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即时发表经办代理: David Moreno (大卫穆锐农) Open Sky ...
业界精英调查其它要点（ 2024 年 7 月进行） - 74% 的受访者认为，曲线形状的 逆向 光刻技术（ curvilinear ILT ）对非 EUV 的 193i 前沿节点有 用 —— 其中 29% 的人强烈同意这一说法，而去年这一比例为 24% 。 - 55% 的受访者表示，前沿节点的一些关键层已经在使用 逆向 光刻技术（ ILT ），这一比例较去 年的 46% 和两年前的 35% 有所上升。 - 光罩制造中的软件基础设施仍然是生产曲线形状光罩的最大挑战。 - 对深度学习应用的预测有所延迟，今年有 54% 的受访者预测深度学习将在 2025 年之前成为 光罩制造过程中任何环节的竞争优势，而去年这一预测为 2024 年。 “ 我们期待在 SPIE 光罩技术会议期间度过激动人心的一周，届时 eBeam Initiative 将举办第 15 届年度光罩会议，展示半导体生态系统对这一合作论坛的持续支持， ”eBeam Initiative 的 的主办 管理公司 D2S 的首席执行官 藤村 (Aki Fujimura) 表示。 “ 现在是加入光罩行业的绝佳时机，近年 来该行业取得了强劲增长 —— 这证明了光罩社区内杰出人才的贡献，也彰显了该行业在推动半 导体创新方面的重要性。今年 eBeam Initiative 业界精英 调查的绝大多数参与者 —— 他们代表了 行业内顶尖的商业和技术专家 —— 都认为这一增长趋势将在 2024 年继续，这无疑是个好消息。 ” About The eBeam Initiative 关于 eBeam Initiative （电子束倡议团） eBeam Initiative 是一个致力于推广和倡导电子束技术在半导体制造全新应用的团体；为有关 电 子束技术的教育和促进活动 提供相应的论坛。 eBeam Initiative 的目标是增加电子束技术应用在 半导体制造各领域中的投资；降低电子束技术应用的障碍，能够使更多集成电路设计完成，并 且更快投进市场成为可能。会员公司 , 涵盖整个半导体生态系统，包括 : aBeam Technologies; Advantest; Alchip Technologies; AMD; AMTC; Applied Materials; Artwork Conversion; ASML; Averroes.ai; Cadence Design Systems; Canon; CEA-Leti; D 2 S; Dai Nippon Printing; EQUIcon Software GmbH Jena; ESOL; EUV Tech; Fractilia; Fraunhofer IPMS; FUJIFILM Corporation; Fujitsu Semiconductor Limited; GenISys GmbH; GlobalFoundries (GF); Grenon Consulting; Hitachi High-Tech Corporation; HJL Lithography; HOLON CO., LTD; HOYA Corporation; IBM; imec; IMS CHIPS; IMS Nanofabrication AG; JEOL; KIOXIA; KLA; Micron Technology; Multibeam Corporation; NCS; NuFlare Technology; Petersen Advanced Lithography; Photronics; QY Mask; Samsung Electronics; Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation (SMIC); Siemens EDA; STMicroelectronics; Synopsys; TASMIT; Tokyo Electron Ltd. (TEL); TOOL Corporation; Toppan Photomask Corporation; UBC Microelectronics; Vistec Electron Beam GmbH and ZEISS. eBeam Initiative 面向和欢迎所有电子工业的公司和协会加盟。细节请查看 www.ebeam.org .
