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模拟集成电路课程设计（版图） 模拟集成电路布局
讲师 • 时间 – 讲座：周二 14:00 至 15:00 – 实验室：周二 15:00~17:30，周五 14:00~17:30 • 讲师 – 赵健助理教授和王国兴教授 – 微电子学院，427 室
创新与增长并存？探索加纳的数字版图
9 KPMG，《KPMG 全球科技报告 2022》（KPMG，2022 年 9 月）。10 政策创新基金会，“小企业法案和初创企业法案 2.0 版基准测试”，生态系统 2023，2023 年 11 月 18 日访问。11 非洲联盟，《非洲数字化转型战略（2020-2030 年）》。12 世界银行集团，《加纳数字经济诊断报告》（华盛顿特区：世界银行，2019 年）。13 Strategy&，《数字化促进经济增长和创造就业：区域和行业视角》（博思艾伦咨询公司，2013 年）。14 创新火花，《加纳创新生态系统报告 2022：年度回顾》（创新火花，2022 年）。
65-...中总电离剂量响应的布局依赖性
然而，LDE 对辐射效应的影响尚不清楚，很少有论文关注这一问题，且有限的研究表明器件的辐射敏感性与版图有关。Rezzak 等人 [6] 首次研究了 90 nm 体硅 NMOS 器件中版图相关的总电离剂量 (TID) 响应，结果表明，由于浅沟槽隔离 (STI) 引起的压应力较弱，因此辐射诱导漏电流随栅极至有源区间距的增加而增大。对于 45 nm 应变 SOI RF nFET，不同的源/漏接触间距和栅指间间距可能导致 RF 性能和 TID 退化之间的权衡 [7]。很显然，关于 LDE 对纳米级器件辐射响应的实验研究还很有限，需要进一步研究。
将视觉与硬件保证相结合的一步
来自成像方式的误差以及由于与 IC 样品的物理相互作用而直接导致的误差。由于设计实践和制造 IC 所用材料而在 RE 工作流程中引入的噪声被列为“ 代工厂/节点技术特定 ” 误差源。最后，由于人为相互作用而发生的误差列在“ 人为因素 ” 下。讨论这些噪声源的来源文献还介绍了抑制它的方法。例如，可以通过在 IC 芯片表面沉积薄层导电材料（如碳或铂）来防止与成像相关的误差源中的传导 [18, 11]。为避免冗余，这里不再详细讨论除版图特定误差源之外的各个噪声源。版图特定误差源（例如特征尺寸和接近度）是版图综合和所谓设计规则的直接结果。复杂的几何结构只有在成像方式的分辨率能力范围内才能成像。类似地，彼此靠近放置的结构也可能无法有效解析。简而言之，除非使用较小的视野或高放大倍数，否则这些特征可能会被 SEM 截断。表 1 显示了讨论每个错误源及其解决方法的著作。引用的著作中还提供了全面的模型验证。无法抑制或预防的错误源作为合成图像生成工作流程的一部分，以填充数据集。另一个值得关注的是，用于生成数据集的设计布局选择有限。任何数字设计的基本构建块都是标准单元。它们代表基本逻辑门、更复杂的门（例如全加器）和寄存器，并在整个设计中重复出现。流行的商业 IC 设计工具和开源标准单元库（均由 Synopsys 授权用于生成数据集）用于合成和布局布线高级加密标准 (AES) 设计。这些工具分别遵循 90nm 和 32/28nm 工艺设计套件 (PDK) 中指定的设计规则。
高级模拟集成电路设计
（如面向本科生开放，请注明区分内容。 If the course is open to undergraduates, please indicate the difference. ） 本课程主要讲授高级模拟集成电路设计的重要概念、基本模块与系统的分析与设计，具体内容包括晶 体管模型、噪声分析、模拟版图、运算放大器、偏置和带隙基准参考电路、连续与离散模拟滤波器、 模数转换器和数模转换器。学生将学习现代模拟集成电路中的重要概念，培养初步的分析和设计能 力，了解基本模块和系统的分析方法和设计流程。 This course provides a comprehensive introduction to various aspects of advanced analog integrated circuits design, including transistor models, noise analysis, analog layout, feedback, stability, operational amplifiers, and bias and bandgap voltage reference circuits. Specific topics will include analog filtering (continuous-time and discrete-time), analog-to-digital converters, and digital-to-analog converters. Students will learn to understand the concepts in modern analog integrated circuits, cultivate preliminary analysis and design capabilities, understand the analysis method and design process of the basic modules.
