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基础临床社会医学统合讲义
09：00-09：50 Tadaki（国家传染病研究所）感染性病理学对Covid-19的贡献10:00-10：00-10：50 Yamazaki Akira（大阪大学）（大阪大学）细胞介导的免疫反应对SARS-COV2 11:00-11：00-11：00-11：00-11：50 ARASE NAO（OSAKA NAO）介绍了OSAKA NAO（OSAKA NAO），以下简13：00-13：50 Nishiura Hiroshi（京都大学）Covid -19的传染病流行病学194：00-14：50 Sato Yoshi（Tokyo）新颖的Coronavirus大学的演变15:00-15：00-15:50-15：50
血浆诱导的六角硼硝化硼的光活性缺陷
六角硼硝酸盐（HBN）在过去十年中一直是众多研究工作的主题。是在HBN中产生光学活性缺陷，因为它们易于整合，例如在范德华（Van der Waals）异质结构及其室温光子发射。在HBN中创建此类缺陷的许多方法仍在研究中。在这项工作中，我们介绍了使用具有不同等离子体物种的远程等离子体在HBN中创建单个缺陷发射器的方法，并从统计上报告了结果。我们使用了氩气，氮和氧等离子体，并报告了由不同气体物种及其光学特性产生的发射器的统计数据。特别是，我们检查了血浆过程前后的去角质片的发射，而无需退火步骤，以避免产生不受血浆暴露引起的发射器。我们的发现表明，纯物理氩等离子体治疗是通过血浆暴露在HBN中创建光学活性缺陷发射器的最有希望的途径。
湿度对大尺寸石墨烯片与水泥基复合材料之间界面 ...
揭示了G和C-S-H之间仅有范德华力，界面键合强度很弱，并且脱键性能很低。石墨烯的脱根能量随着界面水含量的增加而降低，表明水侵入会削弱G和C-S-H的结合效应，并减少石墨烯对C-S-H底物的难度。在纳米级湿度的影响下探索石墨烯对CSH的粘附行为对于理解基本的粘附机制，优化复合材料证明和促进相关学科的发展至关重要。
基于后量子密码学的同态加密演算法
Abel C. H. Chen Chunghwa Telecom Co.，Ltd。Chchen.scholar@gmail.com; OrcID 0000-0003-3628-3033Abel C. H. Chen Chunghwa Telecom Co.，Ltd。Chchen.scholar@gmail.com; OrcID 0000-0003-3628-3033
重振美国硼供应链
本演示文稿中的信息包括经修订的 1995 年私人证券诉讼改革法案所定义的“前瞻性陈述”。除历史事实陈述外，本演示文稿中有关我们的业务战略、计划、目标和宗旨的所有陈述均为前瞻性陈述。在本演示文稿中使用时，“相信”、“预计”、“期望”、“预期”、“估计”、“打算”、“预算”、“目标”、“宗旨”、“战略”、“计划”、“指导”、“展望”、“意图”、“可能”、“应该”、“可能”、“将”、“会”、“将会”、“将继续”、“可能导致”等词语和类似表达旨在识别前瞻性陈述，但并非所有前瞻性陈述都包含此类识别词。这些前瞻性陈述基于 5E 对未来事件的当前预期和假设，并基于有关未来事件结果和时间的当前可用信息。我们提醒您，这些前瞻性陈述受所有风险和不确定因素的影响，其中大多数难以预测，且许多超出我们的控制范围，这些风险和不确定因素与我们打算生产的关键材料的开采以及先进材料的生产和开发有关。这些风险包括但不限于：对我们继续经营的能力存在重大疑虑，并且需要在拟议发行后筹集大量额外资本；我们在硼酸盐和锂行业的经营历史有限，并且没有从我们资产的拟议开采业务中获得收入；我们需要大量额外融资才能继续经营和执行我们的业务计划，以及我们获取资本和金融市场的能力；我们是一家依赖于单一项目的勘探阶段公司，没有已知的 SK 1300 法规矿产储量，并且矿产资源估算存在固有的不确定性；我们缺乏矿产生产历史，以及实现我们的业务战略（包括我们的下游加工目标）相关的重大风险；我们迄今为止遭受的重大净经营亏损以及可预见的未来继续遭受亏损的计划；与 Fort Cady 项目开发有关的风险和不确定性，包括我们及时成功完成小型硼设施的能力；我们获得、维护和续签开发活动所需政府许可的能力，包括满足任何此类许可的所有强制性条件；某些削减开支措施的实施和预期收益，以及我们不时向美国证券交易委员会 (SEC) 提交的文件中规定的其他风险和不确定性。如果发生这些风险或不确定性中的一个或多个，或者基本假设被证明不正确，我们的实际结果和计划可能与前瞻性陈述中表达的结果和计划存在重大差异。对于本文所含的任何信息（包括预测、估计、目标和意见），我们不作任何明示或暗示的陈述或保证，也不应依赖这些信息，对于本文所含的任何错误、遗漏或失实陈述，我们不承担任何责任。请注意不要过分依赖任何前瞻性陈述，这些陈述仅代表本演示文稿发布之日的观点。除非适用法律另有要求，否则我们不承担更新任何前瞻性陈述的义务，也不打算更新任何前瞻性陈述，所有这些陈述均受本节陈述的明确限制，以反映本演示文稿发布之日后的事件或情况。
1 厚 空 基 公 示 第 28号 令 和 6 年 7 月 5日 ...
