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World File Search System目标材料
超微孔钙方酸盐金属有机骨架的气溶胶喷射打印
金属有机骨架 (MOF) 是具有独特吸附性能的微孔结晶配位聚合物。它们在催化、1 气体存储、2 分离 3 和微电子领域显示出了巨大的潜力。4 作为传感器涂层，它们可以将分析物富集在传感器表面，在某些情况下是选择性的。5,6 然而，由于缺乏简便和通用的沉积和图案化技术，它们的集成受到阻碍。7,8 基于溶液的 MOF 沉积技术，例如化学溶液生长或液相外延，可能会导致腐蚀或污染。4 化学气相沉积可以避免这些风险，9 但受到金属前体的反应性和连接剂的挥发性的限制。已经展示了多种用于 MOF 涂层的图案化方法。减法方法（例如剥离图案化 9,10 或无抗蚀剂直接光刻 11）涉及修改整个基板，这增加了残留物污染的风险。相比之下，加法图案化技术（例如选择性生长 12、微接触 12,13 和喷墨打印 14,15）仅将目标材料沉积在基板的有限区域上。喷墨打印特别
使用激光研究的热度电阻器
引言激光修剪是指使用激光控制电子电路元件的操作参数的制造过程。最常见的方法是细微调整电阻组件，基本过程方法包括跌落切割，边缘切割，L-CUT，等。电阻取决于物体的几何特性，宽度和厚度（高度）以及目标材料的独特电阻，这是一种被动修剪，通过改变对象的几何特性来控制目标的电阻值[1，2，3，4]。unicl（产品名称）用作修剪的热抗体，是一种经济友好的热源，由于非常清洁和出色的能量效率和快速温度的升高，因此具有出色的反应。unicl的IR加热器是通过使用面具的打印过程制造的，核心热源组件IR加热器使用不锈钢作为基板，最重要的是化学材料（Exouteric source），绝缘层和绝缘层和一个合并的金属和无机材料。它具有一种结构，其中使用丝网印刷形成电线，并用厚膜形成。图1显示了各种加热板的示例。在这项研究中，我们将解释激光修剪过程的开发，这些过程可以通过将激光处理方法应用于校正IR加热器温度特性的电阻特性的变化来同时提高产品的产量和精度。
Li4Br(OH)3 微结构合成监测，以解决锂基盐作为存储技术先进相变材料的开发挑战
如何快速可靠地克服挑战，以促进锂基盐在潜热存储技术中的开发？原位实时显微镜用于通过微观机制了解材料的理论和实验宏观性质之间的差异。尽管无机锂盐对空气/湿度敏感，且普遍认为 LiOH 在干燥环境或真空下会分解，所以不能用于在显微镜室内合成新材料，但仍证明了该方法在无机锂盐上的可行性。以 Li 4 Br(OH) 3（一种不常见的、有前途的相变材料）为例，调查了与理论能量密度 434 kWh/m 3 约 30% 的偏差来源。起始材料的水合/脱水是主要参数之一，应用温度协议，在形貌和性能方面引起与目标材料不同的偏差。如果不考虑这一标准，则可能会对设备在使用过程中的存储容量造成灾难性的影响。本研究重点介绍了避免这些缺陷的解决方案。尽管操作条件不同，但微观尺度上的结果与宏观尺度上的结果也得到了证明© 2020 作者。由 Elsevier Ltd. 出版。这是一篇根据 CC BY-NC-ND 许可开放获取的文章（http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/）。
JHEP11（2024）156
在强度边界进行的暗物质（DM）搜索就像在从未探索过的深海中的一场捕鱼探险一样。高强度打开了直接测试DM与标准模型的极度虚弱相互作用的可能性，否则就不可能进行探测。这些相互作用可以通过热冷冻输出在早期宇宙中产生光DM（在MEV-GEV范围内）[1]。对撞机搜索支持直接检测实验和间接检测观察，以测试热DM冻结的允许参数空间的联合努力。这种互补性对于特定的运动学构型尤其重要，从而在银河环境中使用目标材料或DM歼灭抑制DM弹性散射[2，3]。在本文中，我们重新审视了Belle II实验的灵敏度，以通过仅与光子耦合的轴突样粒子与SM通信。参考文献中考虑了这种简单的黑暗扇区场景。[4]，其中Belle II的敏感性集中在标准的单光子最终状态，并伴有缺失的能量。在Babar [5、9、10]之前实施了相同的实验策略，并且正在实施Belle II合作[11]，并希望很快就会提供结果[12]。我们制定了一种基于
辐射对电化学储能系统材料的影响