2022 年的 10 大清洁技术趋势
贸易壁垒和地缘政治将继续成为行业焦点，并开始重塑全球制造业版图。印度等主要太阳能安装市场制定政策以减少对国际组件进口的依赖，印度政府已推出生产挂钩激励 (PLI) 计划，而美国目前正在讨论“重建更美好”基础设施法案，这些政策可能成为激励国内太阳能光伏制造的重要驱动力。随着对美国和印度市场（分别是第二大和第三大太阳能光伏安装市场）的出口限制越来越多，领先的中国制造商将面临越来越大的压力，需要在中国大陆以外建设新产能，以继续向这些国际市场销售产品。今年，我们已经看到印度、美国、欧洲和东南亚国家宣布新的锭、硅片、电池和组件产能，随着供应链继续增长并适应新的国际贸易环境，这些举措将在 2022 年继续实施。
180nm 的功率、性能和面积评估...
摘要 本研究提出了一种能够有效、全面评估多种技术节点的CMOS工艺的功率-性能-面积（PPA）特性的方法。根据国际半导体技术路线图（ITRS），我们采用从180nm半节距节点到28nm节点的全尺寸缩小方法，设计并实现了一系列基准环形振荡器（RO）电路。同时，我们对基于六种低泄漏（LL）工艺：180nm、130nm、90nm、65nm、40nm和28nm工艺的RO电路进行了仿真、分析和版图设计。通过纵向分析和比较这六种工艺的PPA特性，可以更好地了解工艺质量，并得出一些可靠的结论来指导设计指标。所提出的方法和基准电路可以很好地扩展到未来的先进技术节点。关键词：集成电路（IC）、PPA、RO电路、CMOS工艺、PVT 分类：集成电路（存储器、逻辑、模拟、RF、传感器）
Sauer, Jennifer。“Mariko Mori 的艺术超越了时间和空间。” CR 时尚
森的早期摄影作品首次引起了艺术界的关注。作为这些照片的设计师、服装师和这些未来场景的主角，她笔下的超级女英雄从网络艺人到流行歌星再到科幻女神，应有尽有。这些幻想场景既是媚俗，又是文化评论，以俏皮的方式触及日本传统文化和人物，让观者有自己的看法。后来，这位艺术家将自己的实践扩展到雕塑、视频、装置和表演，通常以超越的理念为中心。2003 年，她受佛教启发的宇宙装置“波浪 UFO”是确立森在国际艺术版图上地位的开创性作品之一。这个互动雕塑投射出观众勇敢波浪的彩色图形插图，后来在 2005 年威尼斯双年展上展出，并在她的作品“一元性”的巡回展览中展出，这是对技术和人类联系的精神诠释。
宽带顺序负载调制平衡...
摘要：介绍了顺序负载调制平衡放大器（SLMBA）的基本理论，分析了其有源负载调制的工作原理。为了进一步提高SLMBA的性能，提出了一种有别于传统耦合器设计的耦合器与功率放大器（PA）联合设计的方法。该耦合器-PA联合设计方法根据SLMBA的回退点和饱和点，可以使耦合器和三通PA的工作状态更接近实际情况，提高了SLMBA的整体性能。然后通过预设的输出功率回退（OBO）10 dB确定控制PA与平衡PA的最大输出功率比，通过平衡PA的负载调制阻抗走线确定相位补偿线。为了验证所提方法，设计了工作在1.5～2.7 GHz（57%相对带宽）的SLMBA。版图仿真结果表明该器件饱和输出功率达到40.7～43.7 dBm，小信号增益为9.7～12.4 dB，饱和点和10 dB OBO点的漏极效率分别为52.7%～73.7%和44.9%～59.2%。