钦奈技术学院
1工程知识：应用数学，科学，工程基础知识和工程专业知识，以解决复杂的工程问题。2问题分析：识别，制定，审查研究文献，并分析复杂的工程问题，使用数学，自然科学和工程科学的第一原理得出实质性结论。3的设计/开发解决方案：针对满足指定需求的复杂工程问题和设计系统组件或过程的设计解决方案，并适当考虑公共卫生和安全以及文化，社会和环境方面的考虑。4进行复杂问题的调查：使用基于研究的知识和研究方法，包括实验设计，数据分析和解释以及信息的综合以提供有效的结论。5现代工具用法：创建，选择和应用适当的技术，资源和现代工程以及IT工具，包括对复杂工程活动的预测和建模，并了解局限性。6工程师和社会：应用上下文知识所告知的推理来评估社会，健康，安全，法律和文化问题，以及与专业工程实践有关的随之而来的责任。7环境与可持续性：了解专业工程解决方案在社会和环境环境中的影响，并证明了对可持续发展的知识和需求。8道德：应用道德原则，并承诺在工程实践的职业道德和责任和规范上。9个人和团队工作：作为个人，以及在多个团队的成员或领导者以及多学科环境中的成员或领导者。10沟通：与工程社区以及整个社会有效地进行了有效的沟通，例如能够理解和撰写有效的报告和设计文档，进行有效的演讲，并给出清晰的指示。11项目管理和金融：展示对工程和管理原则的知识和理解，并将其应用于团队的成员和领导者，以管理项目和多学科环境中的成员和领导者。12终身学习：认识到在技术变革的最广泛背景下进行独立和终身学习的准备和能力。
ramapuram，钦奈
EASWARI工程学院（自治）自1996年成立以来一直是质量教育的灯塔。提供15个大学和7个工程，技术和管理的研究生课程，该学院是NAAC认可的，NBA批准的。伊斯瓦里（Easwari）强烈关注学术卓越，整体发展和行业联系，提供顶级职位和全球职业机会。位于钦奈的拉马普拉姆，我们最先进的校园和充满活力的校友网络使Easwari成为塑造成功未来的理想选择。
安娜大学:: 钦奈
评估 – 指纹图像的计算机增强和建模 – 指纹增强 – 特征提取 – 指纹分类 – 指纹匹配。第三单元 人脸识别和手部几何形状 9 人脸识别简介，人脸识别神经网络 – 从对应图进行人脸识别 – 手部几何形状 – 扫描 – 特征提取 – 自适应分类器 – 基于视觉的特征提取和模式分类 – 特征提取 – 算法类型 – 生物特征融合。第四单元 多模态生物特征识别和性能 9 评估 多模态生物特征识别系统简介 – 集成策略 – 架构 – 融合水平 – 组合策略 – 训练和适应性 – 多模态生物特征识别系统示例 – 性能评估 – 生物特征识别的统计测量 – FAR – FRR – FTE – EER – 内存需求和分配。第五单元 生物特征认证 9 简介 – 生物特征认证方法 – 生物特征认证系统 – 指纹生物特征认证 – 人脸识别生物特征认证 – 期望 – 最大化理论 – 支持向量机。指纹生物特征认证 – 手掌几何形状生物特征认证 – 保护和信任生物特征交易 – 匹配位置 – 本地主机 – 认证服务器 – 卡上匹配 (MOC) – 多生物特征识别和双因素认证。参考文献： 1.Paul Reid，“网络安全生物特征识别”，Pearson Education，2004 年。Nalini K.Ratha，RundBolle，“自动指纹识别系统，Springer”，2003 年。
Professional-Development-Plan-MSSA.pdf - 奈伊学区
2024-2025 学年 - 2024-2025 年，MSSA 成员在 9 月专注于学习 OPI 计划和报告所需的工具，包括早期学习计划、联邦计划、认证和研究生计划。11 月，MSSA 成员接受了心理健康问题培训，包括 QPR 认证培训和课堂课程 Character Strong 的使用培训。2 月，MSSA 将专注于技术，包括教室、学校和学生的网络安全、人工智能及其在教育中的地位和未来。4 月，成员将专注于数学，培训将于 2025 年实施的 OPI 标准，特别是在小型学校和多级教室的课程规划中的使用。此外，成员学校参加 MAPS 培训，重点是使用和理解评估数据。MSSA 成员学校也有机会全年进行书籍研究，重点是通过参与策略提高他们的教学技能，保持他们的生产力并改进他们的规划。MSSA 全州规划团队每年都会审查培训和正在审查的课程。审查小组由 MSSA 董事会、县督学和成员教师组成。执行董事每年都会审查每个会议对每个成员的评估，以协助确定成功和未来规划。蒙大拿州小型学校联盟会议采用了形成性策略，让教师根据已开发的课堂课程评估学生成绩。MSSA 会议始终尝试提供适合成员学区独特人口统计数据的课堂材料、资源和课程。全年的每个会议都侧重于计划的 K-12 核心课程，并始终基于“最佳实践”研究和当前教学法。技术融入了所有专业发展。每个会议还包括一个涉及全民印度教育 - IEFA 的部分。