自半导体二极管激光的演示和基于SI的晶体管技术的高度流行以来,硅的激光构成了硅光子学的长期目标。1的基于SI的激光的显着优势应是由高收益制造工艺产生的,以便在高量的情况下允许低成本,但还可以从光子集成电路中启用低成本的光子系统。实现基于SI的频带间激光器的主要问题是IV组材料的间接带隙,这导致辐射推荐率较差。已经开发了几种溶液来实现硅的激光作用。2–6在Quantum级联结构中采用suber子带过渡是一个令人兴奋的选择,因为此类过渡与带隙的性质无关。到目前为止,量子级联激光器(QCL)7仅在Polar III – V复合半导体材料