电池和电化学电容器 (EC) 对于电动汽车、电网和移动设备等应用至关重要。然而，现有电池和 EC 技术的性能无法满足汽车工业、航空航天和利用可再生能源的电网存储等日益增长的市场对高能量/高功率和长耐用性的要求。因此，改善储能材料的性能指标势在必行。在过去的二十年里，辐射已经成为一种改变储能材料功能的新手段。人们普遍存在一种误解，认为高能离子和电子的辐射总是会对目标材料造成辐射损伤，这可能会阻碍其在电化学储能系统中的应用。但在这篇评论中，我们总结了辐射对电化学储能系统材料影响的最新进展，以表明辐射对各种类型的能源材料都有有益和有害的影响。先前的研究表明，对控制由此产生的微观结构、缺陷产生、界面特性、机械性能和最终电化学性能的能量损失机制的基本理解至关重要。我们讨论辐射效应的类别如下：1) 缺陷工程，2) 界面工程，3) 辐射诱导降解，4) 辐射辅助合成。我们分析了重要趋势，并提供了对当前研究和未来研究方向的看法和展望，这些研究旨在利用辐射作为增强电池材料合成和性能的方法。
利用数据驱动的光伏能力预测的气象预测
抽象背景：旋转阳极X射线源的允许输入功率密度受到可用目标材料的性能的限制。尽管使用临床实践的变化，但使用的用于焦点表面温度的简化公式忽略了管电压。如本工作所提出的那样，改进了电子传输和靶标侵蚀的建模，可改善X射线输出降解对X射线输出降解，绝对X射线剂量输出以及诊断成像的质量和Orthovolt Cancer Cherapy的质量，用于广泛的技术因素。目的：改进电子功率吸收的建模以包括体积效应和表面侵蚀，以提高对X射线输出降低的理解，增强X射线管的可靠性并安全地扩大其使用场。方法：我们结合了蒙特卡洛电子传输模拟，耦合的热弹性有限元建模，侵蚀引起的表面粒度以及热物理和热机械目标特性的温度依赖性。提出了半经验的热机械标准来预测目标侵蚀。我们模拟了侵蚀的钨 - 侵蚀目标的吸收电子功率，并用带有球形单层的toge靶模仿，并与原始目标进行比较。Results: The absorbed electronic power and with it the conversion efficiency varies with tube voltage and the state of erosion.With reference to 80 kV (100%), the absorption of a severely eroded relative to a pristine target is 105% (30 kV), 99% (100 kV), 97% (120 kV), 96% (150 kV), 93% (200 kV), 87％（250 kV）和79％（300 kV）。我们表明，尽管表面加热的简单的müller -oosterkamp模型低估了较高的管电压相对于在80 kV下的运行的好处，但该误差限制为30 kV的误差低于-6％（建议还原），而300 kV + 13％（输入功率增加允许）。结论：纠正侵蚀目标材料的X射线转换效率，通常无法通过测量管电流来访问，这可能意味着对现有的X射线剂量计算进行校正。随着管电压增加的旋转阳极X射线试管的相对增加，其量大的电压易于预测的agnosmmüller– oosterkamp age agnosism age age agnosism age agnosism age age ageostermism age age age agnosism age age age age age agnosism agn依赖性的依赖性依赖于焦距的依赖性，这显着的量加热模型要小得多。钨孔和粒度的扩散率随着管电压增加的旋转阳极X射线试管的相对增加，其量大的电压易于预测的agnosmmüller– oosterkamp age agnosism age age agnosism age agnosism age age ageostermism age age age agnosism age age age age age agnosism agn依赖性的依赖性依赖于焦距的依赖性，这显着的量加热模型要小得多。钨孔和粒度的扩散率
触觉溅射目标中的纹理不均匀性
