反应性直流磁控溅射是一种理想的技术,可用于生产具有可控微结构和特性的氧化物、氮化物和碳化物薄膜。随着分压控制技术的出现,可以以接近金属(如 TiN、ZrN)的溅射速率,或至少以比传统 RF 溅射(如 TiO 2 )更高的速率溅射导电反应产物(氧化物、氮化物和碳化物)。但在沉积非导电材料(如 Al 2 O 3 和 SiO 2 )方面仍然存在严重的限制,因为在溅射靶上形成非导电层会导致电弧。虽然这些薄膜可以通过 RF 磁控管或 RF 二极管技术溅射,但对于许多应用来说,这种速率是不经济的。电源设计和构造方面的最新电子发展已经产生了能够进行双极脉冲直流操作的商用设备。该设备可以以高速率反应溅射非导电材料。所涉及的频率(kHz 至 100 kHz)比 RF 频率(13.56 MHz)低得多,并且在集成到物理系统方面出现的问题较少。控制和电子干扰问题几乎被消除。我们报告了使用这种商用设备对脉冲直流反应溅射的初步评估。
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摘要:多个彼此靠近的微电网 (MG) 可以互连以构建集群,以提高可靠性和灵活性。本文对直流微电网集群控制策略的最新研究进行了全面的比较性回顾。研究了联网直流微电网的两个重要控制方面,即直流母线电压控制和微电网之间的功率流控制的不同方案。还讨论了直流微电网集群的架构配置。本文讨论了最近研究中各种控制策略的所有优点和局限性。此外,本文讨论了三种具有不同时间边界的共识协议,包括线性、有限和固定。根据所回顾研究的主要结果,提出了未来的研究建议。
抽象的经颅直接电流刺激(TDC)已成为中风后运动康复的潜在辅助疗法。虽然传统的康复方法仍然是中风后改善运动功能的主要方法,但许多患者经历了不完整的康复,因此需要探索其他干预措施。本评论文章探讨了TDC在中风后运动恢复中的作用,重点介绍其机制,功效和局限性。在此,强调了研究结果和个体患者反应的变异性以及在本地临床环境中优化TDC使用的推荐方法。关键字:经颅直流刺激,无创脑刺激引入中风后运动障碍是缺血性和出血性中风的普遍后果,影响了全球数百万的人。运动缺陷,包括无力,痉挛和协调受损,导致严重的残疾和生活质量降低。1旨在减轻这些缺陷的常规康复,主要涉及物理(PT)和职业治疗(OT)。,尽管康复延长,但许多中风幸存者的功能恢复有限,需要进行辅助疗法。经颅直流刺激(TDC)是一种新兴的非侵入性脑刺激技术,它表明了增强中风患者神经可塑性和运动恢复的潜力。2虽然早期研究表明有希望的结果,但诸如个人变异性和不一致的发现等挑战继续阻碍其广泛的应用。在马来西亚,采用TDC作为中风后运动恢复的辅助疗法以及对该技术的本地研究的可用性。据作者所知,目前仅在一些教学医院,私立医院和一个政府康复中心提供此服务。 但是,没有有关其在卫生医院中使用的信息。 迄今为止,只有一个案例系列和的技术报告据作者所知,目前仅在一些教学医院,私立医院和一个政府康复中心提供此服务。但是,没有有关其在卫生医院中使用的信息。迄今为止,只有一个案例系列和
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无论是单个设备安装还是完整的办公室建设,所有项目都经过管理,以确保所有方面(工程、材料和安装)都协调一致,以满足项目时间表。我们的现场项目管理团队将监督所有 Vertiv™ 人员以及分包商和辅助设备的安装,以确保工作质量并符合工程设计、客户特定标准、监管和行业标准。Vertiv 的项目经理团队致力于满足客户对从项目开始到工作完成的交钥匙解决方案的期望。总客户满意度始终是衡量成功的标准。这些服务在中央办公室、远程终端、移动交换中心、基站、头端、集线器、电缆登陆站和客户场所执行。
1。中间极限:除顶部和底部限制外,该电机还可以存储另外四个中间限制。设置中间限制:设置顶部和底部限制并退出程序模式后,将盲人移动到您想要的中间限制设置的位置。按下遥控器侧面的设置孔中的按钮,直到您获得摇摆不定,现在第二次按下遥控器侧面的设置孔中的按钮,您将获得摇摆。现在已经设置了一个中间限制。操作盲人时,如果您不想在中间限制下停止时:按下您希望盲人移入的方向的按钮,一旦盲人开始第二次移动,将行驶同一按钮,它将跳过限制并继续到最远的限制。