此外，未成年人、被监护人或接受协助的人，即使已经取得订立合同所必需的同意，也属于同一条款内有特殊事由的情况。 （2）不属于预算会计令第71条规定情形的人。 （三）未受过国防部的停职或者其他措施。 （4）经营状况或信用状况未显著恶化，且已签订正当合同的人
1 厚 空 基 公 示 第 27号 令 和 6 年 5 月 27日 ...
此外，未成年人、被监护人或接受协助的人，即使已经取得订立合同所必需的同意，也属于同一条款内有特殊事由的情况。 （2）不属于预算会计令第71条规定情形的人。 （三）未受过国防部的停职或者其他措施。 （4）经营状况或信用状况未显著恶化，且已签订正当合同的人
镍基超导体中电荷序的实验研究进展 - 物理学报
图1。ndnio 2中的电荷顺序[24]：（a）从钙钛矿Ndnio 3（灰色）到Infinite-Layer ndnio 2（红色）的还原途径的示意图，具有各种中间状态（蓝色）； （b） - （d）样品J的茎结果，可以在面板（d）中区分根尖氧空位，从而导致Q//≈（1/3，0）在傅立叶变换图像（b）中的超晶格峰； （e）在Q //≈（1/3，0）围绕Ni L 3边缘处的弹性RXS测量，实体和虚线分别是具有σ和π偏振入射X射线的数据； （f）在ND M 5边的RXS测量； （g），（h）带有样品C和D的固定波形的RXS信号的能量依赖性，阴影区域表示标称电荷顺序贡献。黑色和红色箭头突出显示了Ni 3D-RE 5D杂交峰和Ni L 3主共振，样品C的中间状态比样品D较大，从而导致超晶格峰更强。
国防生产和技术基础战略
1.防卫生产技术基础战略的背景 （1）防卫生产技术基础战略的背景和定位 日本的防卫生产技术基础在二战结束后丧失殆尽，在防卫生产技术基础确立后，经历了一段依赖国防力量的时期。日本虽然没有从美国获得物资和贷款，但逐渐开始致力于国防装备的国产化，并于1970年制定了装备生产和发展基本方针（即所谓的“国产化方针”）。上述举措中，政府和私营部门通过许可和研发等方式，致力于国内主要国防装备的生产，并努力加强国防生产和技术基础。因此，该国目前有能力维持必要的基础。是。另一方面，自 20 世纪 90 年代冷战结束以来的 25 年里，由于国防装备的先进性和复杂性，以及军事实力的加强，国家面临着严重的财政困难，单位成本和维护维修费用不断上升。海外企业的竞争力。我们周围的环境已经发生了巨大的变化。 2013年12月，日本制定了第一份国家安全战略，其中指出“为了在有限的资源下，在中长期内稳步发展、维持和运作防卫能力，我们将”。内阁还表示，政府日本将努力有效、高效地获取国防物资，同时维持和加强日本的国防生产和技术基础，包括提高其国际竞争力。2015 财年及以后的防卫计划指南（以下简称“指南”）指出“为了迅速维持和加强日本的国防生产和技术基础，我们将制定日本整个国防生产和技术基础的未来愿景。”政府将制定一项展示其未来愿景的战略。基于上述，本战略取代了“国内生产政策”，指明了今后维持和加强国防生产和技术基础的新方向，旨在加强支撑国防力量和积极和平主义的基础。这将有利于作为实施这一倡议的新指南。国防生产技术基地是国防装备研发、生产、运行、维护、维修的重要支撑力量，是保障国防能力不可或缺的重要环节，其存在对外部威胁具有潜在的威慑力和重大意义，有助于维护并提高谈判能力。此外，该基金会支持的国防装备也将通过国防装备和技术合作，为全球和地区的和平与稳定做出贡献。此外，国防技术预计将通过衍生产品对整个行业产生连锁反应，并有可能推动日本的工业和技术实力。因此，在实现这一战略中，维持和加强国防生产和技术基础，是确保日本国家安全唯一责任的防卫政策，同时也是生产国防装备的民间企业的经济政策考虑到这其中还包含对活动产生连锁反应的产业政策因素，因此不仅需要国防部，还需要相关省厅共同应对这一问题。
表面重组和六角形硼硼的游离激子的平面外扩散率
1 Laboratory of Study of Microstructures, Onera-CNRS, University Paris-Saclay, BP 72, 92322 CHECTILLON CEDEX, France 2 University Paris-Saclay, UVSQ, CNRS, GEMAC, 78000, Versailles, France 3 Tim Taylor Department of Chemical Engineering, Kansas State University Manhattan, KS 66506, USA 4 Laboratory of Multimate and Interfaces, UMR CNRS 5615, Univ Lyon University Claude Bernard Lyon 1, F-69622 Villeurbanne, France 5 Laboratory Mateis, UMR CNRS 5510, Univ Lyon, INSA Lyon, F-69621 Villeurbanne, France 6 Research Center for Materials Nanoarchitectonics, National Institute for Materials Science, 1-1 Namiki, Tsukuba 305-0044，日本7电子和光学材料研究中心，国家材料科学研究所，1-1 Namiki，Tsukuba，Tsukuba 305-0044，日本（日期：