在纳米X洁净室设施中 @ iit Hyderabad背景:IIT Hyderabad的Nano-X是一个集中式纳米制造中心住房住房半导体制造工具10000类(1400平方米>ft)和1000类(500平方米ft)清洁室。这些工具可以为研究需求制造纳米级设备。nano-X中的X代表电子/光子/MEMS设备。用于研究和学术用途的纳米X设施中的设备用于执行半导体处理步骤,例如光刻,沉积,蚀刻和键合。IITH希望聘请工厂经理,流程工程师和项目人员职位。雇用的员工将向教师团队报告洁净室设施的监督。下面给出了角色和职责的细节。提交应用程序的链接是https://forms.gle/7shvjqcgbtjxvaq86。(请填写Google表格并上传您的简历)。只有通过上面的Google表格提交的应用程序才会得到娱乐。申请的最后日期:2025年2月26日或直到找到合适的候选人。
在处理有害物质(去除石棉,重金属,致癌灰尘,冷却润滑剂等)中苛刻的空调技术(手术室 /医院重症监护病房,实验室,洁净室等)< / div>在高度敏感的工业过程中(药学,生物技术,化学,光学,食品加工,微电子学等)作为Dectusting技术的下游警察过滤器
生产力是由IT解决方案驱动的,提供了最终的便利性和用户友好性。我们的最先进的HMI系统是根据我们对洁净室和Phar Maceutical行业的特定生产要求的广泛和深入了解而设计的。我们了解在这些环境中维持严格标准的至关重要性,我们的系统旨在不仅满足而且超出了这些要求,从而确保了无缝集成和用户满意度。
罗克韦尔科学成像部门为工业、商业、科学、卫星和光通信应用的客户提供最先进的红外 (IR) 和可见光 (VIS) 焦平面阵列 (FPA) 以及集成相机系统和电子设备。我们的产品包括标准产品和定制产品。我们提供标准红外焦平面阵列,用于遥感、天文学、卫星制导和热成像等应用。我们的定制产品线使我们的客户能够灵活地指定探测器截止波长,以满足特定应用的传感需求。此外,还可以选择电子设备以满足系统要求,例如帧速率、信噪比和阵列格式。除了提供 FPA,我们还提供控制和读出电子设备(“光子到比特”)以及完全集成的高速多通道相机系统。过去几年的稳步发展使我们在红外和可见光成像探测器阵列的开发、制造和实施相关领域积累了专业知识,包括:• 最先进的探测器 • 成像系统电子设备 • 混合信号最先进的 CMOS 设计 • 成像系统集成 • 低温技术 • 超大规模混合 • FPA 设备特性 • 系统集成 • 微电子处理 • ISO-9001 2000 认证的组件和装配程序 • 符合航天和飞行要求的 FPA 和 FPA 摄像系统 我们的 FPA 的开发、制造和测试均在我们位于加利福尼亚州卡马里奥的全新最先进的研发和制造工厂中进行。这个占地 67,000 平方英尺的工厂包含 23,000 平方英尺的洁净室,包括 100 级洁净室区域。我们的洁净室符合联邦标准 209,并由我们的质量保证部门监控合规性。RSC QA 系统已通过 ISO 9001 2002 认证,可确保交付给客户的产品的质量。我们的内部混合能力使我们能够完全控制焦平面阵列的混合,尺寸范围从 128x128 到 2048x2048 像素及更大。
样本被密封在密封舱内运回地球,在 10,000 级洁净室中用氮气打开,以防止污染。用消毒工具挑选单个颗粒,并将其存放在密封容器中,在氮气下保存。在分析之前,样本经过纳米 X 射线计算机断层扫描,并嵌入环氧树脂块中,以进行扫描电子显微镜检查。
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