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模拟微电子学 - BMS 工程学院
• 微电子学涉及研究和制造（或微加工）非常小的电子设计和元件。通常（但并不总是）这意味着微米级或更小。• 这些设备通常由半导体材料制成。• 微电子学的使用使数字设备变得便宜且广泛可用。
高性能P-i-n光电探测器在GE-ON-INSULATOR平台上
1 CAS关键实验室，中国科学技术大学，中国Hefei 230026； zhaoxuewei@ime.ac.cn（X.Z. ）; haiouli@ustc.edu.cn（H.L. ）; gpguo@ustc.edu.cn（G.G.） 2微电子设备和综合技术的主要实验室，中国科学院微电子学院，中国北京100029； linhongxiao@ime.ac.cn（H.L. ）; duyong@ime.ac.cn（Y.D. ）; kongzhenzhen@ime.ac.cn（Z.K. ）; sujiale@ime.ac.cn（J.S. ）; lijunjie@ime.ac.cn（J.L。 ）; xiongwenjuan@ime.ac.cn（W.X。） 3中国科学院微电子学院，中国北京100049，4北方大湾地区综合巡回赛和系统研究与发展中心，中国综合巡回赛和系统研究所，中国510535，中国。 luoxue@giics.com.cn 5电子设计系，瑞典中部，霍尔姆加坦10，85170 Sundsvall，瑞典 *通信：wangguilei@ime.ac.ac.cn（G.W. ）; miaoyuanhao@ime.ac.cn（Y.M. ）; rad@ime.ac.cn（H.H.R.）1 CAS关键实验室，中国科学技术大学，中国Hefei 230026； zhaoxuewei@ime.ac.cn（X.Z.）; haiouli@ustc.edu.cn（H.L.）; gpguo@ustc.edu.cn（G.G.）2微电子设备和综合技术的主要实验室，中国科学院微电子学院，中国北京100029； linhongxiao@ime.ac.cn（H.L.）; duyong@ime.ac.cn（Y.D.）; kongzhenzhen@ime.ac.cn（Z.K.）; sujiale@ime.ac.cn（J.S.）; lijunjie@ime.ac.cn（J.L。）; xiongwenjuan@ime.ac.cn（W.X。）3中国科学院微电子学院，中国北京100049，4北方大湾地区综合巡回赛和系统研究与发展中心，中国综合巡回赛和系统研究所，中国510535，中国。 luoxue@giics.com.cn 5电子设计系，瑞典中部，霍尔姆加坦10，85170 Sundsvall，瑞典 *通信：wangguilei@ime.ac.ac.cn（G.W. ）; miaoyuanhao@ime.ac.cn（Y.M. ）; rad@ime.ac.cn（H.H.R.）3中国科学院微电子学院，中国北京100049，4北方大湾地区综合巡回赛和系统研究与发展中心，中国综合巡回赛和系统研究所，中国510535，中国。 luoxue@giics.com.cn 5电子设计系，瑞典中部，霍尔姆加坦10，85170 Sundsvall，瑞典 *通信：wangguilei@ime.ac.ac.cn（G.W.）; miaoyuanhao@ime.ac.cn（Y.M.）; rad@ime.ac.cn（H.H.R.）
BX10 11-CASS•E _SED-v5 2011 年 2 月
4.2 实验接口、4.2.3 热、4.4 机械设计、4.6 电子设计、4.8 电源系统、5.2.3.1 选定的清洁方法、5.2.4.1 洁净室、7.1.3。发射场要求、附录 A（实验评审和总结）已更新，包括 CDR 评审、附录 C（外展活动）已更新，包括自 CDR 以来的活动、附录 E（时间表）已更新，以反映当前进展、附录 J 示意图。
BX10 11-CASS•E _SED-v5 2011 年 2 月
4.2 实验接口、4.2.3 热、4.4 机械设计、4.6 电子设计、4.8 电源系统、5.2.3.1 选定的清洁方法、5.2.4.1 洁净室、7.1.3。发射场要求、附录 A（实验评审和总结）已更新，包括 CDR 评审、附录 C（外展活动）已更新，包括自 CDR 以来的活动、附录 E（时间表）已更新，以反映当前进展、附录 J 示意图。
CS 2024 PR-成功第二年。
该会议还提供了有关界面和开放性花粉经济的会议前教程，以及有关设计挑战，突破性，包装，用chiplets赚钱以及近期趋势的面板。由电子设计编辑Bill Wong主持的Superpanel，重点是加速生成的AI应用程序，例如令人难以置信的流行ChatGpt®。领先的参展商和赞助商是应用材料，摘要，Alphawave Semi，开放计算项目，Achronix，Arm和Teradyne。从会议和主题演讲中的幻灯片可在网站上免费获得。
E5：微电子学 - ECE UNM
随着对小型和廉价设备的需求不断增长，该领域不断扩大。鉴于现代 MOS 技术中工艺几何尺寸的大幅缩小，主要关注领域通常是高性能 VLSI 电路设计和电子设计自动化 (EDA) 中的紧迫问题。该领域的研究包括 VLSI 电路设计、可重构计算、新兴纳米结构设备、可制造性设计、容错系统、三维集成、光电设备、嵌入式系统和硬件安全。