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光罩
在半导体器件制造过程中，EUV 光刻技术必不可少，而光化学 EUV 掩模计量技术必不可少。在 PSI，我们正在开发 RESCAN，这是一种基于相干衍射成像 (CDI) 的平台，可以满足当前和未来的掩模检查分辨率要求。在 CDI 中，用相干光照射样品获得的衍射图案由像素检测器记录，这些衍射图案用于通过迭代相位检索算法重建物体的复振幅图像。虽然在传统光学系统中，像差会影响最终图像的分辨率，但 CDI 方法本质上是无像差的。尽管如此，仍需要仔细预处理衍射信号以避免重建图像中出现伪影。特别是，由于我们的系统以 6° 的入射角在反射模式下工作并使用平面检测器，因此有必要校正由于非远心性而导致圆锥失真的记录衍射图案。本文讨论了衍射数据预处理对重建图像质量的影响，并通过在 RESCAN 显微镜中应用优化的数据预处理流程展示了缺陷灵敏度的提高。结果，我们在光掩模上实现了低至 20 nm 的缺陷灵敏度，并在大视场中实现了均匀的图像质量。
国立彰化师范大学电子工程学系硕士班毕业条件表暨课程...
2 4光电实验技术光电实验室光电工程概论33 3 3 3 3 3 3 3 3 3 3 3 3 3 3 3 3 3技术工业和微电源行业的技术半导体设备半导体产业技术专论33半导体行业和技术的特殊主题半导体磊晶技术33半导体外延技术
17 June 2024 学术论文
研究团队开发了自适应采样器ASr，一种基于任务多样性、熵和难度动态加权的分 布生成函数，以优化元学习模型的泛化性能，并为此提出了一种通用的元学习算法。 研究团队在多个基准数据集和不同学习场景下对所提方法进行了广泛实验，包括小 样本学习、跨域学习、多域学习和增量学习等，并从多个维度对方法的有效性、泛化性 、计算效率等进行了评估和对比，结果证明了所提方法在不同网络架构和元学习框架下 的优越性能和通用性。
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COVID-19 的持续传播，包括病毒变种的发展以及其他流行病或大流行危机的出现，可能会对我们的业务、经营业绩和财务状况产生负面影响。尽管全球对液化天然气的需求保持相对稳定，但 COVID-19 大流行导致全球对液化石油气和原油的需求波动。由于我们的业务包括液化天然气和液化石油气的运输，我们运输的货物需求的任何大幅下降都可能对我们服务的需求产生不利影响。COVID-19 还增加了某些与船员相关的成本，从而减少了我们的现金流，大流行是导致船舶价值下降的一个因素，导致我们在截至 2020 年 12 月 31 日的年度内减记了某些多气体船舶，如“第 18 项 - 财务报表：注释 19a -（减记）和船舶销售收益”中所述。