用于 LIDT 测量的光栅扫描应用每年都越来越受欢迎。当光学元件的零散缺陷密度较低时(其他测试协议往往会高估 LIDT),这是一种非常有用的程序。此外,光栅扫描通常用于认证大口径光学元件,以及需要了解最坏情况的情况。现在,Lidaris 可以从标准光栅扫描测试中提供更多信息。新增一项功能——根据激光辐照水平统计激光诱导表面物体的辐射强度。
我们所有使用高功率激光器的人都经历过激光损伤,通常是在我们最不想发生的时候。有时,仅仅是一道意外的闪光就意味着需要更换光学元件,但情况往往更糟,因为单个涂层损坏就会导致整个系统故障。我们的大部分工作是认证脉冲激光系统的光学元件,以防止这种灾难性事件的发生。近年来,我们收到越来越多的 CW 测试请求。这些光学元件主要用于制造业和医疗行业,而这些行业的损坏成本同样高昂。随着输出功率的增加,损坏越来越普遍,认证 CW 光学元件也变得更加必要。它们似乎在低于脉冲系统中的性能和阈值预期的功率水平下损坏。我们在此报告了一项关于不同基底材料在脉冲和 CW 性能方面的研究,这些研究由它们的激光诱导损伤阈值 (LIDT) 值给出。LIDT 值表示光学元件在不损坏的情况下可以承受的最大功率密度(或在 CW 的情况下,最大线性功率密度)。
“眼部激光损伤时可能会出现短暂疼痛,但这种情况很少见。这种疼痛不会持续,就像临床视网膜光凝后疼痛不会持续一样。无损伤性激光照射和大多数激光损伤都是无痛的,但在激光照射后揉眼睛可能会导致疼痛的短暂性角膜擦伤,人们可能会将其归因于激光照射。” 6
摘要。大型光学元件的激光损伤抗性仍然是高能/高功率 (HEL/HPL) 激光系统的维护成本、可靠性和进一步发展的重要限制因素。由于许多制造商在纳秒范围内提供不同的激光损伤阈值 (LIDT) 值,仅基于数字的简单排名可能无法提供最佳选择的清晰图像。尽管遵循 ISO 21254 标准,但测试程序的变化使选择过程更加复杂。通过采用全面的一对一测试程序,可以观察到影响 LIDT 值的各种参数。将概述激光束大小、被测光学器件的光谱特性以及表面的可能污染如何影响 LIDT 值。
3. LDD-IFE 技术问题——有几种方法可以提供 LPI 抑制和辐射均匀性所需的带宽。每个激光源可能产生所需的全部带宽、部分带宽或跨越所需光谱的离散波长。宽带非相干系统因过大带宽导致的时间调制而引发激光损伤问题,而宽带频率上转换为紫外波长具有挑战性,因此在离散波长下工作的激光器应该更简单、更有优势,尽管考虑到 IFE 反应堆容器可用立体角的实际限制,可能需要光谱光束组合 [19] 将所有激光辐射传送到目标。基于 OPA 或激光的系统可以为 LDD-IFE 提供所需的宽带放大。
1:40 PM MB1-MOA-1改进多层电介质涂料,以在国家点火设施(NIF),Colin Harthcock(Harthcock1@llnl.gov),Lawrence Livermore Laboratory,Lavermore Laboratory的邀请以来,自有启动的人已经邀请了激光仪的出现。自1970年代初以来,美国能源部(DOE)的融合(ICF)有可能彻底改变我们的能源的产生和依赖。然而,很快就会理解,激光系统中多层介电(MLD)干扰涂层的损害可能是关键的频率和功率限制组件。因此,有一项巨大的跨学科努力来了解激光物质的相互作用,从而导致损坏以及相关的激光损伤前体和缓解。在本演讲中,我们将讨论NIF激光系统和相关涂料的基本布局。值得注意的是,高质量,米大小的光学涂层具有良好的均匀性和高伤害性能的问题 - 这需要将电子束蒸发用于许多高通量,大型孔径。对于每种MLD涂层类型,我们将讨论典型的问题,典型的容易损害前体和相关的缓解。对于许多镜子,已经证明结节型缺陷会增加局部电场,吸收并大大降低涂层的损伤性。此外,我们将讨论其他缺陷,例如化学计量问题,结晶度和纳米泡。
规格作为基于差异较小的材料的设计。除了折射指数外,材料还必须满足其他要求,其中的材料在波长范围内具有可忽略的损失。但是,在介电材料中,折射率和吸收边缘是连接的。[1]具有高折射率的材料在长波长下具有吸收边缘,而低折射率材料在短波长下具有吸收边缘。tio 2是具有最高折射率的介电材料,在频谱的可见范围(VIS)中,开始在≈400nm处发射。具有更高折射率的处置材料,而在VIS中保持透明,将具有广泛的实际相关性,因为它将允许使用层较低的层且整体厚度降低的干扰设计。如本文所示,纳米胺的沉积速率超过了TIO 2之一。预计厚度降低和高沉积速率都会导致涂料系统的生产率提高和制造成本降低。除了制造纳米酰胺外,一种将折叠指数与散装材料特性脱离的方法是扫视角度沉积,[2,3]中形成了柱状纤维结构,从而减少了有效的折射率。因此,将在散装层和具有相同材料的柱状结构的层面层之间发生干扰效应。[4,5]。在2016年[7]由于没有不同材料之间的接口,这打开了有趣的效果,例如板极化器或更高的激光损伤抗性。如参考文献所述,一种可比较的方法是由有机膜的离子蚀刻形成的自组织结构。再次,通过蚀刻降低了层的有效折射率,该蚀刻引入了局部和未定位的多孔结构。[6]如果将层用作抗反射设计中的最外层,则此效果是有益的。至于瞥见角度沉积,自组织层的缺点是对环境条件的敏感性提高。一个最近克服两个特征之间联系的概念是量化纳米胺(QNL)的,这是Willemsen,Jupé等人首次报道的。