谐振电梳...
综合光子学领域对由于其设备的效率，速度和紧凑性而产生了重要影响，包括通信，传感和量子物理学，包括通信，传感和量子物理。然而，对o虫块激光器的依赖损害了这些系统的紧凑性。虽然硅光子学和III-V平台已经建立了集成的激光技术，对超低光损耗的新兴需求，更宽的带盖和光学非线性需要其他平台。由于吞吐量有限或非常规的过程要求，在较不成熟的平台上开发集成激光器是艰巨而昂贵的。在响应中，提出了一种新型的平台激光集成技术，它利用奇异的设计和过程流，不适用于多种平台。利用两步的微型转移打印方法，在1.7至2.5之间的折射率之间达到了几乎相同的激光性能。实验验证表明，在硝酸盐和氮化硅平台上处理的设备之间的激光特性非常相似。此外，还展示了激光与薄膜锂锂平台上的共振电形梳发电机的整合，显示了跨越12 nm的80多个梳子线。这种多功能技术超越了平台特异性限制，促进了跨多个平台等应用程序，例如微波光子学，手持式光谱仪和成本效益的LIDAR系统。
Honeywell ZephyrTM 数字气流传感器 HAF 系列 - 高精度：10 SLPM、15 SLPM、20 SLPM、50 SLPM、100 SLPM、200 SLPM、300 SLPM
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电化学导向的有损生物功能化......
纳米技术和光子学领域的最新进展为开发新一代灵活、便携、多功能和高性能光纤传感器提供了可能性，例如基于有损模式谐振 (LMR) 的传感器。由于其灵活性和相对较高的灵敏度，这种新方法在过去 20 年中应运而生，并发现了许多应用，如折射率 (RI) [ 1 ]、电压 [ 2 ]、pH 值 [ 3 ]、湿度 [ 4 ] 和化学检测 [ 5 , 6 ]。此外，由于 RI 灵敏度高，基于 LMR 效应的无标记生物传感器的研究也已有大量报道 [ 7 , 8 ]。这种光学效应发生在光纤上的薄膜中。然而，必须满足基底（光纤）、薄覆盖层和外部介质的介电常数的特定条件。一般来说，薄膜介电常数的实部必须为正，同时其幅度要高于其虚部和分析物的介电常数 [ 7 ]。因此，要获得 LMR，需要选择合适的光纤覆盖材料。许多薄膜材料沉积在石英玻璃上时可以获得 LMR。这些材料包括半导体和金属氧化物或氮化物（氧化铟镓锌 [9]、氮化硅 [10]、氧化铟锡 (ITO) [11]、掺氟氧化锡 (FTO) [12]、氧化锡 [13]、氧化锌 [9, 14]、氧化铟 [15]、氧化钛 [16]，以及氧化铪、氧化锆和氧化钽 [17]、类金刚石碳膜 (DLC) [18] 和各种聚合物 [3]）。其中一些材料，例如 ITO [19-21] 和 FTO [12]，由于其独特的性能，例如良好的电导率和合适的带隙 [22]，已被报道能够在光学和电化学两个领域发挥作用（EC）传感器的询问是可以同时进行的。由于多个
绝缘体上硅锂上的集成掺杂的波导放大器
光学放大设备是光学通信系统中的关键组件。在1980年代，Erbium掺杂的纤维放大器（EDFAS）是一项开创性的成就，可以实现长途光学通信和革命性的信息传输[1，2]，因为EDFA一直为全球基于纤维的通信网络提供了低噪声的高收益，数十年来。erbium离子在覆盖高输出功率的电信带中表现出稳定和低噪声增益，使Erbium掺杂介质非常适合光学放大器和激光器。但是，EDFA通常需要一米至数十米的光纤长度，这使它们容易体现环境波动，并为整合工作带来挑战。半导体光放大器（SOA）具有高增益和集成，但它们具有极化敏感[3]，噪声图也相对较高。对比，与不同光子平台的稀土离子掺杂显示了可以有效解决问题的综合掺杂波导放大器（EDWAS）的巨大希望[4，5]。根据1990年代开始对EDWA进行的研究[6]。如今，Edwas引起了重大的兴趣，受益于不同集成光子平台的传播损失，包括氮化硅（SI 3 N 4）[1、7-9] [1、7-9]，氧化泰当不是（TEO 2）[10]和Niobate（Niobate（ln）[4、11-18）[4、11-18] [4、11-18] [4、11-18]>尤其是，由于其透明度较大，非线性和出色的电极（EO）特性，LN长期以来一直是光子学的有希望的材料。绝缘子（LNOI）平台上的Niobate锂结合了LN的优势与增强的模式限制，使其成为下一代光子集成电路