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World File Search System石英管
紫外线常见问题解答
Aquafine 的产品采用最先进的设计标准，例如 T 型钻头连接和轨道焊接，可确保使用寿命和纯度。所有装置均配备卫生入口/出口连接，卫生套圈端板取代了普通的螺栓和螺纹设计，消除了潜在的污染点。Aquafine 的紫外线系统采用单端 (SE) 设计的灯。单端选项提供更轻松、更快速的灯更换时间，断开次数较少。我们的 Colorguard® 灯采用颜色编码，易于识别，并且经过验证。甚至容纳灯的石英管（套管）也经过专门设计，效率高。它们传输灯产生的 95% 的紫外线能量。Aquafine 的 Lamp Lok™ 组件将紫外线灯牢固地置于石英套管内并锁定到位。这些系统的湿润表面为 316L 不锈钢，经过钝化和电抛光，以确保耐腐蚀性并最大限度地减少碳沉淀。9. Aquafine 还有哪些其他优势？
含咪唑的腐蚀性硫酸盐还原抑制剂-杀菌剂
采用JENWAY公司生产的UV/Vis 6850分光光度计对化合物的结构进行了定性研究。灵敏度高，二元分光光度法操作范围为190～1100nm，装置的光放电率为0.1nm。以汞和白炽灯为激发源。研究在室温下进行，以三氯乙烷为溶剂。将所得溶液和标准具倒入1cm矩形石英管中，并插入紫外分光光度计的适当窗口前，获取样品的光谱。在S3样品的紫外光谱中，在215nm处观察到咪唑环的两个吸收带中的一个，强度较小。低强度与连接咪唑的基团有关。因此，该吸收带属于核电子系统的π-π*跃迁。在 330 nm 处记录了氮未分割电子对的 n-π 跃迁的第二条吸收谱带，强度较高。氯与芳环的连接导致舟铬滑动，这在第二条吸收谱带上基本得到显示。C 6 H 4 Cl 基团在 200 和 235 nm 处，在 260、345 和 360 nm 波长处测定了属于菲基团的吸收谱带。在可见光区（535 nm）观察到了二苯基重氮基团的吸收谱带。影响滑动的因素之一是溶剂是多芳基化合物。
练习论文11（2024-25）
图描述了用于光电效应实验研究的布置的示意图。它由具有薄光敏板C和另一个金属板A的撤离玻璃或石英管组成。将透明的石英窗密封到玻璃管上，该玻璃管允许紫外线辐射通过它并照射光敏感的板C。电子由板C发射，并由电池创建的电场A（收集器）收集。电池可以维持板C和A之间的电势差，这可以改变。板C和A的极性可以被换向器逆转。然后：（a）不会发出电子，因为只有光子才能发出电子。（b）可以发出电子，但全部都有能量E 0。（c）可以用任何能量发射，最大E 0 –φ（φ是工作函数）。（d）电子可以用任何能量发射，最大E 0。因此，板A可以保持在发射机的预期正或负潜力处。 photon strikes is approximately: (a) 10 –4 s (b) 10 –10 s (c) 10 –16 s (d) 10 –1 s (iii) In photoelectric effect, the electrons are ejected from metals, if the incident light has a certain minimum: (a) amplitude (b) wavelength (c) frequency (d) angle of incidence (iv) Photoelectron emission rate is a direct function of radiation: (a) frequency （b）速度（c）强度（d）能量或（v）考虑一束电子（每个具有能量e 0）入射在疏散室内的金属表面上的电子。
晶圆退火工艺扩散炉的传热分析
半导体制造工艺中的扩散炉用于在硅片表面生长氧化物或将掺杂剂扩散到半导体晶片中。在此过程中，硅片在炉中被加热到通常在 973K 至 1523K 之间的温度。在本研究中，采用二维轴对称模型来模拟在 1123K 温度下运行的垂直炉。对工艺管中含有 175 个直径为 200mm 的硅片的基准情况的轮廓温度分布的模拟结果与实验数据非常吻合。从加热温度为 1123 K 的炉子中获得的实验数据被用作此数值评估的基准。还表明可以对堆叠晶片的本体区域施加均匀加热。在本研究中，探讨了加热器温度和工艺管中排列的晶片之间的间隙对工艺管中温度场的影响。从模拟中可以看出，值得强调的是，堆叠晶片本体区域的温度分布与加热器温度一致。此外，研究发现，在舟皿中对较少数量的晶圆（具有较大的晶圆间隙）进行退火工艺可能不会显著影响炉内的加热性能。关键词：立式炉；石英管；辐射；加热器；绝缘；峰值温度；温度分布版权所有 © 2020 PENERBIT AKADEMIA BARU - 保留所有权利