•该项目始于2018年,美国能源部国家核安全管理局(NNSA)的资助。•PNNL与医疗和生物药物灭菌行业的主要参与者合作,以识别和填补那些希望从钴60伽玛和氧化乙烷过渡到X射线和电子束(E-BEAM)的数据,教育和工具差距进行消毒。•总体目标是帮助行业多样化可用的辐射技术。•将美国和欧洲的利益相关者组成的联盟汇总了包括医疗和生物制药设备社区,电子束和X射线设备制造商,国家实验室,学术界和工业研发组织。
聚甲基丙烯酸酯(PMMA)抗性是在学术界和行业中用于高分辨率特征和升降应用的行业标准电子束抵抗。它也可以用于纳米印刷应用以及其他晶圆厂和研发过程,例如石墨烯薄片转移。CSAR是一种高科技抗电子光刻的抗性,它允许在微电子中实施高端应用,例如航空航天行业或高性能计算机。即使是小于10 nm的小结构,也可以通过这种抗性来实现。根据我们的实验室中的应用,使用电子束敏感的抵抗。电子束抗的例子是在氯苯,苯甲酸苯甲酸苯甲酸苯甲酸苯甲酸苯酚或乙二醇溶剂中稀释的聚甲基丙烯酸酯PMMA。两种溶剂之间的差异有可能稀释至抗抗性的粘度。乙基酯通常用于抗抗性的较薄版本。在暴露过程中,在正音调的情况下,聚合物链会分解,从而导致开发后基质上的空区域。相反,具有负抗性的辐照面积是交叉连接/硬化的,因此开发人员不会攻击它 - 它将仅溶解未暴露的抗性。
几个天体物理观察结果表明,宇宙的大部分质量是由一种新型物质制成的,称为暗物质,而不是与光相互作用。dm可以由新颗粒的黑暗扇区组成,该颗粒在新的U(1)仪表玻色孔中充满了与普通光子的混合,称为深光子。CERN的NA64E实验旨在使用100 GEV电子束在厚的活性靶标(电磁热量计)上产生和检测DS颗粒。Na64e中DS颗粒的检测是通过“缺失的能量”技术发生的。到目前为止,NA64E在1 MeV 与ERC资助的Project Project Poker结合使用,从2022年NA64E开始也以正电子束收集数据,以利用由于正电子共振灭绝过程而导致的DS产量增强。 这项工作列出了Na64e测量结果的最新结果,包括电子和正电子梁。与ERC资助的Project Project Poker结合使用,从2022年NA64E开始也以正电子束收集数据,以利用由于正电子共振灭绝过程而导致的DS产量增强。这项工作列出了Na64e测量结果的最新结果,包括电子和正电子梁。
热材料去除过程:电脱水加工(EDM):基本原理,过程参数,MRR的估计,熔化温度深度的建模,空化的作用和工作仪材料的熔化温度,表面处理量和加工精度电极和电磁流体和介电流体,EDM和电线EDM。电子束加工(EBM):简介,电子束加工与其他热过程的比较,EBM的设置,电子梁的功率需求,EBM工艺的力学,使用Buckingham的PIE定理在EBM中的功能特性衍生。激光束加工(LBM):简介,激光和反馈机制的类型,MRR,半无限表面上的数值建模和圆形束,机器时间的估计,LBM中的稳态孔渗透模型。
尘埃危害被认为是未来月球勘探的技术挑战之一。在我们过去的工作中,通过电子束从各种表面清除灰尘颗粒引入了一种新的粉尘缓解技术。这项技术是基于修补电荷模型开发的,该模型表明,电子束在灰尘颗粒之间的微腔内的电子束诱导的二次电子的发射和重新吸收会导致灰尘颗粒上的足够大电荷,从而导致由于强力排斥力而导致其从表面释放。在本文中,通过将样品相对于梁旋转,通过在灰尘覆盖的样品表面上的光束入射角改变了该技术的有效性。由于微腔的随机排列,将会以各种入射角将其暴露于光束,从而导致表面上更多的灰尘释放。对三个样本进行了清洁性能:玻璃,太空服和光伏(PV)面板。月球模拟物(直径<25μm)沉积在样品表面上,以使样品的初始清洁度为0%(全灰尘覆盖率)和40%。除了用固定的光束角度达到的清洁度外,还显示出梁入射角的整体表面清洁度增加了10-20%。玻璃和太空服样品的最终清洁度达到83 - 92%。涂有MGF 2的PV面板显示出对灰尘的更粘性,最大清洁度为50 - 63%。
在低电子能量的扫描电子显微镜(SEM)中,损伤诱导的电压改变(DIVA)对比度机制已作为一种快速且方便的方法,可以直接可视化硝酸盐(GAN)中能量离子辐照引起的电阻率的增加。在覆盖有金属面膜的蓝宝石上外上植物生长的gan层,并在600 keV能量下受到He 2 +辐射的约束。在不同的电子束电流和扫描速度下,在SEM上成像样品横截面处的二维损伤曲线。通过电子束照射沉积的累积电荷的增加观察到了图像对比的逐渐发展,以最终达到与GAN离子辐射部分的局部电阻率相关的对比度的饱和水平。提出的方法允许人们直接可视化离子辐照区域,即使是由于离子损伤导致的最低电阻率变化,即用离子辐照后,甘恩的所有级别的绝缘层堆积。考虑到不可能将湿化学的蚀刻技术应用于GAN,它使提出的技术成为基于GAN-基于GAN-基于电子设备的高度抗性和绝缘区域的可视化方法。提出的作品的主要目的是更深入地了解GAN中的Diva对比,特别强调讨论栅格速度和电子束电流的作用,即电荷堆积的细节样品表面。
辐射束的RMS半径由两个竞争效应确定:光学引导(光束聚焦)和衍射(梁膨胀)。最小辐射半径大约是Fodo晶格中X和Y电子束半径的较大。
摘要:事实证明,增材制造 (AM) 是众多行业中比传统工艺更受欢迎的工艺。这篇综述文章重点介绍了航空涡轮叶片从传统制造工艺到增材制造工艺的逐步发展。AM 是一种 3D 打印工艺,涉及快速成型和逐层构建工艺,可以开发涡轮叶片,并提供多种选项来修改涡轮叶片设计,与传统生产模式相比,可降低成本和重量。本文介绍了适用于制造高温涡轮叶片的各种 AM 技术,例如选择性激光熔化、选择性激光烧结、电子束熔化、激光工程净成型和电子束自由成型。本文讨论了 AM 的相关参数,例如粒度和形状、粉末床密度、残余应力、孔隙率和粗糙度。