溅射沉积如图1所示，溅射沉积过程是通过用离子轰击所需沉积材料的目标来完成的。事件离子在目标内引发碰撞级联。当级联反应以足够的能量克服表面结合能到达目标表面时，可以弹出原子。溅射室的示意图如图2所示。电场将传入的气体电离（通常是氩气）。阳性离子轰击靶（阴极）和溅射原子在底物上（阳极）。可以加热底物以改善键合。溅射产量（即从每个入射离子射出的原子的平均原子数）取决于几个参数，包括相对于表面的离子入射角，离子的能量，离子和靶原子的相对质量以及靶原子的表面结合能。虽然影响溅射的相对较大的数字参数使其成为一个复杂的过程，但具有如此多的控制参数可以对所得膜的生长和微观结构进行很大程度的控制。各向异性的晶体靶材料，晶格相对于靶表面的方向影响溅射产量。在多晶溅射目标中，以不同速率的不同方向溅射的晶粒。这可能会影响沉积薄膜的均匀性。一个关键控制参数是目标材料中纹理的均匀性。图3显示了铜单晶溅射产量的各向异性（Magnuson＆Carlston，1963年）。所有面部中心材料的一般趋势均具有：S（111）> s（100）> s（110）。
问卷调查 - SAV
我们研究了 X 射线微断层扫描在实现最佳分辨率、最小化测量不确定性、抑制 3D 图像重建中的伪影形成以及总体优化微断层扫描测量方法方面的局限性。我们探索了通过选择目标材料（钨、钼）控制减速辐射和特征辐射的比率来改变产生的 X 射线辐射光谱组成的可能性、X 射线辐射光谱组成对光束硬化效应的影响以及通过过滤 X 射线管的加速电压来影响 X 射线光谱的可能性。进一步开发和改进了用于测量微米范围内尺寸和使用球形标准测量材料孔隙率的 X 射线微 CT 校准方法。取得的最重要的成果包括为材料研究、工程、矿物学、生物学、考古学和文化遗产保护领域的微 CT 测量和无损检测的新方法提出建议。在材料研究领域，设计并优化了用于对 MgB 2 基超导体进行无损成像的微层析成像方法（由电气工程研究所 SAS 的 Kováč 博士开发），从而能够对各种结构不均匀性进行成像，并无损测量沿预制件拉出的导体的有效超导体横截面积。在成像技术在生物学和古生物学中的应用领域，已经提出了具有优化测量条件的方法，以提高对比度，并开发了用于对图像数据进行数字处理的方法。这可以大大增加结构在其整个体积中的可见性的复杂性，并补充了对结构选定尺寸的定量分析，同时可以实现较低的测量不确定度。
在单个层压轨道的横截面形状上划分的能量沉积过程
在这项研究中，这项研究根据过程条件对熔体池形状变化特性进行了测试分析，以防止传感器在应用定向能源部门工艺技术作为生产嵌入式传感器金属结构的方法时，通过过程的高热能破裂。随着AI技术的发展，结构自我诊断的自我诊断的重要性正在增加，并且随着对结构和传感器融合措施的需求的增加，将传感器插入结构的研究正在扩大。如果将传感器和结构集成到一般制造方法中，则很难避免由过程热能造成的传感器损害。但是，如果您采用激光层压技术，则可以最大程度地减少融合能量以防止传感器破裂。的融合能。本研究比较了通过使用各种激光输出和射线低扫描速度组合的过程条件来比较熔体池组合的熔体池的宽度和深度。目标材料用于SUS316L，激光输出为900〜1,800W，扫描速度定义在800〜1,200mm/min的范围内。根据DIV的分析，随着能量密度的增加，熔体池的宽度增加，并且相同的能量密度证实，熔体池宽度随着产量的增加而增加。中产生的熔体池深度也与能量密度成比例增加，并在1,800W和800 mm/min的过程条件下显示最大深度为700μm。传感器盖的最小厚度，以防止传感器通过在熔体池上方制造。
GHz爆发模式是否会为飞秒激光处理创造新的途径吗？
飞秒激光器由于其独特的特征（例如超短脉冲宽度和极高的峰值强度）开辟了新的材料加工途径，这为将各种材料加工到其他常规激光器提供了卓越的性能[1，2]。具体而言，飞秒激光处理的最重要特征之一是它能够通过抑制受热影响区域（HAZS）的形成，以高质量地进行超高精确的微型和纳米化。飞秒激光器广泛用于商业应用，包括电子，汽车和医疗组件的微加工和修剪；玻璃和蓝宝石基材的涂抹和划分智能手机和显示器；通过纳米结构的Si太阳能电池，硒化铜硅化铜，硒化铜和无机太阳能电池制造抗反射表面；微光发射二极管显示的缺陷修复和边缘切割；和医疗支架的制造。迫切要求提高吞吐量，以进一步加速其商业化和工业应用。可以想象，可以通过增加激光脉冲的强度和/或重复率很容易地增加吞吐量。然而，较高的强度遭受了血浆屏蔽的影响，降低了消融效率，并且由于沉积过量的能量而经常诱导热损害[3]。重复率高于数百kHz会诱导热量积累会产生较大的HAZ，这不适用于高精度或高质量的微分化[4]。他们称此过程消融冷却。这些结果具有ilday的小组最近证明，具有GHz重复率的飞秒激光脉冲的突发可以提高消融效率，如图1 [5]所示。他们声称，在先前的脉冲沉积的残留热量之前，将目标材料从加工区域扩散，以提高消融效率（一阶较高）。他们进一步声称，消融材料的物理去除将消融质量中包含的热能带走，导致高质量消融，没有热效应。