1。ST Microelectronics completes acquisition of Norstel AB, a SiC wafer manufacturer, ST Microelectronics, 2019/12/2: https://www.st.com/content/st_com/ja/about/ media-center/press-item.html/c2930.html 2.ROHM集团Sicrystal和St Microelectronics同意提供碳化硅(SIC)Wafers多年来,ST Microelectronics,2020/1/15:https://newsroom.st.com/ja/ja/ja/media-ia-center/media-center/press-center/press-item/press-item.html/c2936.html,3。3.cree |。ST Microelectronics在意大利建立了新的集成SIC WAFER工厂,ST Microelectronics,2022/10/5:https://newsroom.st.com/ja/ja/media-center/media-center/press-item.htm.html/ c3124.html 5。Stmicro在意大利建立新的SIC WAFER工厂,在欧洲首次,Nikkei Crosstech,2022/10/18:https://xtps://xtech.nikkei.com/atcl/news/news/news/news/news/13938/13938/ 6.Infineon和Cree同意长期供应Sic Wafers,Infineon,2018/3/16:https://www.infineon.com/cmms/cmms/jp/jp/jp/jp/about-infineon/press/press/press/press/press/press/press/press-releases/2018/2018/Wolfspeed builds a new large-scale SiC factory in Germany, production begins in 2017, Nikkei Crosstech, 2023/2/28: https://xtech.nikkei.com/atcl/nxt/news/18/14642/ 8.Infineon收购了硅碳化物专家Siltechtra,Infineon,2018/12/7:https://www.infineon.com/cms/cms/cms/jp/jp/about-infineon/press/press/press/press/press-releases/2018/2018/2018/Infineon通过GT Advanced Technologies,Infineon,2020/11/9:https://wwwww.infineon.com/cms/cms/cms/jp/jp/about-infineon/ press/press/press/press/press/2020/infxx20202011-2011-2011-2011-014.html 10。有关电力半导体的SIC外延晶片:与Infineon Technologies签署的销售和联合开发协议,Showa Denko,2021年5月6日:https://wwwwww.resonac.com/jp/
使用Optifiber®,即使在桩纤维层的深度中除去固体,甚至可以有效地分离微芯片。具有合适的沉淀和絮凝性,总磷浓度≤0.20mg/l(Optifiber PES-14)或≤0.05-05-0.10mg/l(Optifiber UF-10)是通过光纤维桩培养基实现的。optifiber PES -14代表Advan CED磷去除的标准,主要用于保持总磷的浓度<< 0.2 mg/l,并且使用磷酸磷≤0.05-05-05-07mg/l。Optifiber UF -10用于确保总磷的浓度<< 0.1 mg/l或颗粒磷≤0.010-0.010-0.015mg/l。如果在PCMF的生命周期中的发射阈值发生变化,则可以轻松替换过滤器介质以符合新限制而无需更改滤波器结构。用于去除晚期的磷,用于Mecana PCMF的剖面吸力唇(Opticomb®)来增加固体载荷能力并减少过滤的能量需求。在过滤器裂解过程中形状的桩纤维层的分析增加了有效的过滤表面。
本文由UNF Digital Commons的学生奖学金免费提供给您。已被授权的数字公共授权管理员接受了潘迪恩(Pandion)的纳入潘迪恩(Pandion):《鱼鹰研究与思想杂志》。有关更多信息,请联系数字项目。©保留所有权利
©2024 Mol Group。在用户有权披露和分发此文档的范围内,用户只有在未经改善和完成的情况下(包括其所有标头,页脚,下降者,免责声明和其他信息),该版权文档可以转发,分发和/或影印本。您不得将此文档复制到网站。mol组不能保证典型(或其他)值。可以对代表性样本而不是实际产品进行分析。本文档中的信息仅与任何其他产品或材料合并时,仅与命名产品或材料有关。我们将信息基于被认为是可靠的数据的数据,但我们没有代表,保证或以其他方式表示明确或暗示,其适合性,适合特定目的,适用性,准确性,准确性,可靠性或完整性或所描述的产品,材料或流程。用户对所有使用材料或产品的使用以及其感兴趣领土上的任何过程都负责。,我们对直接或间接遭受或与使用或依赖本文档中任何信息有关的任何损失,损害或伤害的责任明确承担责任。没有任何产品或过程的认可,我们明确否认任何相反的含义。为方便起见,使用术语,“我们”,“我们的”,“摩尔”或“摩尔组”,可能包括任何一个或多个MOL组或直接或间接控制的任何一个分支机构。或Slovnaft,A.S。除非另有说明。mol组,mol组徽标和此处使用的所有其他产品名称都是Mol Plc的商标。
在层状材料中,例如 MoS 2 等过渡金属二硫属化物 (TMDC),[ 24–27 ] 或其他可剥离材料,如 GaSe,[ 28 ] 激子在室温下主导其光学特性,这证明了它们具有很强的结合能。在磷同素异形体(如 BP)中观察到了激子物种,具有近红外发射。[ 29,30 ] 相反,VP 作为一种替代品出现,具有可见光范围的光致发光 (PL) 发射和更高的热稳定性,[ 17,21 ] 但对其激子效应的研究仍处于起步阶段。在本研究中,我们使用原子力显微镜 (AFM)、拉曼和 PL 光谱在一系列温度和波长范围内研究了 SiO 2 /Si 衬底上剥离的 VP 的光降解、热效应和激子发射。我们的研究结果表明,VP 的降解速度受光的波长和曝光时间的强烈影响。发现在 VP 的带隙之上的光激发会由于与活性氧 (ROS) 的相互作用而导致更快的降解。PL 光谱显示激子数量逐渐下降,表明激子的寿命缩短以及激子的形成和稳定性发生变化,从而影响 VP 的量子效率。功率依赖性 μ -PL 测量表明中性激子和三子的强度线性增加,而它们的峰值能量之间的能量差随着功率的增加而减小,这表明激子能隙发生了变化。温度依赖性 PL 显示出可见的 X 0 和 T 峰,在高温下 X 0 发射的光谱权重更高,这意味着 VP 晶体中 T 发射的热稳定性降低。采用温度依赖性拉曼光谱法,在不同温度下确定了九种拉曼模式的峰位,最高可达