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正畸治疗指导的比较研究
1 博士，博士学院 George Emil Palade 医药、科学与技术大学特尔古-穆列什牙科学院 2 Hack 诊所私人执业医生，罗马尼亚特尔古-穆列什 3 Iuliu Hatieganu 医药、科学与技术大学克卢日-纳波卡牙科学院牙髓病学系副教授 4 D. Cantemir 大学特尔古穆列什正畸学系副教授 5 Hack 诊所私人执业医生，罗马尼亚特尔古穆列什 6 Hack 诊所私人执业医生，罗马尼亚特尔古穆列什 7 Hack 诊所私人执业医生，罗马尼亚特尔古穆列什 8 Hack 诊所私人执业医生，罗马尼亚特尔古穆列什 9 乔治埃米尔帕拉德医药、科学与技术大学牙科学院正畸学系教授 摘要 在指导正畸治疗方面，我们的研究旨在评估人工智能 (AI) 软件与传统软件相比的有效性和优势。该软件经过了全面评估，以评估其性能、适应性和口头交流。根据研究结果，该软件表现出了卓越的信息处理和分析能力，从而可以更准确地规划正畸治疗。它的适应性值得注意，使其能够更精确地识别和解决个体患者的状况和问题。借助该软件，可以实时修改和改进正畸治疗，同时考虑到整个治疗过程中病例的进展和变化。通过“语音识别”人工智能算法进行口头交流对其长期使用和用户满意度有很大贡献。该软件创造了一个舒适宜人的环境，改善了用户体验并加强了他们与技术的关系。相比之下，经典软件的性能和适应性较低，无法通过软件界面进行口头交流。它基于固定的规则设置，无法个性化正畸治疗。另一方面，它使用标准化规划，这可能导致不令人满意的结果或进一步的调整。根据比较研究，基于人工智能的软件提高了正畸治疗的性能和适应性。此外，它实现了直接的口头交流，无需键盘和鼠标。它们可以通过收集数据和机器学习功能提供更精确的指导。然而，在正畸实践中实施和使用该软件的成本和安全性至关重要。关键词：人工智能、性能、适应性、界面、OpenCV Haar Cascades、正畸学介绍
即时发表经办代理: David Moreno (大卫穆锐农) Open Sky ...
业界精英调查其它要点（ 2024 年 7 月进行） - 74% 的受访者认为，曲线形状的 逆向 光刻技术（ curvilinear ILT ）对非 EUV 的 193i 前沿节点有 用 —— 其中 29% 的人强烈同意这一说法，而去年这一比例为 24% 。 - 55% 的受访者表示，前沿节点的一些关键层已经在使用 逆向 光刻技术（ ILT ），这一比例较去 年的 46% 和两年前的 35% 有所上升。 - 光罩制造中的软件基础设施仍然是生产曲线形状光罩的最大挑战。 - 对深度学习应用的预测有所延迟，今年有 54% 的受访者预测深度学习将在 2025 年之前成为 光罩制造过程中任何环节的竞争优势，而去年这一预测为 2024 年。 “ 我们期待在 SPIE 光罩技术会议期间度过激动人心的一周，届时 eBeam Initiative 将举办第 15 届年度光罩会议，展示半导体生态系统对这一合作论坛的持续支持， ”eBeam Initiative 的 的主办 管理公司 D2S 的首席执行官 藤村 (Aki Fujimura) 表示。 “ 现在是加入光罩行业的绝佳时机，近年 来该行业取得了强劲增长 —— 这证明了光罩社区内杰出人才的贡献，也彰显了该行业在推动半 导体创新方面的重要性。今年 eBeam Initiative 业界精英 调查的绝大多数参与者 —— 他们代表了 行业内顶尖的商业和技术专家 —— 都认为这一增长趋势将在 2024 年继续，这无疑是个好消息。 ” About The eBeam Initiative 关于 eBeam Initiative （电子束倡议团） eBeam Initiative 是一个致力于推广和倡导电子束技术在半导体制造全新应用的团体；为有关 电 子束技术的教育和促进活动 提供相应的论坛。 eBeam Initiative 的目标是增加电子束技术应用在 半导体制造各领域中的投资；降低电子束技术应用的障碍，能够使更多集成电路设计完成，并 且更快投进市场成为可能。会员公司 , 涵盖整个半导体生态系统，包括 : aBeam Technologies; Advantest; Alchip Technologies; AMD; AMTC; Applied Materials; Artwork Conversion; ASML; Averroes.ai; Cadence Design Systems; Canon; CEA-Leti; D 2 S; Dai Nippon Printing; EQUIcon Software GmbH Jena; ESOL; EUV Tech; Fractilia; Fraunhofer IPMS; FUJIFILM Corporation; Fujitsu Semiconductor Limited; GenISys GmbH; GlobalFoundries (GF); Grenon Consulting; Hitachi High-Tech Corporation; HJL Lithography; HOLON CO., LTD; HOYA Corporation; IBM; imec; IMS CHIPS; IMS Nanofabrication AG; JEOL; KIOXIA; KLA; Micron Technology; Multibeam Corporation; NCS; NuFlare Technology; Petersen Advanced Lithography; Photronics; QY Mask; Samsung Electronics; Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation (SMIC); Siemens EDA; STMicroelectronics; Synopsys; TASMIT; Tokyo Electron Ltd. (TEL); TOOL Corporation; Toppan Photomask Corporation; UBC Microelectronics; Vistec Electron Beam GmbH and ZEISS. eBeam Initiative 面向和欢迎所有电子工业的公司和协会加盟。细节请查看 www.ebeam.org .
薄列列聚合物网络的山脊能量
抽象将平滑等距沉浸式列表聚合物网络的薄板的弹性自由能最小化是主流理论所声称的策略。在本文中，我们拓宽了可允许的自发变形类别：我们考虑脊层浸入式浸入，这可能会导致浸入浸入的表面尖锐的山脊。我们提出了一个模型，以计算沿此类山脊分布的额外能量。这种能量来自弯曲；在什么情况下，它显示出与薄板的厚度四相缩放，落在拉伸和弯曲能量之间。，我们通过研究磁盘的自发变形，将径向刺猬的自发变形置于测试中。我们预测了外部试剂（例如热量和照明）在材料中诱导的材料诱导的顺序程度而发展的褶皱数量。
DNA粘合剂终端形成技术，可提高序列自由度的程度
已经开发了三种类型的粘附终端形成技术（发明1，2，3）可以改善序列设计的自由度和DNA连接反应的效率，这对于创建遗传修饰的矢量等是必需的。由于使用了化学技术，只有一端才能成为粘附端或可以与线性DNA链接到线性DNA。
在-HALO列下方
通常，样品可能包含来自样品矩阵的化合物，可以通过固定相保留。盐，脂质，增塑剂和聚合物是在分析过程中可能与固定相接触的一些可能物质。这些物质可能会对色谱柱，检测器产生有害影响，并在分析过程中引起瞬时峰。如果这些物质不被流动阶段洗脱，它们可以积聚在列上。随着时间的流逝，分析物可以与这些杂质相互作用并影响分离机制，从而导致保留时间移动和峰值尾巴。此外，这些积累的杂质会造成阻塞，从而导致柱面压力升高，损坏泵，并可能导致柱床中的空隙形成。强烈建议使用防护柱来避免此类问题。防护列是简短的列，包装包装与喷油器和分析列之间安装的分析列相似。在给定期间后，它们被丢弃，并安装了新鲜的防护柱，以最大化分析柱的寿命。
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